氮化钛

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相关领域:金属学及工艺一般工业技术更多>>
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相关机构:中国科学院北京科技大学中芯国际集成电路制造(上海)有限公司清华大学更多>>
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NH3等离子体预处理对PECVD产生的TiN涂层性能的影响
《等离子体应用技术快报》2000年第11期20-22,共3页乐天 
关键词:氨等离子体预处理 PECVD 氮化钛涂层 高速钢 
不同尺寸PACVD反应器内工艺参数对TiN生长的影响
《等离子体应用技术快报》2000年第10期21-23,共3页马兵 
关键词:PACVD反应器 工艺参数 氮化钛 薄膜 沉积 
注入Al离子后的TiN膜的高温氧化
《等离子体应用技术快报》1999年第11期15-15,共1页宏民 
关键词:铝离子 氮化钛薄膜 离子注入 高温氧化 
应用于TiN薄膜沉积的环形等离子体源
《等离子体应用技术快报》1999年第9期8-11,共4页李乐 
关键词:氮化钛 薄膜沉积 等离子体源 
聚碳酸酯基体上的TiN低温成膜
《等离子体应用技术快报》1998年第12期21-23,共3页晓菁 
关键词:聚碳酸酯 基体 氮化钛 薄膜 金属喷镀 
对PⅢ处理的氧化铌膜和氮化钛膜的硬度研究
《等离子体应用技术快报》1997年第10期14-16,共3页欣欣 
关键词:氧化铌 氮化钛 硬度 等离子体 离子注入 薄膜 
利用热反应性等离子体沉积TiN薄膜
《等离子体应用技术快报》1997年第6期5-6,共2页豫民 
关键词:石墨基体 热反应等离子体 氮化钛 薄膜沉积 
用脉冲等离子体CVD生成低Cl浓度的TiN薄膜
《等离子体应用技术快报》1997年第5期8-9,共2页民民 
关键词:脉冲等离子体 CVD 氯浓度 氮化钛 薄膜 
多层结构PVCDTi—TiN涂层的沉积和机械性能
《等离子体应用技术快报》1997年第2期14-16,共3页豫东 
关键词:金属涂层 PVCD 氮化钛 涂层 机械性能 
Ti(Y)N涂层的制备和性能
《等离子体应用技术快报》1997年第2期16-16,共1页豫民 
关键词:氮化钛 涂层 等离子体 
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