计算机模拟研究

作品数：418被引量：1253H指数：15
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接近式光刻的计算机模拟研究被引量：3
《微细加工技术》2003年第2期43-48,共6页田学红 刘刚 田扬超 张新夷 张鹏 
国家重点基础研究发展规划(973)资助项目(G1999033109)
在接近式光刻中,衬底上的光强分布主要是受掩模与衬底间的间隙引起的衍射影响。一般的模拟分析中,都是利用菲涅尔近似模型进行分析。根据光的标量衍射理论,分析了菲涅尔近似模拟的误差起源,并对菲涅耳近似模型进行了修正,得到了更加准...
关键词：接近式光刻 计算机模拟 标量衍射理论 菲涅尔近似模型 类菲涅耳近似模型 
光学邻近效应的计算机模拟研究
《微细加工技术》1998年第1期11-18,共8页黄晓阳 杜惊雷 郭永康 孙国良 
国家自然科学基金;光电所微细加工光学技术国家重点实验室基金
本文以部分相干光的衍射理论为基础，分析了掩模结构参量对衍射场分布的影响，讨论了光学邻近效应产生的物理机理，确定了其有效作用范围，为研究光学邻近效应校正打下了基础。
关键词：部分相干 光学邻近效应 计算机模拟 
同步辐射X射线光刻计算机模拟研究被引量：1
《微细加工技术》1997年第3期14-19,共6页谢常青 叶甜春 陈梦真 
军用微电子重点预研资助
利用BeamPropagationMethod（BPM）方法研究了深亚微米同步辐射X射线光刻中的掩模吸收体的光导波效应，并且利用瑞利-索末非理论对光刻胶表面的空间像光强分布进行了计算。研究结果表明基尔霍夫边界条件不宜用于计算0.25μm以下光刻分...
关键词：X射线光刻 分辨率 同步辐射 计算机模拟 光刻 
投影光刻技术的计算机模拟研究被引量：4
《微细加工技术》1996年第4期23-31,共9页范建兴 冯伯儒 张锦 周崇喜 
投影光刻技术的计算机模拟分为三部分：空间像强度分布计算，曝光计算和显影计算。本文分别讨论了各部分数学模型的建立，计算方法及特点，并给出了一些研究结果。
关键词：投影光刻 计算机模拟 光刻技术 
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