国家自然科学基金(10674134)

作品数：9被引量：28H指数：4
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相关作者：李艳秋刘克周远刘景峰孙知渊更多>>
相关机构：中国科学院北京理工大学中国科学院研究生院更多>>
相关期刊：《微细加工技术》《光学学报》《红外与激光工程》《功能材料与器件学报》更多>>
相关主题：光学光刻相位展开干涉图光学测量泊松方程更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术机械工程一般工业技术更多>>
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移相干涉术中有分割遮拦干涉图的相位展开被引量：6
《光学学报》2009年第7期1812-1817,共6页刘克 李艳秋 
国家自然科学基金(10674134);教育部长江学者和创新研究团队计划(PCSIRT);北京理工大学基础研究基金(20070142008)资助课题
在质量图导引路径积分法的基础上,提出了一种适用于移相干涉术中有分割遮拦干涉图的相位展开方法,可以有效地解决不同有效区域之间相位展丌结果不连续的问题。首先,采用图像修复方法,根据有效区域中包裹相位的纹理特征对遮拦区域进行填...
关键词：光学测量 相位展开 路径积分法 质量图 遮拦 
带有分割遮拦环形干涉图的波面拟合被引量：7
《红外与激光工程》2008年第S2期778-784,共7页刘克 李艳秋 刘景峰 
国家自然基金(10674134);教育部长江学者和创新研究团队计划(PCSIRT);国家973计划项目(2003CB716204)
针对干涉测量实验中采集到的带有分割遮拦的环形干涉图,采用Zernike环多项式作为基底函数系对波面数据进行拟合,并对拟合结果进行了理论分析和实验验证。首先,利用相关矩阵,在理论上分析了Zernike环多项式在带有分割遮拦的单位环形区域...
关键词：光学测量 干涉图处理 波面拟合 Zernike环多项式 
含噪声包裹相位图的加权最小二乘相位展开算法研究被引量：11
《光学技术》2008年第5期643-646,650,共5页刘景峰 李艳秋 刘克 
长江学者特聘教授奖励计划(PCSIRT);国家自然科学基金资助项目(10674134)
二维相位展开广泛应用在精密光学测量、自适应光学、合成孔径雷达、图像处理等领域中。为处理含噪声包裹相位图,以预条件共轭斜量法求解权重最小二乘相位展开方程。引入非加权二维离散余弦变换求解泊松方程得到的最小二乘相位解作为共...
关键词：相位展开 预条件共轭斜量法 泊松方程 最小二乘 离散余弦变换 
45nm分辨率增强技术优化
《功能材料与器件学报》2008年第2期362-366,共5页高松波 李艳秋 
国家自然基金(10674134);教育部长江学者和创新研究团队计划(PCSIRT);国家973计划项目(2003CB716204)
针对45nm节点的需求,系统分析和研究了该节点不同周期图形的成像规律,并采用了不同的分辨率增强技术进行对比研究,从中分析出最适合45nm不同周期图形的光刻方案。采用了传统的离轴照明技术及新照明方式进行对比,并结合交替式相移掩模、...
关键词：分辨率增强技术 离轴照明 相移掩模 偏振 
高数值孔径光学光刻成像中的体效应被引量：3
《光学学报》2008年第6期1091-1095,共5页周远 李艳秋 
国家自然科学基金(10674134);教育部长江学者和创新研究团队计划(PCSIRT);国家973计划(2003CB716204)资助课题
为有效控制成像线宽,研究了高数值孔径光学光刻中的体效应并提出一种光刻胶膜层优化方法,利用成像中的摇摆效应平衡体效应对成像线宽的影响。首先根据系统数值孔径和照明相干因子确定成像光入射角分布,相对所有入射光求出光刻胶底面单...
关键词：光刻 体效应 膜层优化 高数值孔径 底层抗反膜 
高数值孔径光刻成像中双层底层抗反膜的优化被引量：3
《光学学报》2008年第3期472-477,共6页周远 李艳秋 
国家自然科学基金(10674134);教育部长江学者和创新研究团队计划(PCSIRT);国家973计划(2003CB716204)资助课题
在高数值孔径光学光刻中,成像光入射角分布在较大范围内,传统的单底层抗反膜不足以控制抗蚀剂-衬底界面反射率(衬底反射率)。考虑照明光源形状以及掩模的影响,提出了一种新的双层底层抗反膜优化方法,依据各级衍射光光强求衬底反射率的...
关键词：光学光刻 衬底反射率 底层抗反膜(BARC) 高数值孔径 
高数值孔径光刻成像中顶层抗反膜的优化被引量：4
《光学学报》2008年第2期337-343,共7页周远 李艳秋 
国家自然科学基金(10674134);教育部长江学者和创新研究团队计划(PCSIRT);国家973计划(2003CB716204)资助课题
高数值孔径光学光刻中,成像光分布在较大的入射角范围内,传统顶层抗反膜优化方法只对垂直光来减小光刻胶上表面反射率,难以保证光在整个入射角范围实现反射率最小。提出全入射角范围顶层抗反膜优化方法,即在入射角范围内实现光刻胶-顶...
关键词：光学光刻 摇摆线效应 高数值孔径 顶层抗反膜 
浸没式ArF曝光过程中液体热性能分析
《微细加工技术》2007年第3期13-17,共5页樊明哲 李艳秋 
国家自然科学基金资助项目(10674134);973计划资助项目(2003CB716204)
浸没式ArF曝光系统在最后一面物镜和晶圆之间引入液体作为成像介质。曝光过程中,液体存在热分布变化,并引起液体折射率的改变,导致光刻性能下降,因此,有必要确定液体热分布变化的情况。应用有限元方法,建立二维模型,分析液体在不同进口...
关键词：浸没式ARF光刻 液体 热分布 有限元 
分辨力增强技术的频谱分析被引量：4
《光学学报》2007年第10期1758-1764,共7页孙知渊 李艳秋 
国家自然科学基金(10674134);国家973计划(2003CB716204)资助课题
离轴照明和衰减型相移掩模作为重要的分辨力增强技术,不仅可以提高光刻的分辨力,同时还可以改善成像焦深,扩大光刻工艺窗口,实现65-32 nm分辨成像。从频谱的角度分析了离轴照明和衰减型相移掩模对成像系统交叉传递函数和像场空间频率分...
关键词：成像系统 光学光刻 分辨力增强技术 频谱分析 
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