李惠军

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集成电路工艺仿真系统TSUPREM-Ⅳ
《半导体技术》2000年第3期34-36,63,共4页李惠军 
SUPREM系列集成电路工艺模拟系统是当今国际上用户群最大的集成电路工艺计算机辅助设计系统。本文介绍该系列系统的最新版本 TSUPREM-Ⅳ。
关键词：集成电路 计算机模拟 工艺仿真系统 TSUPREM-Ⅳ 
集成电路制造技术多媒体计算机辅助教学系统
《半导体情报》2000年第2期55-57,共3页李惠军 张新 郝修田 陈惠凯 
介绍了集成电路制造技术多媒体计算机辅助教学系统的功能及开发。
关键词：集成电路 计算机辅助教学 课程软件 
PMOS栅氧化过程中杂质分凝的计算机模拟
《山东工业大学学报》1999年第4期380-384,共5页李惠军 张新 郝修田 陈惠凯 
山东省科委资助
以 Ｐ Ｍ Ｏ Ｓ结构为研究对象，对其绝缘栅栅氧化的动态过程进行了计算机模拟，进而提出了可以抑制杂质分凝效应的栅氧化新模式该成果对 Ｐ沟道 Ｍ Ｏ
关键词：微电子 PMOS结构 计算机模拟 栅氧化 杂质分凝 
CAD技术类课程CAI课件的开发与教学实践
《军事通信技术》1999年第2期51-54,共4页崔龙江 李强 李惠军 
计算机辅助教学(简称CAI)的突出特点是常规课堂教学所无法取代的,其教学优势越来越多地被人们特别是高等院校所认识。本文以微电子CAD(计算机辅助设计)技术课程的CAI课件开发为例,结合三年来的教学实践.总结了CAD技术类课程的CAI课件的...
关键词：计算机辅助设计 CAD 计算机辅助教学 CAI 
OS界面杂质分凝的计算机辅助分析
《山东科学》1999年第2期42-45,共4页李惠军 张新 
研究了绝缘栅栅氧化过程中的杂质分凝效应。
关键词：OS界面 计算机辅助分析 MOS器件 杂质分凝 
氧化过程中杂质分凝行为的模拟
《山东科学》1999年第1期48-50,共3页李惠军 
本文以ＰＭＯＳ结构为研究对象，对其绝缘栅栅氧化过程进行了计算机动态模拟。提出了抑制杂质分凝的栅氧化新模式。
关键词：微电子技术 MOS结构 绝缘栅 栅氧化 杂质分凝 
PMOS FET栅氧化五步新模式——抑制PMOS栅氧化杂质分凝的计算机模拟
《半导体技术》1998年第6期35-40,共6页李惠军 陈惠凯 
采用一维工艺及器件ＣＡＤ系统对ＰＭＯＳ结构栅氧化工艺实施联机模拟，并推出新型的三步转五步栅氧化模式。模拟及实验证实，该模式可显著抑制ＰＭＯＳ结构栅氧化过程中的杂质分凝。
关键词：PMOS 分凝效应 计算机模拟 FET 栅氧化 
PC WINDOWS一维硅微电子集成工艺及器件CAD和CAI交互系统
《半导体情报》1998年第4期36-38,共3页李惠军 
微电子ＣＡＤ（计算机辅助设计）和ＣＡＩ（计算机辅助教学）ＦＯＲＷＩＮＤＯＷＳＰＣ交互系统的开发成功，对微电子ＣＡＤ技术的推广应用及高等学校的教学应用等各方面有着极其重要的作用，本文介绍了该系统开发思路、功能结构、科研...
关键词：微电子技术 计算机辅助设计 计算机辅助教学 
CAD技术在微电子工艺设计及器件特性分析中的应用被引量：2
《半导体情报》1998年第1期35-41,共7页李惠军 王凤英 
集成电路工艺及器件特性计算机辅助设计系统是微电子ＣＡＤ系统的重要组成部分。本文介绍了该系统在集成电路工艺设计及器件设计中的部分应用。
关键词：集成电路 计算机辅助设计 制造工艺 
MOS结构衬底电阻率ρ对阈值电压V_T动态调制的计算机模拟被引量：3
《半导体技术》1996年第3期22-25,共4页李惠军 马瑞芬 张宝财 刘乃英 
使用ＭＳ－ＰＣ工艺模拟ＣＡＤ系统对绝缘栅Ｐ－ＭＯＳ结构栅氧过程中衬底电阻率ρ（掺杂浓度）与ＭＯＳ结构阈值电压ＶＴ之间的因变关系进行了动态模拟。定量地考查了栅氧层制备过程中杂质的分凝效应对阈值电压ＶＴ的影响。计算机模拟...
关键词：工艺模拟 场效应 阈值电压 半导体器件 CAD 
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