张玮

作品数：5被引量：23H指数：4
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供职机构：武汉工程大学更多>>
发文主题：MPCVD化学气相沉积金刚石薄膜供气系统金刚石膜更多>>
发文领域：理学化学工程金属学及工艺一般工业技术更多>>
发文期刊：《硬质合金》《人工晶体学报》《真空与低温》更多>>
所获基金：国家自然科学基金更多>>
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碳化硅陶瓷密封材料上沉积复合金刚石薄膜被引量：4
《人工晶体学报》2015年第4期993-997,共5页张玮 满卫东 林晓棋 吕继磊 阳硕 赵彦君 
国家自然科学基金(11175137;A050610)
利用直流辉光等离子体化学气相沉积（DC-GD CVD）设备在碳化硅（SiC）密封材料上沉积复合金刚石薄膜（ICD）。实验通过两步工艺,先在SiC上沉积一层微米金刚石薄膜（MCD）,然后再沉积一层纳米金刚石薄膜（NCD）形成复合金刚石薄膜（ICD...
关键词：碳化硅 金刚石薄膜 等离子体化学气相沉积 摩擦系数 
Ar对微波等离子体CVD单晶金刚石生长的影响被引量：4
《人工晶体学报》2015年第2期337-341,共5页林晓棋 满卫东 吕继磊 张玮 江南 
国家自然科学基金(11175137)
采用自主研发的5 k W不锈钢谐振腔式MPCVD设备,在Ar/H2/CH4气氛下,保持总气压与CH4气流量不变,研究了不同Ar/H2比例对单晶金刚石生长速度和晶体质量的影响。通过拉曼光谱与高分辨率XRD摇摆曲线,从生长速度与生长质量两点对所得样品进行...
关键词：MPCVD 单晶金刚石 AR 
衬底位置对制备(100)面金刚石薄膜的影响被引量：3
《硬质合金》2013年第6期332-336,共5页张玮 满卫东 林晓棋 游志恒 吕继磊 江南 
国家自然科学基金(11175137/A050610)光学级金刚石厚膜沉积过程晶面取向与缺陷控制机理研究
本文利用5 kW微波等离子体装置,在直径22 mm的石英上沉积金刚石薄膜。实验研究了衬底在不同位置对沉积金刚石薄膜的质量产生的影响。实验中将2块石英衬底编号为A和B,样品A被放在偏离钼基片台中心5 mm的位置,使石英的中间区域偏离等离子...
关键词：微波等离子体 衬底位置 沉积 薄膜 
MPCVD法合成大单晶金刚石的研究进展被引量：4
《硬质合金》2013年第5期288-296,共9页林晓棋 满卫东 张玮 吕继磊 江南 
单晶金刚石具有诸多多晶金刚石所无法替代的优良性能,是新世纪高端技术领域发展所需的重要材料。随着技术的不断改进,MPCVD法合成单晶金刚石的生长速率、质量和尺寸都有了很大的提高。目前,应用最新的MPCVD技术合成的单晶金刚石,其最高...
关键词：MPCVD 金刚石 单晶 LIFT-OFF 马赛克 
衬底对CVD生长石墨烯的影响研究被引量：8
《真空与低温》2013年第4期195-202,213,共9页张玮 满卫东 涂昕 林晓棋 
石墨烯有独特的结构和优异的性能,在电子、信息、能源、材料和生物医药等领域都有着广阔的应用前景。为了更好的应用这种新型材料,如何大规模可控合成高质量石墨烯是一个必须克服的困难。相比与机械剥离法、化学氧化还原法和碳化硅表面...
关键词：石墨烯 化学气相沉积 衬底 生长机理 
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