赵之雯

作品数:16被引量:72H指数:4
导出分析报告
供职机构:天津职业技术师范大学更多>>
发文主题:蓝宝石化学机械抛光蓝宝石衬底纳米硅溶胶微晶硅薄膜更多>>
发文领域:电子电信理学金属学及工艺一般工业技术更多>>
发文期刊:《微细加工技术》《功能材料》《新技术新工艺》《教育现代化(电子版)》更多>>
所获基金:国家中长期科技发展规划重大专项国家教育部博士点基金更多>>
-

检索结果分析

署名顺序

  • 全部
  • 第一作者
结果分析中...
条 记 录,以下是1-10
视图:
排序:
高级数字系统设计课程及教学改革探究
《西部素质教育》2017年第12期43-43,共1页赵之雯 王爽 李泉 
为了提高学生的实践操作能力,提升学习主动性,增强创新意识。文章对高级数字系统设计课程及教学进行了改革,提出了采用"教学做合一"教学模式,并从教学内容选择、教学方法、课程开发、课程设计项目开发几个方面探讨了如何进行课程设计。
关键词:高级数字系统设计 教学做合一 EDA 课程考核 
本科职教师资专业英语培养教学改革讨论
《教育现代化(电子版)》2017年第2期158-158,0,共1页赵之雯 王爽 
伴随着教育体系的改革,英语逐渐成为一种国际化语言,并且也是当代学生重要的科目之一,国家教育有关部门对英语专业也越来越重视。根据现状,英语语言运用越来越广泛。鉴于此,本科职教师资专业的教师应当进一步探讨有效的教学方式,...
关键词:本科职教师 英语培养 教学改革 
微晶硅薄膜微结构对稳定性的影响被引量:1
《光电子.激光》2011年第9期1364-1366,共3页赵之雯 刘玉岭 
国家中长期科技发展规划02科技重大专项资助项目(2009ZX02308);高等学校博士学科点专项科研基金资助项目(20050080007)
实验研究了不同晶化率的微晶硅(μc-Si)薄膜的光衰退现象,提出了制备高稳定性硅薄膜太阳电池材料选取方案。研究结果表明,μc-Si中的非晶硅(a-Si)组分是导致光衰退的主要原因,晶化率越高,材料越稳定;过渡区靠近μc-Si材料区域的μc-Si材...
关键词:微晶硅(μc-Si)薄膜 太阳能电池 稳定性 
高压高功率VHF-PECVD的微晶硅薄膜高速沉积被引量:2
《光电子.激光》2011年第5期722-724,共3页赵之雯 刘玉岭 
国家中长期科技发展规划02科技重大专项资助项目(2009ZX02308);高等学校博士学科点专项科研基金资助项目(20050080007)
采用高压高功率(hphP)甚高频等离子体强强化学气相沉积(VHF-PECVD)法对微晶硅(μc-Si:H)进行高速沉积,在最优沉积条件参数下对hphP和低压低功率(lplP)两组样品沉积速率、光电导、暗电导及光敏性等性能参数进行测试,得到了1.58 nm/s的较...
关键词:微晶硅(μc-Si:H)薄膜 高压高功率(hphP)VHF-PECVD 高速沉积 
微晶硅薄膜稳定性的研究
《河北工业大学学报》2011年第2期13-15,共3页赵之雯 刘玉岭 
国家中长期科技发展规划02科技重大专项(2009ZX02308);高等学校博士学科点专项科研基金资助(20050080007)
通过改变硅烷浓度对微晶硅薄膜材料进行沉积,研究了硅烷浓度与微晶硅晶化率的关系,拉曼光谱的拟合结果表示硅烷浓度越高微晶硅薄膜晶化率越低;研究了不同晶化率的微晶硅薄膜的光衰退现象,结果显示材料的晶化率越高,暗电导率越高,光敏性...
关键词:微晶硅 晶化率 薄膜 太阳能电池 稳定性 
应用高压高功率的微晶硅薄膜高速沉积
《光电子.激光》2011年第4期555-557,共3页赵之雯 刘玉岭 
国家中长期科技发展规划02科技重大专项资助项目(2009ZX02308);高等学校博士学科点专项科研基金资助项目(20050080007)
应用高压高功率(hphP)甚高频等离子增强化学气相沉积(VHF-PECVD)法对微晶硅(μc-Si:H)进行高速沉积,确定了hphP VHF-PECVD法沉积μc-Si:H的最优条件参数,在此参数下对hphP和低压低功率(lplP)两组样品沉积速率、光电导、暗电导及光敏性...
关键词:微晶硅(μc-Si:H)薄膜 高压高功率(hphP)甚高频等离子增强化学气相沉积(VHF-PECVD) 高速沉积 
碱性纳米SiO_2溶胶在化学机械抛光中的功能被引量:10
《功能材料》2010年第11期1903-1906,共4页刘效岩 刘玉岭 梁艳 赵之雯 胡轶 赵东磊 
国家中长期科技发展规划02科技重大专项资助项目(2009ZX02308)
纳米SiO2是一种性能优越的功能材料,化学机械抛光(CMP)过程的精确控制在很大程度上取决于对纳米SiO2功能的认识。但是目前对碱性纳米SiO2在CMP过程中的功能还没有完全弄清楚,探讨它在CMP中作用是提高CMP技术水平的前提。纳米SiO2溶胶的...
关键词:纳米SiO2溶胶 化学机械抛光 表面效应 PH值 化学反应模型 
氢化非晶硅薄膜H含量控制研究进展被引量:2
《微纳电子技术》2009年第11期667-672,共6页张伟 周建伟 刘玉岭 赵之雯 张进 杨玉楼 
氢化非晶硅薄膜(a-Si∶H)是目前重要的光敏材料,而薄膜中的H含量及组态对薄膜的稳定性有着极其重要的影响。介绍了H对薄膜稳定性影响的原理,提出了控制薄膜中的H含量的必要性。分析了H在H稀释硅烷法制备氢化非晶硅中的作用,论述了制备...
关键词:氢化非晶硅 光敏材料 H含量 红外光谱 反应机理 
蓝宝石衬底纳米级超光滑表面加工工艺研究被引量:4
《新技术新工艺》2008年第2期27-29,共3页赵之雯 
通过对蓝宝石衬底片的化学机械抛光工艺的研究,系统地分析了蓝宝石抛光工艺过程的性能参数,并经过大量试验,总结出影响因素,提出优化方案。得到的结果是:采用粒径为40nm、低分散度的SiO2溶胶磨料并配以适当参数进行抛光,能够有效地提高...
关键词:蓝宝石 化学机械抛光 纳米硅溶胶 
蓝宝石衬底的化学机械抛光工艺研究被引量:3
《微细加工技术》2007年第6期27-30,共4页赵之雯 
由于蓝宝石衬底片的精密加工工艺复杂,最优工艺参数尚未明确,是目前国内重点研究的难题。采用X62 81521型抛光机对蓝宝石衬底片的精密加工技术-化学机械抛光工艺进行了研究。通过对蓝宝石抛光工艺性能参数的系统分析,采用了粒径为40 nm...
关键词:蓝宝石 化学机械抛光 纳米硅溶胶 
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部