铝栅

作品数：25被引量：13H指数：2
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脂肪醇聚氧乙烯醚对铝栅CMP中铝和多晶硅去除速率选择比的影响
《润滑与密封》2025年第4期73-79,共7页曹钰伟 王胜利 罗翀 王辰伟 张国林 梁斌 杨云点 盛媛慧 
河北省自然科学基金项目(E2019202367)。
为了提高高K金属栅结构(HKMG)化学机械拋光(CMP)中铝和多晶硅去除速率选择比,研究酸性环境下(pH=5)非离子表面活性剂脂肪醇聚氧乙烯醚(AEO9)对铝和多晶硅去除速率选择比的影响,并探究其作用机制。研究发现,AEO9质量分数为0.01%时,铝和...
关键词：高K金属栅结构 化学机械拋光 脂肪醇聚氧乙烯醚 去除速率 多晶硅 
氧化剂对铝栅化学机械抛光的影响
《中文科技期刊数据库（全文版）工程技术》2021年第6期163-163,共1页张继红 
本文通过实验分析方法,对抛光液中氧化剂的浓度,在铝栅化学机械抛光效果中的影响进行研究,以为有关实践及研究提供参考。本文通过实验分析方法,对抛光液中氧化剂的浓度,在铝栅化学机械抛光效果中的影响进行研究,以为有关实践及研究提供...
关键词：氧化剂 铝栅 化学机械抛光 影响 
双面PERC单晶硅太阳电池工艺微探
《电子制作》2020年第3期64-65,48,共3页郑江伟 解民 
为了更好的满足当前市场对高功率组件的现实需求,设计双面PERC单晶硅太阳电池极为必要。基于此,本文选定了背面反射率、背面铝栅线(间距与宽度)这些因素,分析其对双面PERC单晶硅太阳电池电性能的影响情况,以此完成其最佳工艺的确定。结...
关键词：PERC技术 太阳能电池 电性能 背面铝栅线 
氧化剂对铝栅化学机械抛光的影响被引量：1
《电镀与精饰》2020年第1期18-21,共4页张金 刘玉岭 闫辰奇 
国家中长期科技发展规划02科技重大专项资助项目(2009ZX02308);唐山市科技计划项目(17110225a);唐山学院博士创新基金资助项目(tsxybc201805);唐山师范学院博士基金项目(2018A02);唐山市科技计划应用基础研究项目(18130231a)。
氧化剂作为抛光液的组成成分,在铝栅化学机械抛光(CMP)中起到直接影响去除速率和表面粗糙度的重要作用。本文研究了氧化剂浓度对去除速率、表面粗糙度、电化学特性的影响,采用原子力显微镜和CHI600E电化学工作站,分别测量了材料的表面...
关键词：CMP 去除速率 铝栅 表面粗糙度 氧化剂 
非离子表面活性剂对铝栅化学机械平坦化的影响被引量：2
《电镀与涂饰》2019年第17期919-921,共3页张金 刘玉岭 闫辰奇 
国家中长期科技发展规划02科技重大专项资助项目(2009ZX02308);唐山市科技计划项目(17110225a);唐山学院博士创新基金资助项目(tsxybc201805);唐山师范学院博士基金项目(2018A02);唐山市科技计划应用基础研究项目(18130231a)
采用由5%(体积分数,下同)硅溶胶磨料、4%H2O2、1%FA/O型螯合剂和0.0%~2.5%多元胺醇型非离子表面活性剂组成的抛光液对铝栅表面进行化学机械平坦化处理。工艺条件为:工作压力13.79 kPa,抛头转速55 r/min,抛盘转速65 r/min,抛光液流量150 ...
关键词：铝栅 化学机械平坦化 多元胺醇型非离子表面活性剂 去除速率 表面粗糙度 润湿性 
双面PERC单晶硅太阳电池工艺研究被引量：1
《太阳能》2019年第7期36-39,72,共5页周小荣 谢湘洲 刘文峰 周子游 蔡先武 
从背面反射率及铝栅线设计两方面对双面PERC单晶硅太阳电池工艺进行了优化,并分析了各因素对其性能的影响,最终得到最优工艺参数。测试结果显示,最优组的双面PERC太阳电池平均正面效率为21.74%,平均背面效率为16.22%,双面因子大于74%。
关键词：PERC 双面 太阳电池 铝栅线 局域铝背面场(LBSF) 
p型PERC双面太阳电池背面铝栅线的设计被引量：2
《微纳电子技术》2017年第12期808-812,共5页吴翔 陈璐 魏凯峰 
钝化发射极背面接触(PERC)双面太阳电池(PERC+)背面采用丝网印刷铝栅线的设计,代替常规PERC电池背面全铝背场层,达到背面发电的效果。对不同背面铝栅线宽度的PERC+电池和常规PERC电池的电性能及激光开窗截面图进行比较,发现了不同宽度...
关键词：钝化发射极背面接触(PERC)电池 双面太阳电池 背面金属化 铝栅线 空洞 局部背表面场(LBSF) 
新型碱性清洗液对铝栅CMP后硅溶胶的去除
《微纳电子技术》2017年第3期188-193,共6页申言 檀柏梅 李凤英 杨柳 李海清 孙鸣 
国家中长期科技发展规划02科技重大专项资助项目(2009ZX02308-003);国家自然科学基金资助项目(NSFC61504037);河北省自然科学基金资助项目(E2013202247;F2015202267);天津市自然科学基金资助项目(16JCYBJC16100)
针对铝栅化学机械抛光(CMP)后硅溶胶颗粒残留等问题,研制了新型FA/O碱性清洗液并进行CMP后清洗实验。清洗液主要成分是FA/OⅡ螯合剂和O-20非离子型活性剂,由金相显微镜和原子力显微镜检测结果得出:FA/OⅡ螯合剂可以有效去除硅溶胶颗粒,...
关键词：铝(Al)栅 碱性清洗液 硅溶胶 螯合剂 活性剂 非均匀腐蚀 
磨料粒径对铝栅CMP去除速率和粗糙度的影响被引量：1
《电镀与精饰》2017年第1期29-31,39,共4页张金 刘玉岭 闫辰奇 张文霞 
国家中长期科技发展规划02科技重大专项资助项目(2009ZX02308)
在铝栅化学机械平坦化(CMP)中磨料直接影响去除速率和表面粗糙度。采用不同粒径的磨料配置抛光液对铝栅进行CMP实验,对去除速率和表面形貌测试结果进行分析。结果表明,去除速率与参与抛光的磨料颗粒数目和单个颗粒去除速率有关,表面粗...
关键词：化学机械平坦化 去除速率 粒径 粗糙度 高k金属栅极 
工艺条件对铝栅化学机械平坦化效果的影响被引量：1
《电镀与涂饰》2016年第20期1061-1064,共4页张金 刘玉岭 闫辰奇 张文霞 牛新环 孙鸣 
国家中长期科技发展规划02科技重大专项资助项目(2009ZX02308);天津市自然科学基金(16JCYBJC16100)
采用由2.5%(体积分数,下同)硅溶胶磨料、1.5%H2O2、0.5%FA/O型螯合剂和1.0%表面活性剂组成的抛光液对铝栅表面进行化学机械平坦化处理。研究了抛光垫、抛光压力、流量、抛光头转速、抛光垫转速以及抛光后清洗对铝栅表面粗糙度的影响。采...
关键词：铝栅 化学机械平坦化 抛光 缺陷 表面粗糙度 
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