等离子体刻蚀

作品数：172被引量：335H指数：8
导出分析报告
相关领域：电子电信更多>>
相关作者：李俊峰顾长志刘明匡同春张大明更多>>
相关机构：中微半导体设备(上海)有限公司中国科学院中微半导体设备(上海)股份有限公司中芯国际集成电路制造(上海)有限公司更多>>
相关期刊：更多>>
相关基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划国家科技重大专项更多>>
-
在结果中检索

检索结果分析

结果分析中...
选择条件：
  • 期刊=电子科技文摘x
共 条 记 录，以下是1-6
全选清除导出
参考文献引证文献引用追踪
视图：
排序：
通用工艺与设备
《电子科技文摘》2005年第12期41-53,共13页
05192542002年电解工业报告=Report on the Electrolytic In-dustries for the Year 2002[刊,英]/V.Srinivasan,L.Lipp//Journal d The Electrochemical Society.—2003,150(12).—K15(E)0519255垂直腔面发射激光器的氧化工艺研究[刊,...
关键词：通用工艺 电子束光刻 掩模 等离子体蚀刻 等离子体刻蚀 LITHOGRAPHY 极端紫外 压铸机 注射成型 溶胶一凝胶 
电子工艺
《电子科技文摘》2003年第3期21-23,共3页
SPIE-Vol.4174 0305134SPIE 会议录,卷4174:微加工与微制造工艺技术=Proceedings of SPIE,Vol.4174:Micromachining andmicrofabrication process technology[会,英]/SPIE-TheInternational Society for Optical Engineering.—524P,(E...
关键词：电子工艺 微加工技术 绝缘体上硅 微制造 微机电系统 会议录 SPIE 器件可靠性 等离子体刻蚀 封装工艺 
制版、光刻、腐蚀与掩模工艺
《电子科技文摘》2002年第8期19-20,共2页
关键词：掩模 光刻技术 抗蚀剂 电子束光刻 会议录 数据准备 缺陷检测 掩膜 等离子体刻蚀 光刻胶 
制版、光刻、腐蚀与掩模工艺
《电子科技文摘》2002年第7期35-35,共1页
Y2002-63128 02128342001年第6届等离子体及处理感应损伤会议录=2001 6th international symposium on plasma-and process-induced damage[会,英]/American Vacuum Society &IEEE Electron Devices Society.—2001.—128P.(E)本会议录...
关键词：掩模 等离子体刻蚀 投影光刻机 会议录 Electron 光刻技术 SYMPOSIUM 准分子激光光刻 专用设备 千兆级 
激光器
《电子科技文摘》2002年第2期18-19,共2页
关键词：抽运 中红外 光子器件 平面波导 激光处理 等离子体刻蚀 量子电子学 面发射 会议录 技术研究报告 
制版、光刻、腐蚀与掩模工艺
《电子科技文摘》2001年第10期37-37,共1页
Y2001-62791-127 0116702设备集成模拟和双极环形磁场反应器中等离子体刻蚀的剖面图=Integrated simulation of equipment and to-pography for plasma etching in the DRM reactor[会,英]/Chung,W.-Y.& Oh,J.-J.//2000 IEEE Inter-nati...
关键词：专用设备 电子工业 光刻设备 等离子体刻蚀 光学光刻工艺 掩模 定量分析 邻近效应 反应器 剖面图 
全选清除导出
共1页<1>
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部