国家自然科学基金(51175228)

作品数：28被引量：63H指数：5
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精细雾化抛光TC4钛合金抛光液优化研究
《润滑与密封》2022年第10期65-70,共6页杨思远 苑晓策 李庆忠 
国家自然科学基金项目(51175228)。
配制适用于TC4钛合金雾化施液抛光的特种抛光液,通过抛光实验获得纳米级的光滑钛合金表面。研究不同磨料、氧化剂和络合剂含量对钛合金材料去除率和表面粗糙度的影响,通过正交试验优化抛光液组成及配比。优化后的抛光液由质量分数20%的S...
关键词：化学机械抛光 精细雾化 TC4钛合金 抛光液 SiO_(2)磨料 
超声波精细雾化抛光石英玻璃的抛光液研制被引量：1
《润滑与密封》2021年第11期103-108,共6页苑晓策 李庆忠 杨思远 
国家自然科学基金项目(51175228).
为了配制适用于JGS1光学石英玻璃超声波精细雾化抛光的特种抛光液,以材料去除率和表面粗糙度为评价指标,设计正交试验探究抛光液中各组分含量对雾化抛光效果的影响,并对材料去除机制进行简要分析。结果表明:各因素对材料去除率的影响程...
关键词：化学机械抛光 精细雾化 石英玻璃 抛光液 正交试验 
采用超声雾化液化学机械抛光(CMP)氧化锆陶瓷的材料去除特性被引量：3
《材料科学与工程学报》2020年第5期835-839,750,共6页李庆忠 夏明光 施卫彬 
国家自然科学基金资助项目(51175228)。
采用浸泡腐蚀法研究了雾化抛光液与钇稳定氧化锆陶瓷(Y-TZP)之间的化学反应对其表面硬度的影响,通过雾化施液CMP抛光工艺分别在纯机械、纯化学及化学机械作用下进行雾化CMP试验,分析讨论了雾化CMP过程中原子级的材料去除特性;最后,研究...
关键词：Y-TZP 材料去除特性 雾化施液 软质层 化学机械交互作用 
雾化施液CMP中铌酸锂晶片抛光液优化及抛光效果被引量：1
《半导体技术》2020年第3期213-218,共6页马驰 李庆忠 苑晓策 
国家自然科学基金资助项目(51175228)。
采用超声波精细雾化施液对铌酸锂晶片进行了化学机械抛光(CMP)实验,研究抛光液复配参数(二氧化硅磨料含量、氧化剂含量、络合剂含量、表面活性剂含量和pH值)对抛光效果的影响,以材料去除速率和表面粗糙度为评价指标,根据正交试验结果得...
关键词：化学机械抛光(CMP) 铌酸锂 精细雾化 抛光液 正交试验 
单晶硅同质互抛实验研究被引量：1
《中国机械工程》2019年第23期2773-2777,共5页李庆忠 孙苏磊 李强强 
国家自然科学基金资助项目(51175228)
以材料的去除率和表面粗糙度为评价指标设计对比实验,验证了硬脆材料互抛抛光的可行性,得到了抛光盘转速对硬脆材料互抛的影响趋势和大小。实验结果表明:当抛光压力为48265 Pa(7 psi)、抛光盘转速为70 r/min时,自配抛光液互抛的材料去...
关键词：硅片 硬脆材料 互抛 化学机械抛光 对比实验 抛光效果 
雾化施液单晶硅互抛抛光速率实验研究
《硅酸盐通报》2019年第8期2369-2374,2383,共7页李庆忠 孙苏磊 李强强 
国家自然科学基金(51175228)
调节自配抛光液的H 2O 2含量、pH值、抛光盘转速和抛光压力,通过电化学实验,探究单晶硅互抛抛光过程中抛光工艺参数对腐蚀电位、腐蚀电流和抛光速率的影响规律,并解释其电化学机理。实验结果表明:雾化施液单晶硅互抛抛光速率随着pH值、H...
关键词：雾化互抛抛光 抛光参数 电化学 抛光速率 
雾化施液同质硬脆晶体互抛CMP工艺研究被引量：1
《人工晶体学报》2019年第2期248-252,共5页李庆忠 李强强 孙苏磊 
国家自然科学基金(51175228)
探究了雾化施液同质硬脆晶体互抛CMP工艺抛光单晶硅片的可行性,分析其材料去除机理。试验采用传统的化学机械抛光CMP和雾化施液同质硬脆晶体互抛CMP,使用三种含有不同成分的抛光液对硅片进行抛光,对抛光前后的硅片进行称重比较两种工艺...
关键词：雾化施液 硬脆晶体 表面粗糙度 相互促进 
磨料对硒化锌雾化施液化学机械抛光的影响被引量：2
《半导体光电》2018年第6期815-818,共4页李庆忠 施卫彬 夏明光 
国家自然科学基金项目(51175228)
采用雾化施液化学机械抛光(CMP)的方法,以材料去除速率和表面粗糙度为评价指标,选取最适合硒化锌抛光的磨料,通过单因素实验对比CeO_2、SiO_2和Al_2O_3三种磨料的抛光效果。结果显示:采用Al_2O_3抛光液可以获得最高的材料去除率,为615.1...
关键词：硒化锌 雾化施液 化学机械抛光 磨料 去除速率 表面粗糙度 
不同氧化剂对6H-SiC化学机械抛光的影响被引量：13
《机械工程学报》2018年第19期224-231,共8页倪自丰 陈国美 徐来军 白亚雯 李庆忠 赵永武 
国家自然科学基金(51305166,51175228);江苏省自然科学基金(BK20130143)资助项目
选用胶体SiO2纳米颗粒为磨粒,研究不同pH值条件下高锰酸钾和双氧水两种氧化剂对6H-SiC晶片化学机械抛光的影响,并使用原子力显微镜观察抛光后表面质量。采用Zeta电位分析仪分析溶液中胶体SiO2颗粒的Zeta电位,采用X射线光电子能谱分析Si...
关键词：碳化硅 化学机械抛光 二氧化硅颗粒 高锰酸钾 双氧水 
硒化锌晶体精细雾化抛光液及去除机理研究被引量：3
《表面技术》2018年第6期271-276,共6页李庆忠 施卫彬 夏明光 
国家自然科学基金项目(51175228)~~
目的配制适合硒化锌雾化施液化学机械抛光的最优抛光液。方法选取氧化铝磨粒、pH调节剂四甲基氢氧化铵、氧化剂过氧化氢、表面活性剂聚乙烯吡咯烷酮为主要活性成分,以材料去除速率和表面粗糙度为评价指标,通过正交试验对硒化锌晶体进行...
关键词：化学机械抛光 硒化锌 去除机理 精细雾化 正交试验 抛光液 
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