光刻机

作品数：727被引量：1067H指数：15
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HBM产业链及投资机会梳理
《股市动态分析》2024年第24期9-11,共3页无 
HBM产业链主要涵盖上游的材料和设备厂商,中游的IDM厂商,下游的CPU/GPU/TPU等厂商。上游设备商主要提供生产HBM所需的原材料和设备,如硅晶圆、光刻机、刻蚀机等;中游制造商则负责将原材料加工成HBM芯片,包括晶圆制造、切割、封装等环节...
关键词：固态硬盘 数据中心 晶圆制造 原材料加工 光刻机 HBM 产业链 应用领域 
光刻机工件台前馈补偿器参数整定方法
《清华大学学报（自然科学版）》2023年第10期1640-1649,共10页刘涛 杨开明 朱煜 
国家科技重大专项(2017ZX02102004)。
前馈控制器是光刻机工件台在高加减速工况下实现纳米级运动精度的关键环节。该文针对传统情况下四阶前馈拟合逆模型能力较差、难以完全消除参考轨迹导致重复性误差的问题,提出了一种以四阶前馈为基础,外加有理分式补偿器的前馈控制架构...
关键词：前馈控制 有理前馈控制器 补偿前馈 数据驱动 参数整定 工件台 
应用于数字光刻机的DMD数据处理及控制系统
《现代信息科技》2023年第18期129-132,共4页陈海巍 
无掩膜数字光刻机已在PCB光刻及半导体光刻领域逐渐开始应用,相比传统掩膜式光刻机,可缩减光刻流程,节省光刻成本,使光刻数据在线实时调整变得更为简单。而DMD(数字微镜器件)目前作为数字光刻机常用的一种SLM(空间光调制)图形发生器,对...
关键词：DMD 数字光刻 扫描 数据处理 控制 
面孔
《中国高新区》2022年第12期19-19,共1页
刘世元:成功研发计算光刻EDA软件“OPC是EDA(电子设计自动化)工业软件的一种,没有这种软件,即使有光刻机,也造不出芯片。从基础研究到产业化应用,我们团队整整走了十年。十年磨一剑,就是要解决芯片从设计到制造的卡脖子问题。”
关键词：产业化应用 OPC EDA软件 光刻机 芯片 
沟槽晶圆调焦调平测量工艺适应性分析被引量：3
《中国设备工程》2021年第13期125-127,共3页蓝科 陈雪影 刘逍 
沟槽晶圆为后道封装光刻工艺中常见的一类待检测晶圆,其上表面具有结构复杂的纵横沟槽,且导致沟槽边缘的光刻胶分布不均匀,增加了光学调焦调平传感器(FLS)垂向位置测量的工艺复杂度。本文详细介绍了基于线阵CCD的FLS测量沟槽晶圆出现调...
关键词：光刻机 调焦调平传感器(FLS) 沟槽晶圆 工艺适应性 
应用于光刻机掩模台的自适应前馈控制
《控制工程》2021年第6期1069-1074,共6页谈恩民 石婷婷 张志钢 张霖 
为了解决光刻机掩模台控制系统中模型参数的不确定性,提出一种带有自适应前馈的运动控制算法。该算法主要特点是以控制器的实际输出与估计输出之间的估计误差最小为优化目标,利用递推最小二乘法在线自动更新前馈系数,使前馈系数更为准...
关键词：自适应前馈 最小二乘法 光刻机掩模台 运动控制 
基于Nios Ⅱ的光刻机运动台电机驱动控制系统设计
《桂林电子科技大学学报》2020年第6期498-504,共7页庞权岗 胡放荣 张文涛 石公含 
国家自然科学基金(11574059);广西自然科学基金(2018GXNSFAA050043);国家科技重大专项(2017ZX02101007-003);广西自动检测技术与仪器重点实验室基金(YQ16101)。
为了给光刻机运动台控制系统架构升级提供可靠方案,设计了基于Nios Ⅱ的光刻机运动台电机驱动控制系统。采用FPGA内嵌Nios Ⅱ软核,通过Quartus Ⅱ软件中的Qsys和功能平台Nios ⅡSBT实现电机驱动控制系统硬件电路和软件程序设计。内核部...
关键词：NiosⅡ软核 电机驱动 控制 FPGA 架构升级 光刻机 
纳米光刻调焦调平传感器光电探测系统设计被引量：4
《仪表技术与传感器》2020年第12期6-9,15,共5页龚士彬 谢冬冬 武志鹏 宗明成 
国家科技重大专项(2017ZX02101006-003)。
针对光刻机调焦调平传感器的高实时性数据采集的设计需求,设计了一种多通道同步采集的光电探测系统。该系统使用FPGA作为数据处理和逻辑控制核心,实现了21个通道测量数据的实时采集和高速传输,与硅片台位置同步以保证测量数据与被测位...
关键词：光刻机 调焦调平 探测系统 同步性 实时数据采集 多通道 
各类型光刻机对准标记设计分析被引量：1
《电子元器件与信息技术》2020年第10期7-8,共2页李秋 苏婷 
国内芯片缺口比较大,每年从国外进口的芯片超过石油行业,达到三千亿美金以上,半导体芯片目前是国家重点关注的行业,在半导体制造链条中光刻是最核心的一道工序,而光刻机是最核心的设备。本文对各类型光刻机的对准标记进行分析,希望能够...
关键词：半导体 光刻 特征尺寸 
光刻机精密运动框架的一体化设计与3D打印制造
《现代制造技术与装备》2020年第6期17-18,23,共3页刘剑 高琼 
作为新兴的制造技术,3D打印不仅是产品创新的利器,更是高端装备制造的重要研究方向。研究遵循电子束熔覆工艺特点,以零件结构与功能需求为正向切入点,借助CAD和CAE工具,对光刻机工件台现有精密运动框架进行二次设计。理论计算表明:与原...
关键词：电子束熔覆 二次设计 运动框架 模态 
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