电子束蒸发

作品数:382被引量:891H指数:11
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O_2分压和退火对TiO_2/SiO_2纳米多层膜结构和光学性能的影响被引量:3
《光电子.激光》2012年第12期2355-2361,共7页张瑞奇 董磊 李德军 刘孟寅 
天津师范大学实验室改革研究基金(B201107)资助项目
利用Mass软件设计了TiO2/SiO2纳米多层光学增透膜膜系,并采用高真空电子束蒸发系统在不同O2分压条件下制备了TiO2/SiO2纳米多层膜,TiO2/SiO2薄膜多层膜体系在沉积条件下获得了很好的宽光谱光学透射性能,在可见光谱范围内透射率接近设计...
关键词:O2分压 TIO2 SiO2纳米多层光学增透膜 电子束蒸发 透射率 
IWO缓冲层对MOCVD-ZnO:B薄膜性能的影响研究
《光电子.激光》2012年第4期697-702,共6页闫聪博 陈新亮 陈雪莲 孙建 张德坤 魏长春 张晓丹 赵颖 耿新华 
国家“973”重点基础研究(2011CBA00705,2011CBA00706,2011CBA00707);国家高技术研究发展计划(2009AA050602);科技部国际合作项目(2009DFA62580);天津市应用基础及前沿技术研究计划(09JCYBJC06900);中央高校基本科研业务费专项资金(65010341)资助项目
金属有机化学气相沉积(MOCVD)技术生长的绒面ZnO透明导电(ZnO-TCO)薄膜应用于Si基薄膜太阳电池上能够形成"陷光结构",以提高薄膜太阳电池效率和稳定性。本文将电子束反应蒸发技术生长的掺W的In2O3(In2O3:W,(IWO)薄膜作为缓冲层,应用于MO...
关键词:MOCVD ZnO:B薄膜 透明导电氧化物(TCO) 薄膜太阳电池 电子束蒸发 掺W的In2O3(In2O3:W IWO)薄膜 绒度 
退火温度对ZnO掺杂ITO薄膜性能的影响被引量:4
《光电子.激光》2012年第3期512-517,共6页闫其昂 石培培 严启荣 牛巧利 章勇 
国家自然科学基金(10904042);教育部留学回国人员科研启动基金(20091001);广东省自然科学基金(8521063101000007)资助项目
利用电子束蒸镀方法,在K8玻璃衬底上沉积ZnO掺杂ITO(ZnO-ITO)与ITO薄膜。研究不同退火温度对ZnO-ITO薄膜的微观结构的影响;对比分析了在不同退火温度条件下,ZnO-ITO和无掺杂ITO薄膜的光电性能。结果发现,ZnO-ITO薄膜具有较大的晶粒尺寸...
关键词:ZnO掺杂ITO(ZnO-ITO)薄膜 电子束蒸发 退火温度 
低压高温退火对Ag掺杂ZnO薄膜性质的影响被引量:9
《光电子.激光》2011年第4期545-549,共5页彭福川 吕佩伟 林林 林丽梅 瞿燕 赖发春 
国家自然科学基金资助项目(11074041);福建省自然基金资助项目(2007J0317);福建省教育厅基金资助项目(JA08048;JB08065)
采用电子束蒸发在n-Si(100)衬底上沉积Ag掺ZnO(ZnO:Ag)薄膜,随后在200 Pa的O2气氛下分别在500、600、700和800℃退火4 h。用X射线衍射(XRD)仪、荧光光谱仪以及Van der Pauw方法测量ZnO:Ag薄膜的结构和光电学性质。结果表明,ZnO:Ag薄膜...
关键词:Ag掺ZnO(ZnO:Ag)薄膜 电子束蒸发 退火 光致发光(PL) 
氧分压对电子束蒸发TiO_2薄膜残余应力的影响被引量:6
《光电子.激光》2009年第5期642-644,共3页郝殿中 王庆 宋连科 
山东省教育厅资助项目(J05C04)
采用电子束蒸发法制备了单层TiO2薄膜,控制O2流量从10mL/min以步长10mL/min递增至50mL/min(标况下)。利用ZYGO干涉仪测量基片镀膜前后的面型变化;采用Stoney公式计算出残余应力,分析了不同O2压下残余应力的变化。在本实验条件下,TiO2薄...
关键词:TIO2薄膜 残余应力 O2分压 电子束蒸发 
基片温度对电子束蒸发的ZnS薄膜性能的影响被引量:10
《光电子.激光》2009年第3期355-358,共4页黄红梁 程树英 黄碧华 
教育部留学回国人员科研启动基金资助项目(LXKQ0801);福建省科技厅重点资助项目(2008I0019);福建省教育厅资助项目(JB08012)
采用电子束蒸发在不同基片温度下沉积ZnS薄膜,研究了基片温度对薄膜性能的影响。结果表明:不同基片温度下沉积的ZnS薄膜均呈多晶状态,为体心立方(闪锌矿)结构的β-ZnS,并具有明显的(111)面择优取向,导电类型为n型。随着成膜时基片温度...
关键词:ZNS薄膜 性能 电子束蒸发 基片温度 
YAGG:Tb,Gd荧光薄膜及其发光性能的研究被引量:3
《光电子.激光》2008年第5期636-639,643,共5页张晓松 董孝义 李岚 张艳芳 李江勇 董冬青 
国家“973”计划资助项目(2003CB314906);天津市自然科学基金资助项目(07JCYBJC06400)
用电子束蒸发方法在ITO基片上生长YAGG:Tb,Gd荧光薄膜,并经不同条件下退火处理。分别用X射线衍射、X射线光电子能谱、扫描电子显微镜、光致发光谱,表征YAGG:Tb,Gd荧光薄膜的结构、成分、形貌、发光性能。实验表明随着温度的升高,薄膜的...
关键词:YAGG:Tb GD 荧光薄膜 电子束蒸发 退火处理 
电子束蒸发非晶硅光学薄膜工艺研究被引量:8
《光电子.激光》2006年第8期905-908,共4页舒雄文 徐晨 田增霞 罗丹 沈光地 
国家"973"基金资助项目(G200068302);北京市科委基金资助项目(D0404003040221);北京市教委基金资助项目(KM200310005009)
研究了沉积时真空室真空度、基片温度和沉积速率对常用电子束蒸发非晶硅(a-Si)光学薄膜的折射率和消光系数的影响。结果表明,在300~1100nm的波长范围内,真空室真空度、基片温度和沉积速率越高,则所得a-Si薄膜折射率越高,消光系...
关键词:非晶硅(a—Si) 光谱椭偏仪 折射率 消光系数 半导体激光器 
ZnS:Zn,Pb薄膜的制备及其发光性能研究被引量:8
《光电子.激光》2005年第9期1040-1044,共5页张晓松 李岚 陶怡 徐征 邹开顺 
天津市自然科学基金资助项目(013615211);天津理工学院科技发展基金资助项目(Lg04032);天津市重点学科资助项目
用电子束蒸发的方法制备了ZnS:Zn,Pb荧光薄膜,分别经400℃、600℃退火处理。采用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)、光致发光(PL)谱等,表征了ZnS:Zn,Pb荧光薄膜的结构、成分、形貌和发光性能。实验表明,随着...
关键词:ZnS:Zn Pb薄膜 电子束蒸发 场发射显示器(FED) 退火处理 
Y_2O_3∶Eu薄膜的制备及其发光性能研究被引量:3
《光电子.激光》2004年第5期549-553,共5页张晓松 李岚 邹开顺 陶怡 
天津市自然科学基金资助项目(013615211);天津市教委资助项目(01 20114);天津市"材料物理与化学"重点学科资助项目
用电子束蒸发方法在ITO基片上生长Y2O3∶Eu荧光薄膜,并在不同条件下退火处理。分别用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(KPS)、扫描电子显微镜(SEM)和光致发光(PL)谱表征Y2O3∶Eu荧光薄膜的结构、成分、形貌和发光性能。实验表明:随着温...
关键词:Y2O3:Eu薄膜 电子束蒸发 场发射显示器 FED 退火处理 发光性能 
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