王正铎

作品数：21被引量：77H指数：5
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供职机构：北京印刷学院更多>>
发文主题：原子层沉积等离子体氧化硅耐磨层磁控溅射更多>>
发文领域：理学一般工业技术金属学及工艺电子电信更多>>
发文期刊：《光谱学与光谱分析》《中国表面工程》《金属材料研究》《包装工程》更多>>
所获基金：国家自然科学基金北京市自然科学基金北京市教育委员会科技发展计划面上项目北京市属高等学校人才强教计划资助项目更多>>
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气相沉积技术制备氧化锰薄膜及其组分调控的研究进展被引量：1
《北京印刷学院学报》2024年第3期67-72,共6页任家轩 方弘历 杨斗豪 刘博文 王正铎 刘忠伟 
中国国家自然科学基金(12075032);云南省刑事科学技术重点实验室开放课题(YJKF002);北京印刷学院项目(21090123007)研究成果。
本文介绍了利用气相沉积技术,包括物理气相沉积、化学气相沉积、原子层沉积等技术制备氧化锰薄膜以及组分调控的研究现状,重点介绍了等离子体辅助化学气相沉积/原子层沉积氧化锰薄膜的研究进展,对所使用的锰前驱体做了总结,并展望了氧...
关键词：氧化锰薄膜 物理气相沉积 化学气相沉积 原子层沉积 
介质阻挡放电辅助催化CO_(2)甲烷化的研究
《现代化工》2023年第10期52-57,共6页唐守贤 田地 李筝 王正铎 程久珊 刘博文 刘忠伟 
国家自然科学基金项目(12075032);北京市自然科学基金项目(KZ2020101522);云南省刑事科学技术重点实验室开放课题(YJKF002);北京印刷学院项目(Ec202207,S202210015021)。
重点介绍了近10年来用于介质阻挡放电(DBD)辅助催化CO_(2)甲烷化的镍基催化剂的研究成果,包括不同等离子体工艺参数下的催化剂活性,同时涉及催化剂的活化方式、载体、助剂等实验条件对催化效果的影响,揭示了介质阻挡放电辅助催化CO_(2)...
关键词：非热等离子体 介质阻挡放电 镍基催化剂 CO_(2)甲烷化 协同效应 
等离子体技术制备高阻隔薄膜作用方式和应用现状(二)
《真空与低温》2023年第5期425-438,共14页刘忠伟 杨丽珍 桑利军 王正铎 张海宝 程久珊 刘博文 陈强 
国家自然科学基金(12075032);北京市自然科学基金(8222055、2232061);云南省刑事科学技术重点实验室开放课题(YJKF002);北京印刷学院项目(Ec202207、S202210015021)。
近年来,在食品和药品包装、可穿戴有机电子封装、有机发光二极管(OLED)和量子点封装、真空绝缘板密封、生物医学和可再生能源防护等方面,以柔性塑料为基体的阻湿、阻氧、高透明的薄膜得到了广泛的应用,促进了阻隔膜制备技术的发展。等...
关键词：等离子体 特性和诊断 阻隔膜 结构表征和性能测量 柔性聚合物 
等离子体技术制备高阻隔薄膜作用方式和应用现状(一)被引量：3
《真空与低温》2023年第4期315-326,共12页刘忠伟 杨丽珍 桑利军 王正铎 张海宝 程久珊 刘博文 陈强 
国家自然科学基金(12075032);北京市自然科学基金(8222055、2232061);云南省刑事科学技术重点实验室开放课题(YJKF002);北京印刷学院项目(Ec202207、S202210015021)。
近年来,在食品和药品包装、可穿戴有机电子封装、有机发光二极管(OLED)和量子点封装、真空绝缘板密封、生物医学和可再生能源防护等方面,以柔性塑料为基体的阻湿、阻氧、高透明的薄膜得到了广泛的应用,促进了阻隔膜制备技术的发展。等...
关键词：等离子体 特性和诊断 阻隔膜 结构表征和性能测量 柔性聚合物 
碳化镍薄膜的制备及其作为石墨烯制备中间相的研究进展被引量：1
《真空科学与技术学报》2022年第11期791-802,共12页陈森 杨斗豪 任家轩 王正铎 刘博文 刘忠伟 
国家自然科学基金项目(12075032);北京市自然科学基金项目(KZ2020101522);云南省刑事科学技术重点实验室开放课题(YNPC-S2021002);北京印刷学院项目(EC202001,EE202001,EA201901,EC202207)。
碳化镍薄膜具有良好的催化活性、低电阻率、高的硬度以及可以作为石墨烯制备过程中的理想中间体等特点引起了人们的广泛关注。物理气相沉积技术制备的碳化镍薄膜多是微晶相嵌入碳基体中的复合结构薄膜,然而,通过化学气相沉积技术制备的...
关键词：碳化镍 石墨烯 原子层沉积 磁控溅射 
N2流量对HiPIMS制备Al-N共掺杂ZnO薄膜的性能影响被引量：1
《真空与低温》2019年第6期361-367,共7页李倩 张玉琛 王正铎 杨丽珍 张海宝 刘忠伟 陈强 
国家自然科学基金（11775028、11505013、11605012、11875090）;北京市自然科学基金（4162024）;北京市自然科学基金重点项目（KM201510015009）;北京市协同创新项目（No.20160113）
采用高功率脉冲反应磁控溅射(HiPIMS)在玻璃基底上沉积Al-N共掺氧化锌(ZnO)薄膜,研究氮气(N2)流量对Al-N共掺杂ZnO薄膜的晶体结构、表面形貌和电学性质的影响。测量结果表明,N2流量对掺杂的ZnO薄膜电导率类型转变和光电性能有很大影响:...
关键词：高功率脉冲反应磁控溅射 氧化锌 Al-N共掺 p型导电 
直流和高功率磁控溅射制备氮化铬薄膜及其结构性能比较被引量：4
《表面技术》2019年第9期64-69,149,共7页李倩 李花 王正铎 张海宝 杨丽珍 刘忠伟 陈强 
国家自然科学基金项目(11775028,11505013,11605012,11875090);北京市自然科学基金项目(4162024);北京市自然科学基金重点项目(KM201510015009);绿色印刷出版技术协同创新项目(20160113)~~
目的比较直流磁控溅射(DCMS)和高功率磁控溅射(HiPIMS)两种沉积技术制备的氮化铬(CrN)薄膜的结构和性能。方法采用DCMS和HiPIMS沉积技术,在金属镍(Ni)基底上沉积CrN薄膜,采用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)和显微硬度计等仪器,分析CrN...
关键词：氮化铬 直流磁控溅射 高功率磁控溅射 结构 性能 耐磨性 耐腐蚀性 
石英微晶天平技术在原子层沉积碳化镍薄膜过程中的应用研究
《真空科学与技术学报》2018年第11期990-995,共6页胡玉莲 郭群 樊启鹏 王正铎 王院民 刘忠伟 杨丽珍 
国家自然科学基金项目(11775028);北京市自然科学基金项目(4162024);北京印刷学院重点项目(Ea201801);北京印刷学院师资队伍国际化能力提升(12000400001);北京市级大学生创新创业训练项目(201805101)
采用等离子体增强原子层沉积技术分别以Ni(amd)2、Ni(dad)2为镍、碳前驱体,氢等离子体为还原剂成功沉积了碳化镍薄膜。两个沉积过程中,碳化镍薄膜厚度都随着反应循环次数的增加而线性增加。利用石英微晶天平技术对碳化镍薄膜的沉积过程...
关键词：石英微晶天平 碳化镍 原子层沉积 
N掺p型氧化锌理论的研究进展被引量：1
《真空》2016年第3期12-15,共4页张海涛 张海宝 王正铎 刘忠伟 杨丽珍 陈强 
N元素由于其核外电子结构和原子半径与O十分相近,被认为是最适合用来制备p型ZnO(p-ZnO)半导体材料的掺杂元素。有关N掺p-ZnO的研究已经进行了很长时间,并且获得了许多重要成果。然而,目前对N掺杂ZnO的p型导电性的由来仍然存在极大的争议...
关键词：氮(N)掺 p-ZnO 受主缺陷 
化学气相沉积/原子层沉积铜前驱体的研究进展被引量：4
《真空科学与技术学报》2015年第10期1282-1290,共9页国政 陈强 王正铎 桑利军 杨丽珍 葛新昱 刘忠伟 
北京市属高等学校高层次人才引进与培养计划项目(CIT&TCD201404130);北京市教育委员会科技计划面上项目(KM201510015002);2014北京市本科生科学研究计划项目资助
随着微电子领域的快速发展,用于集成电路中器件互连的铜薄膜要求具有无缺陷并且高纯度等特征。本文介绍了利用化学气相沉积技术与原子层沉积技术沉积铜薄膜工艺的研究;特别是,综述了铜-卤素、β-二酮、烷氧、脒基、胍基、环戊二烯基等...
关键词：铜薄膜 前驱体 化学气相沉积 原子层沉积 
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