极紫外投影光刻

作品数：20被引量：75H指数：7
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相关作者：金春水曹健林杨雄曹宇婷王向朝更多>>
相关机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所中国科学院上海光学精密机械研究所中国科学院研究生院北京理工大学更多>>
相关期刊：《光子学报》《光谱学与光谱分析》《科学通报》《光学精密工程》更多>>
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32nm节点极紫外光刻掩模的集成研制被引量：9
《光学学报》2013年第10期320-326,共7页杜宇禅 李海亮 史丽娜 李春 谢常青 
国家自然科学基金(61107032;61275170)
报道了国内首块用于极紫外投影光刻系统的6inch(1inch=2.54cm)标准极紫外光刻掩模。论述了32nm节点6inch标准极紫外光刻掩模的设计方案,及掩模衬底、反射层、吸收层材料的工艺特性研究,对缺陷控制及提高掩模效率的方法进行了分析。运用...
关键词：X射线光学 极紫外投影光刻 掩模 电子束光刻 32 nm节点 时域有限差分法 
极紫外投影光刻掩模阴影效应分析被引量：8
《光学学报》2012年第8期42-46,共5页曹宇婷 王向朝 步扬 刘晓雷 
国家自然科学基金(60938003)资助课题
极紫外(EUV)投影光刻掩模在斜入射光照明条件下,掩模成像图形位置和成像图形特征尺寸(CD)都将随入射光方向变化,即存在掩模阴影效应。基于一个EUV掩模衍射简化模型实现了掩模阴影效应的理论分析和补偿,得到了掩模(物方)最佳焦面位置和...
关键词：光学制造 极紫外投影光刻 掩模 阴影效应 严格电磁场仿真 
极紫外投影光刻接触孔掩模的快速仿真计算被引量：9
《光学学报》2012年第7期53-57,共5页曹宇婷 王向朝 步扬 
国家自然科学基金(60938003)资助课题
采用一个极紫外投影光刻掩模衍射简化模型实现了三维接触孔掩模衍射场的快速仿真计算。基于该模型,得到了接触孔掩模衍射场分布的解析表达式,并对光刻成像时的图形位置偏移现象进行了解释和分析。简化模型中,掩模包括吸收层和多层膜两...
关键词：光栅衍射 极紫外投影光刻 薄掩模模型 严格电磁场仿真 
极紫外投影光刻掩模衍射简化模型的研究被引量：10
《光学学报》2011年第4期42-48,共7页曹宇婷 王向朝 邱自成 彭勃 
国家自然科学基金(60938003);国家科技重大专项项目(2008ZX02501-006;2009ZX02205-001)资助课题
建立一个计算极紫外投影光刻掩模衍射场的简化模型,在该简化模型中通过对入射光场进行追迹推导衍射场分布的解析表达式。简化模型中的掩模包括多层膜结构和吸收层结构两部分。多层膜结构的衍射近似为镜面反射。吸收层结构的衍射利用薄...
关键词：衍射 极紫外投影光刻 薄掩模模型 时域有限差分算法 
极紫外投影光刻物镜设计被引量：7
《光学学报》2009年第9期2520-2523,共4页杨雄 邢廷文 
极紫外投影光刻用14 nm波长的电磁辐射,可以在实现高分辨率的同时保持相对较大的焦深,有希望成为制造超大规模集成电路的下一代光刻技术。极紫外投影光刻工作于步进扫描方式,采用全反射、无遮拦、缩小的环形视场投影系统。无遮拦投影系...
关键词：光学设计 物镜 光刻 极紫外 
CO_2,O_2,CF_4液体微滴喷射靶激光等离子体光源光谱被引量：2
《光谱学与光谱分析》2008年第11期2465-2468,共4页尼启良 陈波 
国家自然科学基金项目(60677043;40774098)资助
基于软X射线辐射计量和极紫外投影光刻(EUVL)应用,研制了一台使用纳秒激光器的液体微滴喷射靶激光等离子体(LPP)极紫外光源。该光源由一个可连续控温的不锈钢电磁喷气阀门、YAG激光器和能同步控制喷气阀门和激光器的脉冲发生器组成。使...
关键词：液体微滴喷射靶 激光等离子体光源 极紫外投影光刻 
光学系统、成像与分析
《中国光学》2008年第3期5-5,共1页
关键词：光学系统 极紫外投影光刻 光学成像系统 反射系统 光电工程 相位板 离焦 国家重点实验室 大景深 优化方法 
极紫外投影光刻掩模的多层膜与照明误差被引量：5
《光子学报》2006年第5期667-670,共4页杨雄 金春水 张立超 
应用光学国家重点实验室资助项目
讨论了极紫外投影光刻掩模的反射光谱随多层膜参量的变化,通过曲线拟合得到了峰值反射率、带宽和中心波长与多层膜粗糙度、材料比值以及周期厚度的9个函数关系·模拟了6镜极紫外投影光刻系统的反射光谱,并计算了晶圆片处的相对照明强度...
关键词：薄膜光学 极紫外投影光刻 掩模 照明误差 
偏心孔阑离轴照明EUVL微缩投影物镜的设计及模拟装调
《光学仪器》2003年第4期39-43,共5页林强 金春水 向鹏 马月英 裴舒 曹健林 
国家自然科学基金重点项目 ( 6993 80 2 0 );中国科学院创新基金项目
针对极紫外投影光刻 ( Extreme Ultraviolet Lithography,简称 EUVL)工作波长短的特点及由此带来的一些问题 ,对 EUVL微缩投影物镜的结构参数进行分析选择 ,设计了离轴照明方式的 Schwarzschild微缩投影成像物镜。利用基于奇异值分解的...
关键词：极紫外投影光刻 EUVL 投影物镜 离轴照明 牛顿迭代法 敏感矩阵 计算机辅助装调 集成电路 
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