国家重点基础研究发展计划(51310z)

作品数:7被引量:11H指数:2
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相关作者:李平张树人翟亚红蔡道林邓宏更多>>
相关机构:电子科技大学中国石油大学(华东)更多>>
相关期刊:《材料导报》《功能材料》《压电与声光》《Journal of Semiconductors》更多>>
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MFMIS铁电场效晶体管的制备及存储特性被引量:2
《压电与声光》2008年第2期180-182,共3页蔡道林 李平 张树人 翟亚红 阮爱武 刘劲松 欧阳帆 陈彦宇 
国家"九七三"计划基金资助项目(51310z)
在磁控溅射法制备Pb(Zr0.52Ti0.48)O3(PZT)铁电薄膜的基础上,结合半导体工艺制备了金属/铁电/金属/绝缘层/Si衬底(MFMIS)结构的铁电场效应晶体管。器件的顺时针电容-电压(C-V)特性曲线和逆时针漏电流-栅电压(Id-Vg)特性曲线表明,n沟道PZ...
关键词:磁控溅射 MFMIS 铁电场效应晶体管 存储窗口 
应用于FRAM的集成铁电电容的研究
《压电与声光》2008年第1期42-44,共3页蔡道林 李平 张树人 翟亚红 阮爱武 刘劲松 陈彦宇 欧阳帆 
国家重点基础研究发展计划("九七三"计划)基金资助项目(51310z)
集成铁电电容的制备是铁电存储器的关键工艺之一。该文采用射频(RF)磁控溅射法在Pt/Ti/SiO2/Si制备Pb(Zr,Ti)O3(PZT)薄膜,上下电极Pt采用剥离技术工艺制备,刻蚀PZT薄膜,形成Pt/PZT/Pt/Ti/SiO2/Si集成电容结构,最后高温快速退火。结果表...
关键词:铁电电容 Pb(Zr Ti)O3(PZT)薄膜 铁电存储器 
PZT铁电场效应晶体管电学性能被引量:4
《Journal of Semiconductors》2007年第11期1782-1785,共4页蔡道林 李平 翟亚红 张树人 
国家重点基础研究发展规划资助项目(批准号:51310z)~~
采用磁控溅射法制备了(111)向择优的Pb(Zr0.52Ti0.48)O3(PZT)铁电薄膜,并结合半导体集成技术制备了金属/铁电/金属/多晶硅/绝缘层/Si衬底(MFMIS)结构的n沟道铁电场效应晶体管.研究了铁电场效应晶体管的C-V特性、I-V特性以及写入速度.顺...
关键词:磁控溅射 MFMIS 铁电场效应晶体管 存储窗口 
铁电电容工艺与标准CMOS工艺兼容性研究
《压电与声光》2007年第5期609-611,614,共4页翟亚红 李平 张树人 杨成韬 阮爱武 蔡道林 欧阳帆 陈彦宇 
国家重点基础研究发展计划("九七三"计划)基金资助项目(51310z)
在铁电存储器制备过程中,Pb(Zr0.52Ti0.48)O3(PZT)铁电薄膜需经历多次热处理,铁电电容工艺与标准CMOS工艺的集成加工过程中可能存在交叉污染。对PZT薄膜中的铅在不同温度下的挥发量进行了测定,在温度为400℃时有0.15×10-6铅挥发。同时...
关键词:PZT薄膜 铁电电容 热处理 铅挥发 跨导 
LaAlO_3顶层结构对LaAlO_3-BaTiO_3铁电超晶格薄膜性能的影响被引量:1
《材料导报》2007年第4期155-156,共2页刘云杰 郝兰众 李燕 邓宏 
国家973基础研究基金资助项目(51310z);山东省自然科学基金资助项目(O2006A09)
X射线衍射技术分析发现,通过生长一层较厚的LaAlO3顶层结构,可以把LaAlO3-BaTiO3超晶格中界面处的应变有效地控制在薄膜中,从而增加超晶格薄膜的平均面外晶格常数c。电学性能测试证明LaAlO3顶层结构的存在极大地改善了超晶格薄膜的电学...
关键词:超晶格 应变 X射线衍射 剩余极化强度 
LaAlO_3/BaTiO_3超晶格薄膜的生长及结构分析被引量:4
《功能材料》2005年第3期346-347,共2页郝兰众 李燕 邓宏 刘云杰 姬洪 张鹰 
国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(51310z)
采用激光脉冲分子束外延技术,在(100)取向的SrTiO3 单晶基片上成功外延生长了LaAlO3/Ba TiO3 超晶格薄膜。在超晶格薄膜生长过程中,采用高能电子衍射技术(RHEED)对LaAlO3/BaTiO3 超晶格薄膜的生长过程以及平面晶格变化进行了分析。通过...
关键词:LaAlO3/BaTiO3 超品格薄膜 RHEED 临界厚度 
LaAlO_3/BaTiO_3超晶格薄膜界面结构分析被引量:1
《材料导报》2005年第2期103-105,共3页郝兰众 李燕 邓宏 刘云杰 姬洪 
国家973基础研究基金(基金编号:51310z)
通过研究发现,利用激光分子束外延技术生长的 LaAlO_3/BaTiO_3超晶格薄膜具有良好的电学性能,其剩余极化可达到25μc/cm^2。性能决定于结构,因此本文分析研究了 LaAlO_3/BaTiO_3超晶格薄膜的界面结构。首先通过高能电子衍射技术在薄膜...
关键词:超晶格 薄膜生长 剩余极化 小角X射线衍射 界面结构 计算机拟合 BATIO3 研究 性能 微结构 
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