气相淀积

作品数：297被引量：494H指数：8
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离子注入诱导成核外延高质量AlN被引量：1
《物理学报》2024年第19期244-250,共7页余森 许晟瑞 †陶鸿昌 王海涛 安瑕 杨赫 许钪 张进成 郝跃 
国家重点研发计划(批准号:2022YFB3604400);国家自然科学基金(批准号:62074120,62134006)资助的课题。
超宽禁带AlN材料具有禁带宽度大、击穿电场高、热导率高、直接带隙等优势,被广泛应用于光电子器件和电力电子器件等领域.AlN材料的质量影响着AlN基器件的性能,为此研究人员提出了多种方法来提高异质外延AlN晶体的质量,但是这些方法工艺...
关键词：氮化铝 离子注入 金属有机化学气相淀积 发光二极管 
化学气相淀积(CVD)薄膜技术的新近发展及其运用
《中文科技期刊数据库（引文版）工程技术》2022年第4期306-309,共4页付学群 
化学气相沉积技术是现代较为先进的无机材料制备技术,在玻璃态无机薄膜材料生产以及新晶体研制等领域均有着广泛应用。为更好地对技术展开应用,文章将通过对化学气相沉积技术基本情况的介绍,对技术在薄膜材料制备中的应用展开探讨,并会...
关键词：CVD技术 薄膜 开管气流技术 封管气流技术 晶须 
MOCVD设备射频感应加热原理与故障分析被引量：1
《电子工业专用设备》2021年第5期16-21,共6页刘成群 程壹涛 刘宇宁 
介绍了MOCVD设备射频感应加热系统的工作原理及技术特点。结合射频感应加热系统的组成,详细叙述各主要模块的典型故障及维修技术,重点分析射频功率源电路故障及维修。针对射频系统阻抗失配现象,提出了阻抗匹配调整的实用方法。根据多年...
关键词：金属有机物化学气相淀积 射频感应加热 阻抗匹配 振荡器 
PECVD在挠性电路板防护中的应用研究
《印制电路信息》2021年第9期27-31,共5页曹建诚 胡宗敏 
随着挠性电路板应用领域的增多,使用环境和可靠性要求越来越高,尤其是在耐腐蚀性方面提出了更高的要求。本文通过PECVD的方式在挠性电路板金面沉积一层纳米聚合物薄膜形成防护膜,以此来提高金面的耐盐雾性能,提升其使用寿命。
关键词：挠性电路板 等离子增强型化学气相淀积 防护膜 耐盐雾性能 
低压化学气相淀积低应力氮化硅工艺研究被引量：4
《电子与封装》2021年第8期94-98,共5页王敬轩 商庆杰 杨志 
微机械加工(Micro-Electro Mechanical System,MEMS)工艺中常需要应用到低应力氮化硅作为结构层或钝化层材料,以降低圆片的翘曲。通过采用低压化学气相淀积工艺(Low Pressure Chemical-Vapor Deposition,LPCVD),优化工艺中反应气体流量...
关键词：微机械加工 低压化学气相淀积 低应力氮化硅 均匀性 
IGBT深槽刻蚀氮化硅硬掩膜制作工艺研究
《赣南师范大学学报》2019年第6期58-61,共4页袁寿财 韩建强 荣垂才 武华 李梦超 王兴权 
国家自然科学基金项目(51377025);江西省科技厅基金项目(20171BAB202037)。
硅基深槽刻蚀是槽栅IGBT器件的基本结构,也是确保器件性能的关键工艺,氮化硅硬掩蔽膜质量对于硅基深槽刻蚀起着重要的作用.本文采用低压化学气相淀积(LPCVD)工艺淀积氮化硅薄膜,具有均匀性好,而且呈现较大的张应力,可以补偿二氧化硅缓...
关键词：低压化学气相淀积 氮化硅 硅槽 刻蚀 
高温稳定25 Gbit/s 850 nm垂直腔面发射激光器被引量：9
《发光学报》2019年第5期630-634,共5页周广正 兰天 李颖 王智勇 
通过在N型分布布拉格反射镜(DBR)中采用高热导率AlAs材料,且增加AlAs层所占的厚度比例,在保持DBR反射率基本不变的情况下,大幅度增加了N型DBR的热导率,提高了器件高温工作性能。制作了氧化限制型顶发射VCSEL器件,不同温度条件下的直流...
关键词：分布布拉格反射镜 垂直腔面发射激光器 量子阱 金属有机物化学气相淀积 
铜箔上制备CoSb_3纳米颗粒薄膜在锂离子电池电极中的应用
《固体电子学研究与进展》2019年第2期150-154,共5页夏丽 刘宪云 方佳怡 
国家青年科学基金资助项目(11404039);国家自然科学基金资助项目(41875026)
锂离子电池性能研究和提高已成为化学电源领域热点,使用低压化学气相沉积(LPCVD)法在铜箔上制备CoSb_3纳米颗粒薄膜,该薄膜不添加任何粘合剂,直接用作锂离子电池电极。50次充放电测试数据表明:使用CoSb_3纳米颗粒薄膜的电极充放电性能良...
关键词：CoSb3纳米颗粒薄膜 锂离子电池 电荷存储容量 低压化学气相淀积 
2019年的钻石机会
《中国黄金珠宝》2019年第3期78-79,共2页吴璠 
2019年2月“钻石在线”消息称,荷兰钻石技术公司(DD)创造了世界上第一枚完全由实验室培育的钻石制成的戒指。这枚戒指中3.87克拉,颜色为E色;净度VVS2被命名为“D计划”,由一颗155克拉的化学气相淀积合成法(CVD)培育的毛坯钻石制成,为纪...
关键词：合成钻石 石机 化学气相淀积 CVD 实验室 克拉 戒指 培育 
沟槽栅IGBT非晶Si填槽工艺研究与优化
《半导体技术》2018年第7期534-539,共6页汤光洪 高周妙 罗燕飞 李志栓 周燕春 
采用低压化学气相淀积（LPCVD）非晶Si填槽工艺代替LPCVD多晶Si填槽工艺,对沟槽绝缘栅双极型晶体管（IGBT）器件的沟槽进行非晶Si回填,研究并优化了高深宽比非晶Si填槽工艺。分析了LPCVD非晶Si工艺参数如PH3体积流量和沉积时间等对LPCV...
关键词：绝缘栅双极型晶体管(IGBT) 低压化学气相淀积(LPCVD) 非晶Si 填槽工艺 无缝回填 高深宽比 
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