脉冲偏压

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相关领域:金属学及工艺一般工业技术更多>>
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脉冲偏压电弧离子镀C-N-Cr薄膜的成分、结构与性能
《金属学报》2009年第5期610-614,共5页李红凯 刘琪 林国强 董闯 
国家高技术研究发展计划项目2006AA03Z521和2007AA03Z221资助~~
用脉冲偏压电弧离子镀设备在保持偏压一致和工作气压恒定的条件下,控制不同氮(N)流量,在硬质合金基体上制备了不同成分的C-N-Cr薄膜.用SEM,XPS,GIXRD,激光Raman谱和纳米压入等方法分别研究了薄膜的表面形貌、成分、结构与性能.结果表明...
关键词:C-N-Cr薄膜 脉冲偏压 电弧离子镀 结构 性能 
氮含量对脉冲偏压电弧离子镀CN_x薄膜结构与性能的影响被引量:4
《金属学报》2008年第8期917-921,共5页李红凯 林国强 董闯 闻立时 
国家高技术研究发展计划资助项目2006AA032521~~
用脉冲偏压电弧离子镀设备在保持脉冲偏压一致和工作气压恒定的条件下,控制不同氮流量在硬质合金基体上制备了不同氮含量的CN_x薄膜,用SEM,GIXRD,XPS,激光Raman谱和纳米压入等方法分别研究了薄膜的表面形貌、成分、结构与性能.结果表明...
关键词:氮化碳薄膜 脉冲偏压 电弧离子镀 结构 力学性能 
脉冲偏压电弧离子镀室温沉积非晶TiO_2薄膜被引量:7
《金属学报》2007年第5期509-514,共6页张敏 林国强 董闯 闻立时 
国家自然科学基金资助项目50390060
采用脉冲偏压电弧离子镀技术在玻璃基片上室温制备了均匀透明的非晶TiO2薄膜,在0--900 V范围内改变脉冲偏压幅值,考察其对薄膜沉积速率、表面形貌和光学性能的影响.结果表明,随着脉冲偏压的升高,非晶薄膜沉积速率以-100 V为界先高后低...
关键词:非晶TiO2薄膜 脉冲负偏压 电弧离子镀 光学性能 
脉冲偏压电弧离子镀鞘层尺度演化的特性与分析被引量:2
《金属学报》2006年第8期861-864,共4页戚栋 王宁会 林国强 董闯 
国家高技术研究发展计划资助项目2002AA302507
基于一维平板鞘层模型,建立了脉冲偏压电弧离子镀(PBAIP)鞘层随时间演化的动力学模型,给出了其解析表达式,并结合PBAIP工艺中等离子体参数的测量结果,模拟分析了PBAIP鞘层的厚度和鞘层中的离子流密度随时间的演化规律及其受脉冲偏压幅...
关键词:脉冲偏压电弧离子镀(PBAIP) 鞘层 演化 数值模拟 
脉冲偏压对电弧离子镀Ti/TiN纳米多层薄膜显微硬度的影响被引量:17
《金属学报》2005年第10期1106-1110,共5页赵彦辉 林国强 李晓娜 董闯 闻立时 
国家高技术研究发展计划资助项目 2002AA302507
采用脉冲偏压电弧离子镀方法在高速钢基体上沉积Ti/TiN纳米多层薄膜,采用正交实验法设计脉冲偏压电参数,考察脉冲偏压对Ti/TiN纳米多层薄膜显微硬度的影响.结果表明,在所有偏压参数(脉冲偏压幅值、占空比和频率)和几何参数(调制周期和...
关键词:脉冲偏压 电弧离子镀 Ti/TiN纳米多层薄膜 显微硬度 
大颗粒在等离子体鞘层中的受力分析与计算被引量:19
《金属学报》2004年第10期1064-1068,共5页郭慧梅 林国强 盛明裕 王德真 董闯 闻立时 
国家高技术研究发展计划资助项目2002AA302507
用Edelberg和Aydil的等离子体鞘层模型,对电弧离子镀中大颗粒在脉冲偏压鞘层中的带电及受力情况进行了分析 和计算,为大颗粒由于带负电而受到电场力排斥从而被净化的实验现象和物理模型提供佐证.
关键词:大颗粒 电弧离子镀 脉冲偏压 等离子体鞘层 受力分析 
脉冲偏压电弧离子镀沉积温度的计算被引量:5
《金属学报》2004年第10期1069-1073,共5页白晓  林国强  董闯  闻立时  
国家高技术研究发展计划资助项目2002AA302507
针对脉冲偏压电弧离子镀技术,分析了影响基体沉积温度的各项因素及其影响程度.在直流偏压电弧离子镀沉积温度计算模型的基础上,在偏压输出波形为近方波的相对规范形状的条件下,将脉冲离子轰击输入能量功率等效成直流输入功率与占空比的...
关键词:电弧离子镀 脉冲偏压 沉积温度 计算 
偏压对电弧离子镀沉积类金刚石膜的影响被引量:4
《金属学报》2004年第5期537-540,共4页邹友生 汪伟 郑静地 孙超 黄荣芳 闻立时 
采用电弧离子镀方法,在Si(100)基底上沉积了类金刚石(DLC)膜,用激光Raman谱和X射线光电子能谱(XPS)对不同偏压下沉积的类金刚石膜的结构进行了分析。结果表明,Raman谱的D峰和G峰的强度之比,I_D/I_G随着脉冲负偏压的增加先减小后增大,sp^...
关键词:类金刚石膜 电弧离子镀 脉冲偏压 结构 力学性能 
电弧离子镀氧化铬涂层的组织结构及硬度被引量:14
《金属学报》2003年第9期979-983,共5页纪爱玲 汪伟 宋贵宏 汪爱英 孙超 闻立时 
采用电弧离子镀方法在不锈钢基体上沉积Cr2O3薄膜.研究了氧流量和脉冲偏压对薄膜相结构、沉积速率、表面形貌、薄膜硬度的影响.结果表明,氧流量和脉冲偏压对薄膜的相结构有较大的影响.在氧流量为130 cm3/s、脉冲偏压为-100V时,出现Cr2O3...
关键词:Cr2O3薄膜 电弧离子镀 组织结构 脉冲偏压 
脉冲偏压电弧离子低温沉积TiN硬质薄膜的力学性能被引量:35
《金属学报》2003年第5期516-520,共5页黄美东 孙超 林国强 董闯 闻立时 
利用直流和脉冲偏压电弧离子镀技术沉积TiN硬质薄膜,研究了不同偏压下基体的沉积温度、薄膜的表面形貌及力学性能。结果表明,与直流偏压相比,脉冲偏压可以明显降低基体的沉积温度,大大减少薄膜表面的大颗粒污染,改善表面形貌,而薄膜的...
关键词:电弧离子镀 低温沉积 脉冲偏压  TIN薄膜 
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