含氢非晶碳膜

作品数：10被引量：31H指数：4
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液氮激冷对含氢非晶碳膜性能的影响被引量：3
《摩擦学学报》2020年第1期82-88,共7页王兆龙 薛勇 张斌 高凯雄 强力 牟志星 王凯 
国家自然基金项目(U1737213);青年创新促进会项目(2017459)资助。
采用等离子增强化学气相沉积系统制备了含氢非晶碳膜.加热到相应温度(200、250、300、350和400℃)后,对薄膜进行液氮激冷处理,并研究其结构、机械及摩擦性能的变化.结果表明:薄膜硬度在200~300℃温度下液氮激冷后,其硬度随热处理温度增...
关键词：含氢非晶碳膜 激冷 摩擦 磨损 热稳定性 
沉积温度对中频磁控溅射制备含氢非晶碳膜表面形貌和力学性能的影响被引量：1
《长春理工大学学报（自然科学版）》2009年第4期588-591,共4页姜辉 邹宇 
作为红外窗口的保护层,含氢非晶碳膜(a-C:H)是薄膜材料研究的热点。本文利用中频非平衡磁控溅射技术,以氩气和甲烷混合气体为工作气体,在单晶硅片上沉积含氢的a-C:H膜。改变沉积温度,制备常温和加温到80℃、120℃、150℃四种不同的溅射...
关键词：中频磁控溅射 含氢非晶碳膜 表面形貌 硬度 
PMMA基底含氢非晶碳膜的结构和摩擦学性能被引量：5
《材料研究学报》2008年第4期429-432,共4页蔺增 李明 吕少波 林铁源 巴德纯 In-Seop Lee 
辽宁省自然科学基金20071019;华中科技大学塑性成形模拟及模具技术国家重点实验室开放基金06-9资助项目．~~
分别用磁控溅射和等离子体增强化学气相沉积方法在PMMA基底上沉积硅膜和含氢非晶碳(a-C:H)膜.用氩离子溅射硅靶制备硅膜,以甲烷和氢气为反应气体在不同自偏压下制备非晶碳膜.分别用原子力显微镜、X射线光电子能谱和紫外拉曼光谱表征薄...
关键词：无机非金属材料 含氢非晶碳膜 等离子体增强化学气相沉积 PMMA 自偏压 硬度 摩擦学性能 
沉积参数对含氢非晶碳膜结构及性能的影响被引量：8
《真空科学与技术学报》2008年第1期64-66,共3页李明 王凤 张艳 蔺增 巴德纯 
本文利用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术,以CH4、H2为气源,Ar为稀释气体,通过增加过渡层和改变输入功率和气体成分比例(CH4/H2),在不锈钢基底上制备了含氢非晶碳膜(a-C:H)。利用拉曼光谱(Raman)、X射线光电子能谱(XPS)、...
关键词：含氢非晶碳膜 射频等离子体增强化学气相沉积 过渡层 硬度 摩擦磨损 
射频PECVD方法生长含氢非晶碳膜的结构及摩擦学性能被引量：4
《东北大学学报（自然科学版）》2007年第12期1745-1748,共4页李明 蔺增 王凤 巴德纯 
辽宁省自然科学基金资助项目(20062029);华中科技大学塑性成形模拟及模具技术国家重点实验室开放基金资助项目(06-9)
利用射频等离子体增强化学气相沉积技术在不锈钢表面制备了含氢非晶碳膜.采用Raman光谱、红外光谱、X射线光电子能谱和原子力显微镜等研究了薄膜的微观结构和表面形貌,在栓盘摩擦磨损试验机上考察了薄膜在不同载荷与滑动速度下的摩擦学...
关键词：射频等离子体增强化学气相沉积 含氢非晶碳膜 结构 摩擦学性能 
自偏压对含氢非晶碳膜光学特性的影响被引量：4
《真空科学与技术学报》2007年第4期350-353,共4页蔺增 巴德纯 王凤 李明 
沈阳市科技基金(No.1053125-1-24);华中科技大学塑性成形模拟及模具技术国家重点实验室开放基金(No.06-9)
利用射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)方法,以CH4、Ar和H2为气源,在CR-39树脂材料上制备出了含氢非晶碳膜(a-C∶H膜)。研究了不同偏压对a-C∶H膜生长过程和光学特性的影响。使用激光拉曼光谱(Raman)和傅里叶变换红外光谱(FTIR)...
关键词：含氢非晶碳膜 等离子体增强化学气相沉积 自偏压 光学特性 
过渡层对含氢非晶碳膜生长的影响被引量：7
《真空科学与技术学报》2006年第6期491-493,共3页蔺增 巴德纯 
本文利用射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)工艺在不锈钢基底上制备了含氢非晶碳膜(a-C∶H膜)。在沉积碳膜之前,首先在基底表面预先沉积了Ti/TiC、Ti/TiN和Ti/TiN/TiC等过渡层以提高膜基结合力。利用激光Raman光谱分析了过渡层对...
关键词：含氢非晶碳膜 过渡层 膜基结合力 
含氢非晶碳膜(a-C:H)红外光学特性的研究被引量：2
《红外与激光工程》2006年第6期777-779,共3页潘永强 吴振森 
国家自然科学基金项目(60371020)
采用端部霍尔离子源在硅基底上制备了含氢非晶碳膜(a-C:H),并测量了4 000～1 500 cm-1的红外透射光谱。基于单层薄膜的透射关系,获得了仅有六个拟合参数的光学常数计算模型。利用该模型,可以同时获得薄膜在宽波段范围内的光学常数和厚度...
关键词：含氢非晶碳膜 光学常数 曲线拟合 
基片温度对含氢非晶碳膜电学特性的影响
《苏州大学学报（自然科学版）》2000年第3期52-56,共5页马春兰 程珊华 宁兆元 
国家自然科学基金资助项目!(596 370 50 )
用电子回旋共振等离子体化学气相沉积 (ECR CVD)方法在不同基片温度下从苯制得了含氢非晶碳膜 (α C :H) ,对样品进行了伏安特性测试 考察了基片温度对电阻率与击穿场强的影响 ,并结合Raman谱探索α C
关键词：非晶碳膜 基片温度 电学特性 
沉积温度对含氢非晶碳膜电学性质的影响被引量：4
《物理学报》2000年第10期2041-2046,共6页程珊华 宁兆元 康健 马春兰 叶超 
江苏省自然科学基金!(批准号 :LL772 3 );江苏省教委自然科学基金资助的课题&&
用苯作为源气体 ,使用微波电子回旋共振 (ECR)等离子体气相沉积法在不同温度下制备了含氢非晶碳薄膜 ,研究了沉积温度对薄膜的直流电阻率、击穿场强的影响 ,发现它们与沉积速率密切相关 .测量了薄膜的含氢量与Raman谱 。
关键词：非晶碳薄膜 直流电阻 含氢 沉积温度 电学性质 
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