RESURF

作品数:82被引量:116H指数:6
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具有分段P型埋层的Triple-RESURF LDMOS被引量:1
《微电子学》2023年第1期134-138,共5页何乃龙 许杰 王浩 赵景川 王婷 朱文明 张森 
国家自然科学基金资助项目(62074030)
提出了一种具有分段P型埋层的Triple-RESURF LDMOS(SETR LDMOS)。该结构将传统Triple-RESURF LDMOS(TR LDMOS)中均匀掺杂的P埋层漏端一侧做分段处理,使漂移区中P型杂质从源端到漏端呈现出近似阶梯掺杂的分布。这种优化能够平衡漏端底部...
关键词:P型埋层 LDMOS 击穿电压 比导通电阻 
700 V超低比导通电阻的LDMOS器件
《电子与封装》2020年第8期43-46,共4页李怡 乔明 
LDMOS器件广泛应用于高压集成电路芯片中,由于常作为功率开关来使用,其主要的性能指标为击穿电压(VB)与比导通电阻(RON,sp)。然而,VB与RON,sp均强烈受制于漂移区长度及掺杂浓度,因此存在固有的矛盾关系。Triple RESURF技术被广泛使用于...
关键词:LDMOS Triple RESURF 比导通电阻 击穿电压 
Theoretical analytic model for RESURF AlGaN/GaN HEMTs被引量:1
《Chinese Physics B》2019年第2期395-399,共5页Hao Wu Bao-Xing Duan Luo-Yun Yang Yin-Tang Yang 
Project supported by the National Basic Research Program of China(Grant No.2015CB351906);the National Natural Science Foundation of China(Grant No.61774114);the Key Program of the National Natural Science Foundation of China(Grant No.61334002);the 111 Project,China(Grant No.B12026)
In this paper, we propose a two-dimensional(2D) analytic model for the channel potential and electric field distribution of the RESURF AlGaN/GaN high electron mobility transistors(HEMTs). The model is constructed by t...
关键词:RESURF ALGAN/GAN HEMTS two-dimensional ANALYTIC model potential DISTRIBUTION electric field DISTRIBUTION 
三维数控弯板机多类型数据输入及转换的解决方案
《中文科技期刊数据库(文摘版)工程技术》2018年第9期00404-00405,共3页叶生志 
三维数控弯板机是目前国内外领先的自动化船体外板冷加工装备,设备根据数学放样数据,使用专门的计算机和控制软件实现加工过程自动检测计算与控制,自动完成曲面船板的成形加工。但用于加工的数学放样数据是由多个不同的设计软件生成,故...
关键词:三维数控弯板机 数学放样数据 多种数据类型 统一转换 Rhino-Resurf 
TRIPLE RESURF LDMOS器件的优化设计被引量:1
《电子设计工程》2017年第12期101-104,共4页颜世朋 薛智民 王清波 
提出了一种新型TRIPLE RESURF结构的LDMOS器件,与普通的TRIPLE RESURF结构不同的是埋层采用了分区注入,即在靠近源端一侧采用较高注入剂量,在靠近漏端一侧则采用较低的注入剂量。因而会降低漏端表面电场峰值,提高了击穿电压。利用SILVAC...
关键词:击穿电压 比导通电阻 
采用双层栅极场板结构的LDMOS器件优化设计
《电子元件与材料》2016年第8期50-54,共5页慈朋亮 
国家科技02重大专项项目资助(No.2012ZX02502)
研究了一种N型50 V RFLDMOS器件的结构。该类型器件对击穿电压BV和导通电阻R_(DSon)等直流参数具有较高要求,一般采用具有两层场板的RESURF结构。通过Taurus TCAD仿真软件对器件最关键的两个部分即场板和N型轻掺杂漂移区进行优化设计,...
关键词:RFLDMOS 击穿电压 导通电阻 RESURF 双层场板 仿真 
集成电路BCD工艺平台中Double Resurf技术概述被引量:1
《中国新通信》2016年第13期46-47,共2页慈朋亮 
BCD工艺是一种先进的单片集成工艺技术,把双极器件和CMOS器件同时制作在同一芯片上。它综合了双极器件高跨导、强负载驱动能力和CMOS集成度高、低功耗的优点,使其互相取长补短,发挥各自的优点。更为重要的是,它集成了DMOS功率器件,DMOS...
关键词:电源管理 LDMOS 集成电路 
Novel high voltage RESURF Al GaN/GaN HEMT with charged buffer layer被引量:2
《Science China(Information Sciences)》2016年第4期138-147,共10页Jiayun XIONG Chao YANG Jie WEI Junfeng WU Bo ZHANG Xiaorong LUO 
A novel reduced surface field (RESURF) Al GaN /GaN high electron mobility transistor(HEMT)with charged buffer layer is proposed. Its breakdown mechanism and on-state characteristics are investigated.The HEMT featu...
关键词:high voltage power device AlGaN/GaN HEMT charged buffer RESURF 
RESURF技术中LDMOS外延层单位面积杂质密度研究
《电子设计工程》2016年第5期169-171,174,共4页安达露 鲍嘉明 
LDMOS器件设计中,常采用RESURF技术来提高器件的性能。文中主要研究具有RESURF技术结构的LDMOS器件,围绕当获得最优的器件结构时,其外延层单位面积杂质密度Ntot不是定值这一现象展开研究,给出了一种关于外延层单位面积杂质密度Ntot的近...
关键词:LDMOS RESURF 衬底掺杂浓度 外延层单位面积杂质密度 
超薄层SOI高压LVD LDMOS耐压模型及特性研究被引量:3
《微电子学》2015年第6期812-816,共5页王卓 周锌 陈钢 杨文 庄翔 张波 
中央高校基本科研业务费资助项目(ZYGX2013J043);国家重点实验室开放课题(KFJJ201203)
针对超薄层高压SOI线性变掺杂(Linear Varied Doping,LVD)LDMOS器件,进行了耐压模型和特性的研究。通过解泊松方程,得到超薄高压SOI LVD LDMOS的RESURF判据,有助于器件耐压和比导通电阻的设计与优化。通过对漂移区长度、厚度和剂量,以及...
关键词:超薄SOI层 线性变掺杂 高压LDMOS 耐压模型 RESURF 
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