反射高能电子衍射

作品数:33被引量:44H指数:4
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反射高能电子衍射优化GaSb薄膜生长的工艺研究被引量:1
《激光与光电子学进展》2020年第23期255-261,共7页房丹 张强 李含 谷开慧 
吉林省科技厅项目(20200301052RQ)。
在利用分子束外延(MBE)技术生长GaSb薄膜材料过程中,利用反射高能电子衍射仪(RHEED)实现了GaSb薄膜制备的实时监控。利用RHEED衍射振荡图样,对衬底表面的脱氧化层和生长过程进行分析和研究,得到了生长参数与衍射图样变化之间的关系,确...
关键词:薄膜 反射高能电子衍射 GASB 分子束外延 生长速率 
MgO(111)上ZnO薄膜的外延生长及其结构和光学特性
《材料科学》2013年第3期116-120,共5页杜达敏 王惠琼 周华 李亚平 黄巍 徐建芳 蔡加法 崔琳哲 张纯淼 陈晓航 詹华翰 康俊勇 
国家自然科学基金(编号:11204253)教育部博士点基金(编号:20100121120026);福建省自然科学基金(编号:2010J05138).
由于ZnO在光电器件的应用前景,其高质量薄膜的制备是研究热点之一。本文通过分子束外延生长法在MgO(111)单晶衬底上生长ZnO薄膜,表征了其结构和特性,探讨了不同生长条件对薄膜质量的影响。结果表明,先低温生长ZnO缓冲层,再高温生长ZnO薄...
关键词:分子束外延 反射高能电子衍射 透射谱 缓冲层 位错密度 
InAs薄膜的分子束外延生长与表面形貌及表面重构分析被引量:2
《材料导报》2013年第4期90-92,共3页王继红 罗子江 周勋 张毕禅 郭祥 丁召 
国家自然科学基金(60866001);贵州省优秀科技教育人才省长专项基金(黔省专合字(2009)114号);2010年度贵州财经学院博士基金;贵州省科学技术基金(黔科合J字[2011]2095号);贵州大学青年教师科研基金([2012]001号)
利用带有反射高能电子衍射(RHEED)仪的分子束外延(MBE)方法,通过RHEED图像演变实时监控薄膜生长状况,采用RHEED强度振荡测量薄膜生长速率,在InAs(001)基片上同质外延InAs薄膜。利用扫描隧道显微镜(STM)对MBE生长的InAs薄膜表面形貌以及...
关键词:InAs薄膜 分子束外延 反射高能电子衍射 扫描隧道显微镜 表面重构 
Fe3O4/MgO(100)薄膜外场诱导电阻变化特性被引量:1
《强激光与粒子束》2012年第8期1841-1845,共5页曹林洪 吴卫东 唐永建 王雪敏 
等离子体物理国家级重点实验室基金项目(9140C680240903)
采用激光分子束外延(L-MBE)方法,以MgO(100)为基底生长了Fe3O4单晶薄膜,研究了Fe3O4/MgO(100)薄膜外场(温度、磁和激光场)诱导电阻变化特性。X射线衍射(XRD)分析表明Fe3O4薄膜是沿MgO(200)晶面外延生长的单晶薄膜;反射高能电子衍射(RHE...
关键词:Fe3O4薄膜 反射高能电子衍射 磁电阻 激光诱导电阻 
温度对p-InN薄膜光电导灵敏度的影响
《发光学报》2012年第7期785-789,共5页冯丽 
研究了p型InN的光电导效应。利用分子束外延技术(MBE)法生长出高质量的InN薄膜,在此基础上利用Mg掺杂获得了p-InN。原位反射高能电子衍射(RHEED)表明样品在生长过程中保持二维生长模式,原子力显微镜(AFM)测试结果显示台阶流的生长模式...
关键词:分子束外延 原位反射高能电子衍射 Mg掺杂p-InN 光电导灵敏度 
Room Temperature Ferrimagnetismin Strained Mn2-xCrxAs Films
《材料科学与工程(中英文B版)》2011年第7期855-860,共6页Younghun Hwang Jeongyong Choi Sunglae Cho 
关键词:电影 反射高能电子衍射 分子束外延生长  温度 房间 晶体结构 X射线衍射 
氢等离子体处理SiC表面技术的研究
《半导体技术》2010年第11期1087-1090,共4页陈素华 张春丽 
对SiC表面进行传统湿法清洗之后,采用电子回旋共振(ECR)氢等离子体系统在200℃低温条件下对SiC表面进行了氢等离子体处理,对处理前后的SiC样品表面分别做了反射高能电子衍射(RHEED)分析和X射线光电子能谱(XPS)分析。通过RHEED分析发现,...
关键词:碳化硅 氢等离子体 反射高能电子衍射 X射线光电子能谱 电子回旋共振 
MgO/SrTiO_3(001)生长初期的各向异性晶格畸变
《真空科学与技术学报》2010年第5期484-487,共4页魏贤华 崔传伟 张鹰 朱俊 
通过原位的反射高能电子衍射,监测并测量了MgO/SrTiO3(001)岛状生长初期过程中的面内、面外晶格常数的演变。薄膜的面内晶格在一开始生长时就发生弛豫,且大多数应变在2 nm厚度左右被释放并几乎保持稳定,而面外的晶格应变弛豫一直持续进...
关键词:反射高能电子衍射 晶格 各向异性 应变 织构 
不同衬底温度下预沉积Ge对SiC薄膜生长的影响被引量:5
《真空科学与技术学报》2009年第4期423-426,共4页刘忠良 唐军 任鹏 刘科 徐彭寿 潘国强 
国家自然科学基金(No.50572100)
分别在未沉积Ge和不同衬底温度(300、500、700℃)沉积Ge条件下,利用固源分子束外延(SSMBE)技术在Si衬底上外延SiC薄膜。通过反射式高能电子衍射(RHEED)、X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和傅里叶变换红外光谱(FTIR)等仪器对样品进行...
关键词: 碳化硅 反射高能电子衍射 固源分子束外延 预沉积温度 
双轴织构氧化铈薄膜的反射高能电子衍射分析
《硅酸盐学报》2008年第12期1749-1752,共4页魏贤华 熊杰 接文静 
为了制备高温超导带材,采用直流反应磁控溅射在Ni-5%(摩尔分数)W衬底上制备双轴织构的CeO2薄膜用作缓冲层。通过反射高能电子衍射仪观察分析了双轴织构CeO2的衍射谱。选取某一衍射点,提取其衍射强度相对直入点的弧度分布,拟合半高宽得...
关键词:超导带材 缓冲层 织构 反射高能电子衍射 
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