王伟

作品数：5被引量：5H指数：1
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供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
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磁浮平面电机在超精密工件台中的应用
《电子工业专用设备》2024年第3期68-71,共4页王伟 王文举 张继静 
为了提高半导体设备生产效率和整机性能,设备制造商想尽各种办法。介绍了超精密工件台三维模型,以及磁浮平面电机原理、组成、特性、技术指标与应用前景。同时阐述了超精密工件台采用磁浮平面电机,具有结构简单、高速度和高加速度、高...
关键词：半导体设备 超精密工件台 磁浮平面电机 双工件台 
基于六维机械手的硅片传输系统被引量：1
《电子工业专用设备》2011年第10期15-18,共4页李伟 陈威 王伟 柳滨 
详细介绍了如何选择满足CMP抛光机硅片传输系统要求的六维机械手,并基于所选择的六维机械手配合换枪盘、末端执行器构建了硅片干进湿出式传输系统,最终利用示教盒示教出一条无碰撞、姿态合理的运动路径。
关键词：IC CMP 硅片传输系统 六维机械手 
CMP抛光机抛光台温度控制的研究被引量：1
《电子工业专用设备》2011年第10期24-28,共5页王伟 王东辉 李伟 
阐述了CMP抛光机抛光台的温度控制方法。用有限元软件ANSYS模拟了抛光台和循环水的热交换过程,并且分析循环水的流量和温度对热交换效率的影响,得出循环水流量和温度跟热交换效率的关系。根据它们之间的关系,设计了一种CMP抛光机抛光台...
关键词：化学机械抛光 抛光台 温度控制 
基于SolidWorkS的基座有限元分析被引量：2
《电子工业专用设备》2011年第10期29-32,共4页陈威 王伟 李伟 柳滨 
国家02重大专项(2009ZX02011-005A)
通过Solidworks三维绘图软件建立基座的三维模型,在COSMOSWorks仿真环境下,对基座进行了受力分析,获得了工况下基座周围的应力应变图,为其进行结构优化设计提供了重要的依据。
关键词：基座 Solidwoks软件 有限元模型 优化设计 
300mm硅片化学机械抛光压力控制技术研究被引量：1
《电子工业专用设备》2011年第8期1-4,37,共5页王东辉 郭强生 柳滨 陈威 王伟 
国家重大科技专项(2009ZX02011-005A)
介绍了一种应用于硅片化学机械抛光(CMP)设备的压力控制技术,综合利用在线检测方法和离线检测方法,借助于Matlab数值分析软件分析抛光主轴压力设定值、气缸气压值、传感器示值以及检测仪器测试值之间的关系,并建立了主轴压力闭环控制系...
关键词：化学机械抛光 压力检测 数据处理 闭环控制 
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