柳翠

作品数：10被引量：31H指数：3
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供职机构：大连理工大学材料科学与工程学院三束材料改性教育部重点实验室更多>>
发文主题：类金刚石碳膜等离子体磁控溅射类金刚石膜等离子体源更多>>
发文领域：一般工业技术理学金属学及工艺核科学技术更多>>
发文期刊：《真空科学与技术学报》《真空》《材料热处理学报》《功能材料》更多>>
所获基金：国家高技术研究发展计划国家自然科学基金更多>>
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90°弯管磁过滤阴极弧沉积类金刚石膜的特性分析被引量：1
《材料科学与工艺》2007年第4期537-540,共4页柳翠 李国卿 苟伟 王丽阁 张成武 Sik-Chol Kwon Jong-Joo Rha 
国家高技术计划资助项目(2001AA338010)
利用动态机械热分析仪研究了四种镁硅合金的阻尼性能.研究表明:铸造镁硅合金具有良好的阻尼性能.并且体现出有别于纯镁的新阻尼特征,铸造镁硅合金具有较纯镁在更大应变振幅范围内的弛豫型内耗.由于Mg2Si对晶界的钉扎作用,界面阻尼峰出...
关键词：铸造 镁硅合金 显微组织 阻尼性能 阻尼机理 
射频辉光放电自偏压对类金刚石碳膜结构和性能的影响被引量：2
《真空科学与技术学报》2006年第z1期143-145,161,共4页楚信谱 苟伟 李国卿 柳翠 
采用高压探头示波器系统研究了射频辉光放电参数对自偏压的影响规律.结果发现自偏压随着射频功率平方根而线性增加,随纯Ar和Ar,C2H2混合气体气压的降低而降低,自偏压随C2H2的比率增大而增加,而且,射频输入功率在500和700 W下,由射频辉...
关键词：自负偏压 射频放电 类金刚石碳膜 RAMAN光谱 
TiNi合金表面沉积类金刚石薄膜的性能评价被引量：2
《功能材料》2005年第8期1223-1225,共3页崔琳 柳翠 齐民 李国卿 
国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2002AA326010)
类金刚石膜作为新型的生物材料得到了广泛的关注。本实验制备的薄膜为典型的类金刚石膜,膜层比较致密、均匀和光滑。膜层硬度随离子束能量变化,在束电源为750V附近出现峰值,硬度达到了15GPa,该膜的摩擦系数为0.124。在Troyde’s模拟体...
关键词：TINI合金 类金刚石膜 离子束 表面改性 表面性能 
钛离子注入类金刚石碳膜的结构与性能的研究被引量：12
《功能材料》2005年第2期301-303,共3页柳翠 苟伟 牟宗信 李国卿 
国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2001AA338010)
使用金属离子注入的方法制备了 Ti掺杂的DLC膜。采用原子力显微镜观察了薄膜的表面形貌,Ti掺杂后 DLC 膜的表面粗糙度明显减小,表面光洁度增加,颗粒细化。拉曼光谱分析表明实验获得的薄膜是典型的DLC膜,掺杂Ti后的 DLC膜的拉曼光谱存在...
关键词：无机非金属材料 类金刚石碳膜 金属离子注入 钛掺杂 
掺铒Al_2O_3薄膜的性能与制备
《真空电子技术》2004年第6期11-14,18,共5页黄开玉 李国卿 柳翠 高景生 宋琦 王丽阁 
国家863项目(2001AA338010)
简述了几种Al2O3薄膜的制备方法,使用中频孪生靶非平衡磁控溅射系统制备了掺铒Al2O3薄膜,并对其进行检测,结果表明该方法制备的薄膜适于制作光纤放大器。
关键词：掺铒 AL2O3薄膜 光致发光 中频 磁控溅射 
脉冲磁过滤阴极弧等离子体制备四面体非晶碳膜被引量：1
《真空》2004年第4期114-116,共3页张成武 李国卿 柳翠 关秉羽 
国家 8 6 3计划 (2 0 0 1AA 3380 10 )
介绍了脉冲磁过滤阴极电弧法制备四面体非晶碳膜 (tetrahedral am orphous carbon即 ta- C) ,并对制得的薄膜表面形貌、硬度、电阻等进行了测试。结果表明 ,脉冲磁过滤阴极电弧法制备的 ta- C膜有优良的性能。拉曼光谱分析显示 ,制得的...
关键词：脉冲磁过滤阴极电弧法 四面体非晶碳膜 ta-C膜 拉曼光谱 偏压 类金刚石膜 
不锈钢等离子体源离子渗氮-多弧离子镀膜复合技术被引量：3
《材料热处理学报》2004年第4期57-59,共3页苟伟 李国卿 柳翠 王亮 
国家高技术研究发展计划 863资助项目(2 0 0 1AA3380 1 0 )
在较高真空度条件下 (10 - 1 Pa)对奥氏体不锈钢进行等离子体源离子渗氮 多弧离子镀膜复合表面改性 ,并采用X射线衍射、金相显微镜、电子探针等手段分析了薄膜的结构和成分 ,探讨了复合处理过程中的组织结构变化。结果表明 :380℃离子渗...
关键词：等离子体源 离子渗氮 多弧离子镀 不锈钢 
非平衡磁控溅射沉积系统伏安特性模型研究被引量：1
《物理学报》2004年第6期1994-1999,共6页牟宗信 李国卿 车德良 黄开玉 柳翠 
非平衡磁控溅射沉积系统的伏安特性对阴极溅射和薄膜沉积过程具有重要的影响 .通过分析在常规磁控溅射沉积系统中非平衡磁场对于放电过程的影响 ,根据蔡尔得定律研究了非平衡磁场对磁控溅射沉积系统伏安特性影响的基本规律 ;
关键词：等离子体 非平衡磁控溅射沉积系统 金属薄膜 伏安特性 同轴约束磁场 磁场分布 
非平衡磁控溅射类金刚石碳膜的性能被引量：7
《材料研究学报》2004年第2期171-175,共5页柳翠 李国卿 张成武 李新 
国家八六三计划新材料领域2001AA338010;国家自然科学基金50135040
用非平衡磁控溅射的方法在室温下制备了光滑、均匀、致密的类金刚石(DLC)薄膜,分析和研究了DLC膜的形貌、结构和摩擦特性.结果表明,靶工作电流对DLC膜的沉积有重要的影响.随着工作电流的增大,薄膜的沉积速率增大,薄膜中sp^3键的含量增加...
关键词：无机非金属材料 类金刚石碳膜 非平衡磁控溅射 性能 
有开放约束磁场磁控溅射系统等离子体引出被引量：3
《真空科学与技术》2003年第4期243-247,共5页牟宗信 李国卿 柳翠 贾莉 张成武 
在磁控溅射系统阴极靶施加同轴可调约束磁场显著改善了系统放电特性。研究了在Ar气放电系统伏安特性随不同的气压、溅射电压变化规律。采用同轴平面探针诊断距阴极 60mm、1 1 0mm和 2 30mm三个不同位置收集电流密度 ,负偏压 1 50V。实...
关键词：等离子体 薄膜 磁控溅射/非平衡 
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