何光宗

作品数:7被引量:14H指数:2
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供职机构:华中光电技术研究所更多>>
发文主题:磁控溅射硫化锌红外基底类金刚石膜更多>>
发文领域:理学电子电信一般工业技术自动化与计算机技术更多>>
发文期刊:《光学与光电技术》更多>>
所获基金:国家重大科学仪器设备开发专项更多>>
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反中波透长波红外分束膜的设计与制备研究
《光学与光电技术》2017年第3期61-64,73,共5页孙义可 何光宗 熊长新 
国家重大科学仪器设备开发专项(2013YQ290489)资助项目
设计了45°入射反中波透长波分束膜系,并进行了误差仿真分析。选用"Ge+ZnS"和"ZnS+YF3"两组高、低折射率材料,采用离子辅助电子束蒸发技术,经过大量的镀制实验与工艺改进,解决了薄膜应力累积、不牢固、波长易偏移等问题,获得了45°入射...
关键词:红外 分束膜 离子辅助沉积 环境试验 
大面积硫化锌窗口红外保护膜设计与制备被引量:1
《光学与光电技术》2015年第5期71-74,共4页何光宗 贺芳 熊长新 韩放 王航 张天行 
硫化锌是重要的大尺寸红外光学窗口材料之一。根据硫化锌材料的工艺特性,采用了"减反过渡层+类金刚石膜"的复合结构,对膜系的光学性能进行了优化设计。采用离子束辅助蒸发和化学气相沉积的复合工艺在大面积的硫化锌基底上沉积了红外保...
关键词:红外保护膜 大面积硫化锌窗口 离子束蒸发 化学气相沉积 环境适应性 
组合结构的中波红外带通滤光片研制被引量:6
《光学与光电技术》2015年第4期83-86,共4页王航 熊长新 何光宗 
采用长短波通膜系组合结构,对膜系光学性能进行了优化设计以及仿真分析。采用电子束蒸发,离子束辅助沉积工艺在Si基底两面分别沉积长短通膜。样品的透过率采用红外光谱仪测试,在3.7~4.2μm波段范围内平均透过率在80%以上,在3~3...
关键词:中波红外 截止带 长波通 短波通 电子束蒸发 
硫化锌基底硬质红外保护薄膜技术研究被引量:3
《光学与光电技术》2015年第3期50-53,共4页张天行 李钱陶 何光宗 熊长新 
国家重大科学仪器设备开发专项现场级多波段红外成像光谱仪开发和应用(2013YQ290489)资助项目
硫化锌在3~5μm和7.7~9.3μm两个波段具有较高透过率,但其脆性大、耐摩擦性能较差,在其表面镀制类金刚石膜保护膜可显著提高其使用性能。直接在硫化锌基底沉积类金刚石膜难以实现,采用匹配层与过渡层的设计思想,制备出类金刚石膜与硫化...
关键词:硫化锌 类金刚石膜 硬度 过渡层 
靶压对磁控溅射GeC薄膜折射率的影响被引量:2
《光学与光电技术》2009年第4期27-29,共3页何光宗 熊长新 李钱陶 吴小丽 
采用磁控溅射技术,以碳氢气体和氩气为工作气体,在Ge基底上制备了GeC薄膜。研究了靶压对薄膜折射率的影响,发现在较高的靶压下制备的GeC薄膜具有较低的折射率,而在较低的靶压下则得到了高折射率的薄膜。通过控制溅射靶压,制备了折射率在...
关键词:靶压 GeC薄膜 磁控溅射 折射率 
常温溅射DLC膜的工艺研究
《光学与光电技术》2009年第4期30-32,共3页吴小丽 熊长新 李钱陶 何光宗 
常温下,采用磁控溅射技术成功地在Ge基底上制备了类金刚石膜,并研究了溅射功率、碳氢气体与氩气流量比、溅射频率、基底负偏压等工艺参数对类金刚石膜沉积速率的影响和薄膜的光学性能。结果表明:溅射功率、溅射频率、碳氢气体与氩气流...
关键词:磁控溅射 类金刚石膜 沉积速率 透过率 
氧离子辅助反应蒸发法制备ITO薄膜的研究被引量:2
《光学与光电技术》2007年第1期71-74,共4页何光宗 熊长新 姚细林 
采用氧离子辅助电子束反应蒸发工艺在K9玻璃基底上制备了性能优异的ITO薄膜。通过对薄膜方块电阻和透过率的测量分析,研究了基底温度、离子束流、沉积速率等工艺参数对ITO薄膜光电性能的影响。发现升高基底温度有利于减小薄膜的短波吸...
关键词:ITO薄膜 氧离子辅助 反应蒸发 
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