离子束增强沉积

作品数:103被引量:247H指数:8
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相关领域:金属学及工艺电子电信更多>>
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离子束增强沉积TiN薄膜的研究被引量:1
《真空科学与技术》1998年第4期308-312,共5页向伟 赖祖武 罗四维 方仁昌 李文治 
利用多功能离子束增强沉积设备,采用三种不同工艺方法制备TiN薄膜,并对制备的TiN薄膜进行了AES,XPS,XRD,RBS和TEM等分析。结果表明:所制备的薄膜都有很好均匀性,TiN薄膜处在压应力状态;在溅射沉积的同时,在0~20keV范围内,N+...
关键词:离子束增强沉积 离子轰击 薄膜 氮化钛 
IBED Si_3N_4和TiN薄膜的成份、结构与摩擦学性能被引量:1
《表面工程》1996年第3期2-7,共6页庄大明 刘家浚 朱宝亮 李文治 张绪寿 杨生荣 
本文考察了工艺参数对离子束增强沉积(IBED)氮化硅、氮化钛薄膜的成分和微观组织的影响。测定了薄膜的硬度以及薄膜与基体之间结合力,分析了成分和结构与薄膜的硬度和结合力的关系。考察了在不同载荷和速度条件下St_3N_4、TiN薄膜和5...
关键词:离子束增强沉积 IBED 氮化硅 氮化钛 陶瓷薄膜 摩擦学性能 结构 
离子束增强沉积Si─N膜
《中国有色金属学报》1996年第3期115-118,共4页罗广南 李文治 李恒德 
用离子束增强沉积方法制备了SiN薄膜,其中Si由一束Ar离子从Si靶上溅射下来,在溅射沉积的同时,以一束N离子轰击正在沉积的膜层,于是获得了SiN膜。采用卢瑟福背散射、红外光谱和透射电镜对膜层的成分和结构进行了分...
关键词:离子束增强沉积 氮化硅膜 薄膜 
轰击能量对离子束增强沉积Cr-N薄膜微观结构和硬度的影响被引量:2
《真空科学与技术》1996年第1期5-9,共5页王兵 赖祖武 江崇滨 李文治 贺小明 
采用离子束增强沉积(IBED)技术,在不同能量氮离子的辅助轰击下制备了Cr-N薄膜;通过SEM观察、XRD分析和显微硬度测定,发现离子轰击能量对Cr-N薄膜的表面形貌、相组成和硬度有显著的影响:随着能量的升高,膜表面形貌由岛形颗粒状...
关键词:离子束增强沉积 轰击能量 氮化铬 薄膜 
离子束增强沉积制备TiB_2薄膜及其性能研究
《真空科学与技术》1995年第3期185-189,共5页况园珠 尤大伟 白新德 尤引娟 
国家自然科学基金
用离子束增强沉积法(IBED)在硅及铜基体上沉积了TiB2薄膜,研究了轰击离子束能量和束流对薄膜的微结构及力学性能的影响。用俄歇电子谱(AES)分析了膜的成分及其界面状况,用X射线衍射(XRD)研究了膜的微结构,并测定了膜的硬度及...
关键词:离子束增强沉积 二硼化钛薄膜 晶化 
离子束增强沉积技术新进展
《真空科学与技术》1994年第4期280-286,共7页尤大纬 李文治 
介绍离子束增强沉积镀膜技术的国内外主要机型及工艺进展,特别是我们实验室离子束增强镀膜新工艺的进展。
关键词:离子束注入 物理气相沉积 离子束增强沉积 
CH_4离子束增强沉积对TiC薄膜显微硬度的影响机制被引量:3
《金属学报》1994年第7期B318-B322,共5页刘长洪 李文治 李恒德 
国家自然科学基金;国家科委八六三项目
研究了双离子束沉积TiC薄膜的形成.离子束反应溅射膜的显微硬度比CH_4高子束增强沉积膜的显微硬度高.XPS,TEM和AES分析表明后者硬度低的一个重要原因是CH_4离子束轰击引入过量的自由碳原子.
关键词:碳化钛薄膜 离子束沉积 硬度 
不同磨损载荷下类金刚石碳膜的抗摩擦磨损性能
《表面工程》1994年第2期22-26,共5页贺小明 李文治 
本文采用离子束增强沉积技术在GCr15钢基面上沉积类金刚石碳膜,并通过不同磨损载荷下的圆盘—圆销摩擦磨损实验研究证明:磨损载荷等于2N时,类金刚石膜的摩擦系数最小为0.05,当磨损载荷不大于20N时,类金刚石碳膜呈现有高抗磨损指...
关键词:GCR15钢 摩擦磨损性能 磨损系数 载荷 离子束增强沉积 圆盘 过渡区 摩擦系数 抗磨损 
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