云南高校图书馆联盟文献共享服务平台- 溅射参数

溅射参数: 作品数：32被引量：57H指数：4; 导出分析报告; 相关领域：一般工业技术理学更多>>; 相关作者：谢泉段静芳许小红李佐宜武海顺更多>>; 相关机构：华中科技大学山西师范大学清华大学贵州大学更多>>; 相关期刊：《Optoelectronics Letters》《材料热处理学报》《功能材料》《四川师范大学学报（自然科学版）》更多>>; 相关基金：国家自然科学基金教育部高等学校骨干教师资助计划湖北省科技攻关计划教育部留学回国人员科研启动基金更多>>

磁控溅射技术制备氮化钛薄膜的研究进展被引量：2: 《热加工工艺》2023年第8期6-11,共6页高正源杨栋孙程锦卢再亮孙鹏飞; 重庆市科技局项目(cstc2019jcyj-msxmX0761);重庆市教委科学技术研究项目(KJQN201800731)。; 氮化钛薄膜具有出色的涂层性能,如高硬度、低电阻率和良好的耐蚀耐磨性等,在汽车、航空航天和生物医学中有着广泛的应用。磁控溅射技术因其成本低、沉积速率高以及绿色环保等优势,成为氮化钛薄膜制备的主要技术之一。综述了磁控溅射工...; 关键词：磁控溅射氮化钛薄膜溅射参数择优取向力学性能

磁控溅射的发展和工艺参数的探讨被引量：3: 《新型工业化》2021年第9期9-10,共2页李学龙徐兴文徐斌骁; 省级大学生创新创业项目《石英玻璃镀膜与金属界面钎焊工艺的研究》(项目编号:201910144021)。; 磁控溅射是工业镀膜的主要技术之一。磁控溅射镀膜因为高速低温、成膜质量好、对基片损伤小,易于工业化生产等特点成为广泛关注的技术。但磁控溅射镀膜对其工艺参数要求相对严格,需采取合适的溅射功率、沉积时间、真空度、靶基距等。文...; 关键词：溅射参数镀膜磁控溅射

溅射参数对合金表面硬质膜层性能影响的研究现状: 《热加工工艺》2020年第20期15-18,共4页付恩天彭建洪李海宾; 为了增强合金表面的耐磨性和耐蚀性,提高合金的使用寿命,磁控溅射硬质膜层近年来受到广泛的研究。介绍了磁控溅射技术的原理及特点,综述了磁控溅射技术制备硬质膜层的研究进展。结合近年来的实验研究,综述了溅射参数对硬质膜层性能的影...; 关键词：磁控溅射溅射参数合金硬质膜层耐磨性耐蚀性

磁控溅射参数对SrTiO_3基片上沉积YIG薄膜微观结构和磁性能的影响: 《陕西师范大学学报（自然科学版）》2017年第5期23-29,共7页张运英杨佳边小兵陈晓明周剑平; 国家自然科学基金(51372148); 采用射频磁控溅射法在SrTiO_3衬底上制备YIG薄膜,基于薄膜的成核理论研究溅射参数对薄膜结晶性、表面形貌和磁性的影响。结果表明,在其他溅射参数不变的情况下,薄膜的厚度随溅射时间成正比增长;在衬底温度为500℃、溅射气压为1Pa时,YIG...; 关键词：射频磁控溅射 YIG薄膜溅射参数表面形貌微观结构磁性能

Ni80Cr20合金薄膜制备影响因素的试验研究被引量：4: 《工具技术》2017年第7期39-41,共3页李学瑞武文革安春华成云平刘丽娟隋安平; 山西省国际科技合作项目(2015081018); 利用直流磁控溅射的方法制备Ni80Cr20合金薄膜,以氩气流量、氩气工作压强、溅射功率作为三因素进行正交试验,在溅射时间相同的条件下分别测试了薄膜厚度、表面粗糙度、电阻率并进行了极差分析。分析结果表明:在一定范围内,氩气工作压强...; 关键词：直流磁控溅射镍铬薄膜溅射参数

磁控溅射法制备SnS薄膜的结构和光学性能被引量：1: 《材料热处理学报》2015年第4期195-199,共5页范文娟邹敏常会霍红英万书权; 攀枝花市应用技术研究与开发项目(2012CY-S-3);太阳能技术集成及应用推广四川省高校重点实验室项目(2013TYNZ-08); 利用磁控溅射法在FTO玻璃上制备了Sn S薄膜。采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜和紫外可见分光光度计对不同溅射参数下制备的Sn S薄膜的晶体结构、表面形貌和光学性能进行研究,确定出制备Sn S薄膜的最优溅射参数。结果表明:溅射功率为28...; 关键词：磁控溅射 SN S薄膜溅射参数禁带宽度

磁控溅射参数及基片材料对铜薄膜结合强度的影响被引量：3: 《热加工工艺》2013年第24期66-69,72,共5页陈瑞芳倪泽炎花银群薛青; 国家自然科学基金资助项目(51175234);江苏省"六大人才高峰"项目资助(2010-JXQC069);江苏省高校自然科学研究资助项目(11KJB430002);江苏大学高级人才基金资助项目(10JDG061); 采用不同的溅射工艺参数及基片材料制备了铜薄膜,用划痕法测试了薄膜结合强度,研究了溅射功率、溅射气压、溅射时间、基片温度及基片材料对铜薄膜结合强度的影响。结果表明,在功率85W,溅射气压1.5 Pa,时间30 min,基片温度150℃的条件下...; 关键词：结合强度铜薄膜直流磁控溅射

离子束溅射参数与Ta_2O_5薄膜特性的关联性被引量：2: 《红外与激光工程》2013年第7期1770-1775,共6页刘华松傅翾王利栓姜玉刚冷健庄克文季一勤; 国家自然科学基金(61235011);天津市科委项目(10JCYBJC01500;12JCQNIC01200); 离子束溅射技术是制备Ta2O5薄膜的重要技术之一。采用正交试验设计方法,系统研究了Ta2O5薄膜的折射率、折射率非均匀性、消光系数、沉积速率和应力与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。通过使用分光光度...; 关键词：离子束溅射 Ta2O5薄膜正交实验光学常数沉积速率应力

Experimental study on optical fiber bundle hydrogen sensor based on palladium-silver optical thin film: 《Optoelectronics Letters》2013年第1期13-17,共5页崔陆军尚会超张冈李勇赵则祥; supported by the National Natural Science Foundation of China (No.50974062);the Basic and Frontier Technology Research Project of Henan Province (Nos.082300410320 and 122300410321);the Scientific Research Program of Department of Education of Henan Province (No.2008B520044); In this paper, a 20 nm palladium-silver (Pd/Ag) ultrathin optical film is used for hydrogen gas sensing. The mole ratio of the two metals is controlled at Pd:Ag=3:1. In the direct current (DC) sputtering machine, the ...; 关键词：氢气传感器实验条件光学薄膜光纤束氢传感器钯银溅射参数

FePt单层连续膜和颗粒膜的制备与磁性能研究被引量：1: 《功能材料》2012年第13期1704-1707,共4页王建省裴文利杨波李松任玉平秦高梧; 国家自然科学基金资助项目(50971035);教育部新世纪优秀人才计划资助项目(NCET-09-0272);教育部中央高校基础科研资助项目(N090402003;N100702001);教育部留学回国基金资助项目(20081201-2); 利用磁控溅射在不同Ar气压下制备了不同膜厚的FePt薄膜。利用透射电镜(TEM)研究了溅射气压和膜厚对薄膜形貌的影响,利用振动样品磁强计(VSM)研究了溅射气压和膜厚对薄膜磁性能的影响。结果表明溅射气压和膜厚对溅射态单层FePt薄膜的表...; 关键词：颗粒膜 L10-FePt 溅射参数

溅射参数