光学光刻

作品数：103被引量：209H指数：8
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相关领域：电子电信更多>>
相关作者：谢常青刘明陈大鹏童志义陈宝钦更多>>
相关机构：中国科学院微电子研究所中国科学院信越化学工业株式会社四川大学更多>>
相关期刊：《微细加工技术》《中国集成电路》《电子科技文摘》《电子显微学报》更多>>
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新世纪光刻技术及光刻设备的发展趋势被引量：21
《微电子技术》2001年第2期8-17,共10页苏雪莲 
本文主要阐述了光刻技术的发展极限及 193nm、 157nm光学光刻技术和电子束投影光刻 (SCALPEL)、X -射线光刻 (XRL)离子投影光刻 (IPL)等技术的发展趋势。并详细介绍了国际著名品牌的光刻机以及即将推出的新一代光刻机。对国内光刻设备...
关键词：光刻技术 光刻设备 电子束投影光刻 光学光刻 
下一代光学掩模制造技术被引量：3
《微电子技术》2000年第6期1-4,共4页谢常青 
尽管其它光刻技术在不断快速发展，然而在０．１３μｍ及０．１３μｍ以下集成电路制造水平上，光学光刻仍然具有强大的生命力。随着光学光刻极限分辨率的不断提高，当代光学掩模制造技术面临着越来越严重的挑战。本文对下一代光学掩模...
关键词：光学光刻 光学邻近效应 移相掩模 光学掩模 制造技术 
193nm光学光刻技术被引量：4
《微电子技术》1999年第4期9-12,共4页谢常青 叶甜春 
目前看来，193nm光学光刻很有希望应用到0．13μm集成电路工业生产中去。本文从光源、照明系统、掩模、光刻胶、光刻机等方面对193nm光学光刻技术进行了分析，并介绍了它目前的一些进展情况，最后对它的应用前景进行了简要分析。
关键词：193nm光源 照明系统 掩模 光刻胶 光刻机 
销售市场87亿美元的光刻机
《微电子技术》1998年第3期41-41,共1页荣莹 
关键词：销售市场 步进光刻机 电路要求 光学光刻 信息网络 半导体生产 成本因素 特征尺寸 复杂性 步进机 
远紫外光刻现状及未来
《微电子技术》1997年第2期10-17,共8页童志义 
本文主要过评了光学光刻技术在由0．35μmat艺向0．25μm工艺阶段转移的技术革命中所面临的挑战，以及远紫外光刻所处的地位，现状及今后的发展趋势。
关键词：光学光刻 远紫外曝光 0.25μm工艺 集成电路 
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