气相淀积

作品数:297被引量:495H指数:8
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MOCVD设备射频感应加热原理与故障分析被引量:1
《电子工业专用设备》2021年第5期16-21,共6页刘成群 程壹涛 刘宇宁 
介绍了MOCVD设备射频感应加热系统的工作原理及技术特点。结合射频感应加热系统的组成,详细叙述各主要模块的典型故障及维修技术,重点分析射频功率源电路故障及维修。针对射频系统阻抗失配现象,提出了阻抗匹配调整的实用方法。根据多年...
关键词:金属有机物化学气相淀积 射频感应加热 阻抗匹配 振荡器 
PECVD的原理与故障分析被引量:2
《电子工业专用设备》2015年第2期7-10,共4页曹健 
介绍了PECVD工艺的种类、工艺原理以及设备的基本结构;根据多年对设备的维护经验,分析了PECVD设备的常见原因,提出了处理措施;最后,分析总结了影响PECVD工艺质量的主要因素。
关键词:化学气相淀积 等离子增强型化学气相淀积 故障分析 工艺维护 
液态源可控蒸发输送系统被引量:1
《电子工业专用设备》2014年第8期28-30,58,共4页吴得轶 杨彬 
在太阳能电池、微电子等半导体工艺制程中,液态源以生产效率高、成膜特性好、气压小不易泄漏等优点,广泛应用于扩散、氧化、化学气相沉积等工艺。如:在太阳能电池PN结制程中,掺杂用的液态磷源、液态硼源,以及在湿氧氧化工艺中使用的蒸馏...
关键词:液态源输送 扩散炉 氧化炉 化学气相淀积 
LPVCD的原理与故障分析被引量:1
《电子工业专用设备》2014年第5期15-18,共4页张士伟 
文中介绍了CVD工艺的种类和特点。以LPVCD为例,介绍了其工艺的基本原理,以及设备的基本结构。根据多年的设备维护经验,分析了LPCVD设备的常见问题,提出了处理措施。最后,总结出了LPCVD设备的工艺维护方法。
关键词:化学气相淀积 低压化学气相沉积 故障分析 工艺维护 
Altatech推出新型CVD、ALD设备
《电子工业专用设备》2008年第10期65-65,共1页
半导体设备商Altatech Semiconductor日前推出化学气相淀积和原子层淀积设备AltaCVD,但未透露其设备售价。
关键词:半导体设备 SEMICONDUCTOR CVD ALD 化学气相淀积 原子层 
热壁低压化学汽相淀积的安全性探讨
《电子工业专用设备》1989年第4期51-54,共4页程开富 
对于热壁低压化学汽相淀积(LPCVD)技术,安全性是不可缺少的一个重要方面。本文就热壁LPCVD技术中常用气体的化学性质和物理方法进行说明。只要操作人员充分理解其气体在使用过程中的危险性,并采取适当措施,LPCVD技术才是安全的。
关键词:化学气相淀积 低压 热壁 安全性 
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