雷青松

作品数：16被引量：39H指数：4
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供职机构：华中科技大学光学与电子信息学院更多>>
发文主题：磁控溅射透过率衬底温度陶瓷靶材金刚石膜更多>>
发文领域：理学电子电信动力工程及工程热物理文化科学更多>>
发文期刊：《半导体技术》《真空与低温》《半导体光电》《材料导报（纳米与新材料专辑）》更多>>
所获基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
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本征层工艺参数对微晶硅太阳电池开路电压的影响
《微电子学与计算机》2013年第8期94-97,102,共5页陈阳洋 雷青松 曾祥斌 何俊刚 薛俊明 孙小虎 
采用甚高频等离子化学增强气相沉积系统(VHF-PECVD)制备器件质量级本征微晶硅薄膜,研究薄膜的光电性质和结晶性质.结果表明:随硅烷浓度增加,薄膜材料的光敏性增加,晶化率减小;辉光功率增加,薄膜材料的光敏性减小,晶化率增加.将本征微晶...
关键词：微晶硅 硅烷浓度 辉光功率 开路电压 
研究生课堂教学新的教学模式探讨被引量：2
《课程教育研究》2013年第28期256-256,共1页徐静平 刘璐 雷青松 
华中科技大学高水平国际化课程建设项目资助
本文阐述了研究生课堂教学方式改革的必要性，结合《集成微电子器件》的教学，提出了一种新的教学模式——教师课堂讲授与研究生专题演讲相结合，分析了该教学模式的优点。在培养研究生的创新能力、独立分析问题和解决问题的能力、学术...
关键词：教学改革 微电子技术 专题演讲 能力培养 
衬底温度对MOCVD-ZnO薄膜特性的影响被引量：4
《人工晶体学报》2012年第6期1494-1497,共4页孙小虎 雷青松 曾祥斌 薛俊明 鞠洪超 陈阳洋 
利用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)生长技术,制备本征ZnO薄膜,并研究薄膜的结构、形貌及光电等性能。结果表明:衬底温度对ZnO薄膜的微观结构、电学、光学及表面形貌等有显著影响。在衬底温度为180℃时获得电阻率为2.17×10-2Ω.cm。平...
关键词：MOCVD 绒面ZnO薄膜 衬底温度 太阳电池 
用于薄膜太阳能电池的非晶硅锗制备与性能研究被引量：5
《人工晶体学报》2012年第6期1514-1518,共5页程碧胜 雷青松 徐静平 薛俊明 
利用射频等离子体增强化学气相沉积工艺(RF-PECVD)制备非晶硅锗薄膜,研究氢稀释率和衬底温度对薄膜光电性能的影响。通过二者的优化制备出光学带隙1.5 eV、光敏性6×104的高质量非晶硅锗薄膜。在此基础上制备出效率为6.65%的非晶硅锗(a-...
关键词：非晶硅锗 氢稀释率 衬底温度 太阳能电池 
用于8051微控制器的片上调试系统的硬件设计被引量：2
《计算机与数字工程》2011年第9期142-146,共5页肖哲靖 徐静平 雷青松 钟德刚 
国家自然科学基金项目(编号:60976091)资助
为工业用8051微控制器设计了一个片上调试系统,将调试功能集成到单片机芯片内部。该系统基于专用集成电路的设计流程设计,不仅具有控制8051单片机挂起、正常运行、单步运行和指令跳转的能力,而且能够读写片内寄存器、内外部数据,程序存...
关键词：片上调试系统 微控制器 仿真器 指令 寄存器 
一种用于温补晶振的EEPROM修调电路设计被引量：4
《微电子学与计算机》2011年第6期100-104,共5页沈红莉 徐静平 钟德刚 雷青松 
国家自然科学基金资助项目(60976091)
设计了一种用于温度补偿晶体振荡器(TCXO)的数字修调电可擦除只读存储器(EEPROM)电路.该电路具有正常工作模式和RAM WRITE、EEPROM WRITE、EEPROM READ三种测试模式,用于TCXO中模拟补偿电压的修调.在SMIC 0.35μm工艺下,采用HSPICE工具...
关键词：TCXO 修调电路 EEPROM寄存器 
磁控溅射中工艺参数对ZnO:Al薄膜性能的影响被引量：2
《半导体光电》2010年第2期256-259,262,共5页徐玮 于军 王晓晶 袁俊明 雷青松 
国家自然科学基金重大项目(90407023)
利用射频磁控溅射法采用氧化锌铝(98%ZnO+2%Al2O3)为靶材在普通载玻片上制备了ZAO(ZnO∶Al)薄膜,研究了溅射功率及溅射气压对薄膜晶体结构、电学和光学性能的影响。利用X射线衍射仪、场扫描电镜对薄膜的结构及表面形貌进行了分析,利用...
关键词：磁控溅射 陶瓷靶材 电阻率 透过率 ZnO∶Al薄膜 
磁控溅射中工艺参数对ZnO:Al薄膜性能的影响被引量：1
《材料导报（纳米与新材料专辑）》2009年第2期387-390,共4页徐玮 于军 王晓晶 袁俊明 雷青松 
国家自然科学基金重大资助项目(90407023)
利用射频磁控溅射法,采用氧化锌铝(98%ZnO+2%Al_2O_3)为靶材,在普通载玻片上制备了ZAO(ZnO:Al)薄膜,研究了溅射功率及溅射气压对薄膜晶体结构、电学和光学性能的影响。采用X射线衍射仪、场扫描电镜对薄膜的结构及表面形貌进行了分析,采...
关键词：磁控溅射 陶瓷靶材 电阻率 透过率 ZNO:AL薄膜 
衬底温度对ZnO：Al薄膜结构和性能的影响被引量：5
《半导体技术》2009年第7期665-668,共4页徐玮 于军 王晓晶 袁俊明 雷青松 
国家自然科学基金重大资助项目(90407023)
利用射频磁控溅射法采用氧化锌铝(98%ZnO+2%Al2O3)为靶材在普通载玻片上制备了ZAO(ZnO:Al)薄膜,研究了衬底温度对薄膜晶体结构,电学和光学性能的影响。利用X射线衍射仪、场扫描电镜对薄膜的结构及表面形貌进行了分析,利用分光光度计和...
关键词：磁控溅射 陶瓷靶材 电阻率 透过率 ZAO薄膜 
沉积压力对磁控溅射纳米硅薄膜结构和性能影响被引量：5
《人工晶体学报》2009年第3期556-560,共5页于军 王晓晶 雷青松 彭刚 徐玮 
国家自然科学基金重大资助项目(No.90407023)
采用射频（RF）磁控溅射方法在玻璃衬底上制备了氢化纳米硅薄膜,研究了沉积压力（4-9 Pa）对薄膜结构和性能的影响。利用XRD、SEM、紫外-可见光分光光度计、傅立叶红外吸收光谱仪（FT-IR）及四探针电阻测试仪等对薄膜结构和性能进行了...
关键词：氢化纳米硅 磁控溅射 沉积压力 光学带隙 
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