X射线光刻掩模

作品数:7被引量:4H指数:1
导出分析报告
相关领域:电子电信理学机械工程更多>>
相关作者:陈大鹏叶甜春余建祖余雷王永坤更多>>
相关机构:中国科学院微电子研究所北京航空航天大学中国科学院北京科技大学更多>>
相关期刊:《核技术》《微细加工技术》《无机材料学报》《真空科学与技术学报》更多>>
相关基金:国家自然科学基金更多>>
-

检索结果分析

结果分析中...
条 记 录,以下是1-6
视图:
排序:
电子束直写中X射线光刻掩模的热形变研究
《微细加工技术》2007年第5期10-13,25,共5页尚鸿雁 王永坤 
对X射线掩模电子束制备图形过程建立三维有限元模型,提出用热流密度等效法简化瞬态热应力计算,得到了X射线掩模在电子束直写过程中的瞬态热形变。结果表明,掩模面内形变在直写过程中出现振荡变化,最大值为8.24 nm,方向背离电子束光照中...
关键词:面内形变 面外形变 电子束直写 图形制备 有限元分析 
X射线光刻掩模加工过程中的形变研究
《真空科学与技术学报》2005年第1期18-20,29,共4页王永坤 余建祖 余雷 
国家自然科学基金资助项目 (No 5 99760 0 4)
对以SiNx 为衬基的X射线光刻掩模在背面刻蚀过程中的形变进行数值仿真 ,研究了Si片和衬基的各种参数对掩模最大平面内形变和非平面形变的影响。结果表明 ,参数的变化明显影响最大非平面形变量。当Si片的厚度和直径增大 ,衬基的厚度和初...
关键词:掩模 X射线光刻 平面形 刻蚀 厚度 显影 形变量 加工过程 直径 
X射线光刻掩模背面刻蚀过程中的形变仿真被引量:1
《微细加工技术》2004年第3期19-23,28,共6页王永坤 余建祖 余雷 陈大鹏 
国家自然科学基金资助项目(59976004)
开发了理论模型以验证有限元方法用于X射线光刻掩模刻蚀过程数值仿真的正确性。利用相同的有限元技术,对X射线光刻掩模的背面开窗、Si片刻蚀过程进行数值仿真。结果表明,图形区域的最大平面内形变(IPD)出现在上、下边缘处,最大非平面形...
关键词:X射线掩模 掩模形变 背面刻蚀 有限元 平面内形变 非平面形变 
用于X射线光刻掩模的纳米金刚石膜成核研究被引量:1
《无机材料学报》2004年第4期887-894,共8页李东辉 刘志凌 叶甜春 陈大鹏 吕反修 
介绍了金刚石膜在下一代X射线光刻掩模中应用的必要性;通过调节衬底温度,改变生长时间、控制甲烷浓度等工艺措施,实验研究了不同参数对成核密度及成核质量的影响,获得了高密度形核的样品;对形核后的预生长期进行了工艺优化,有效地控制...
关键词:成核 金刚石薄膜 MPCVD X射线光刻掩模 
X射线光刻掩模后烘过程的瞬态热分析被引量:2
《微细加工技术》2003年第2期34-39,共6页王永坤 余建祖 余雷 陈大鹏 
国家自然科学基金资助项目(59976004)
X射线光刻掩模是下一代光刻技术(NGL)中的X射线光刻技术的关键技术难点。在电子束直写后的掩模后烘过程中,掩模表面的温度场分布及温升的均匀性是影响掩模关键尺寸(CD)控制的重要因素,如果控制不当,会造成掩模表面的光刻胶烘烤不均匀,...
关键词:X射线光刻 掩模 后烘烤 有限元技术 瞬态温度场 
同步辐射X射线光刻掩模镀金工艺的研究
《仪表技术与传感器》1996年第12期16-18,共3页陈颖新 王飞 
国家自然科学基金资助课题
介绍了利用北京正负对撞机(BEPC)同步辐射X射线光刻装置,进行LIGA工艺技术深结构光刻实验研究,详细论述了X射线光刻使用的掩模制备过程及掩模镀金工艺,在国内最早曝光出直径为400μm、厚为27~45μm的三维立体齿轮胶图形。
关键词:同步辐射 X射线 镀金工艺 光刻掩模 半导体 
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部