云南高校图书馆联盟文献共享服务平台- LCVD

LCVD: 作品数：16被引量：18H指数：2; 导出分析报告; 相关领域：电子电信一般工业技术更多>>; 相关作者：刘丽李艳秋王豫公衍生後藤孝更多>>; 相关机构：深圳清溢光电股份有限公司哈尔滨工业大学北京科技大学中国工程物理研究院更多>>; 相关期刊：《哈尔滨工业大学学报》《半导体技术》《Science Bulletin》《中国激光》更多>>; 相关基金：国家自然科学基金安徽省教育厅资助项目中央高校基本科研业务费专项资金广东省自然科学基金更多>>

电介质表面金属功能图案激光加工技术研究进展: 《航空制造技术》2025年第1期22-35,共14页肖荣诗魏佳硕崔梦雅黄婷; 国家重点研发计划(2022YFB4602700);北京市自然科学基金青年项目(2244087)。; 电介质表面金属功能图案在航空航天、消费电子、柔性传感等领域的需求日益增长。激光加工作为一种无需掩膜的柔性制造技术,具有加工精度高、非接触式加工、制造效率高等优点,可以在多种电介质表面实现金属功能图案的直接制造,近年来发...; 关键词：激光加工金属功能图案激光刻蚀选择性激光烧结(SLS) 脉冲激光沉积(PLD) 激光诱导化学液相沉积(LCLD) 激光诱导化学气相沉积(LCVD) 激光辅助化学镀(LEP)

激光修补技术在修复薄膜图形缺陷上的应用——薄膜图形缺陷激光修补机被引量：1: 《电子工业专用设备》2015年第6期25-30,共6页万承华宋体涵; 阐述了应用激光修补技术在玻璃基板上去除金属及其化合物薄膜和在玻璃基板上沉积金属薄膜的图形缺陷修补原理与方法;简述了影响薄膜图形缺陷修补质量与效率的关键技术;简单介绍了薄膜图形缺陷激光修补机的系统构成及其技术与性能指标。; 关键词：激光化学气相沉积(LCVD) 金属薄膜快速成膜激光快速去除(ZAP) 设备参数

Preparation of rutile TiO_(2) thin films by laser chemical vapor deposition method被引量：2: 《Journal of Advanced Ceramics》2013年第2期162-166,共5页Dongyun GUO Akihiko ITO Takashi GOTO Rong TU Chuanbin WANG Qiang SHEN Lianmeng ZHANG; This work was supported in part by the Global COE Program of the Materials Integration,Tohoku University,and the International Science and Technology Cooperation Program of China(Grant No.2009DFB50470);This work was also supported in part by the International Science and Technology Cooperation Project of Hubei Province(Grant No.2010BFA017)and the 111 Project of China(Grant No.B13035).; TiO_(2) thin films were prepared on Pt/Ti/SiO_(2)/Si substrate by laser chemical vapor deposition(LCVD)method.The effects of laser power(P_(L))and total pressure(p_(tot))on the microstructure of TiO_(2) thin films wer...; 关键词：rutile TiO_(2)thin film laser chemical vapor deposition(LCVD) laser power total pressure microstructure

激光化学气相沉积快速生长高取向TiN_x薄膜的研究被引量：5: 《无机材料学报》2010年第4期391-395,共5页公衍生涂溶後藤孝; 中央高校基本科研业务费专项基金; 采用激光化学气相沉积(LCVD)技术在氧化铝衬底上制备了高取向的TiNx薄膜,重点研究了激光功率(PL)、衬底预热温度(Tpre)和沉积总压力(Ptot)对薄膜取向和沉积速率的影响,采用X射线衍射(XRD)、俄歇能谱(AES)和场发射扫描电镜(FESEM)对薄膜...; 关键词：TiNx薄膜快速生长取向激光化学气相沉积(LCVD)

Fabrication of micro carbon pillar by laser-induced chemical vapor deposition: 《Journal of Central South University》2008年第S1期197-201,共5页周健罗迎社李立君钟琦文李新华殷水平; Project supported by Scientific Research Fund of Centre South University of Forestry and Technology;Project supported by Teaching Innovation Fund of Centre South University of Forestry and Technology; Argon ion laser was used as the induced light source and ethane(C2H4) was selected as the precursor gas,in the variety ranges of laser power from 0.5 W to 4.5 W and the pressure of the precursor gas from 225×133.3 Pa...; 关键词：LASER-INDUCED chemical vapor deposition(LCVD) GROWING rapid DIAMETER microcarbon.

激光化学气相沉积(LCVD)制取TiN薄膜被引量：4: 《热处理》2004年第2期33-36,共4页王豫; 安徽省教育厅资助课题; 研究了在W 1 8Cr4V高速钢基体上 ,用CO2 连续激光诱导化学气相沉积TiN薄膜的工艺方法。激光功能 6 0 0W ,在H2 、N2 、TiCl4 反应系统中沉积出TiN薄膜 ,薄膜的颜色呈金黄色 ,显微硬度为 2 5 0 0HV。; 关键词：激光化学气相沉积 LCVD TIN薄膜高速钢

An Axisymmetric Numerical Model for Simulating Kinetically-Limited Growth of a Cylindrical Rod in 3D Laser-induced Chemical Vapor Deposition被引量：1: 《Journal of Materials Science & Technology》2002年第2期127-132,共6页R.Nassa, W.Z.Dai and Q.ChenMathematics & Statistics, College of Engineering & Science, Louisiana Tech. University, Ruston, LA 71272, USA; Laser-induced chemical vapor deposition (LCVD) is an important process for freeform microfabrication of high aspect ratio prototypes. The system consists of a laser beam focused onto a movable substrate in a vacuum ch...; 关键词：Numerical model LCVD Cylindrical rod growth Least squares optimization

LCVD法沉积Si_3N_4薄膜微透镜的研究被引量：1: 《真空科学与技术》1997年第2期84-87,共4页宋国瑞兰祝刚姚惠贞; 国家自然科学基金;广东省自然科学基金; 介绍了一种利用激光化学气相沉积（LCVD）技术，在平面石英玻璃衬底上沉积平凸形Si3N4球面介质膜用作微透镜，包括LCVD的实验装置及其沉积工艺、实验结果表明，只要适当控制源气体的化学配比与浓度，调节激光功率与衬底上的聚焦激光光...; 关键词：LCVD 微透镜氮化硅薄膜技术

金属基高功率CO_2激光沉积超硬Si_3N_4膜层性能研究被引量：1: 《中国民航学院学报》1995年第4期79-84,共6页郭良; 本文采用高功率(kw级)CO_2激光在金属基材汽相沉积出厚度～30μm标准化学计量配比、平均硬度达2200HK的α-Si_3N_4膜层,与基材有良好的结合界面,实验分析表明所沉积膜层具有超硬和良好的耐磨抗蚀等性能.; 关键词：LCVD 层次结构耐磨抗蚀性能氮化硅膜

迅速发展的LCVD技术被引量：1: 《激光技术》1994年第3期161-167,共7页王庆亚张玉书; 本文简要回顾了近十年来激光ＣＶＤ（ＬＣＶＤ）技术的发展概况及其在金属、电介质和半导体薄膜生长方面的应用情况。阐明了这种新发展起来的成膜技术不仅因其生长的低温化能够给器件带来优良的电学特性，同时也可利用其高精度的膜厚控...; 关键词：LCVD 半导体膜激光技术

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