中频磁控溅射

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中频磁控反应溅射氧化硅(SiO_(x))薄膜绝缘性的研究
《真空》2023年第2期34-38,共5页张汉焱 郑丹旭 沈奕 陈玉云 
广东省企业科技特派员项目(GDKTP2021033800)。
本文采用兆欧表测量电阻的方法,研究了中频磁控溅射氧化硅(SiO_(x))薄膜的绝缘性。利用XRD和FTIR对薄膜进行了表征。结果表明:溅射产物为无定型SiO_(x);兆欧表探针接触薄膜瞬间的电阻Ri与FTIR图谱位于900cm^(-1)波数附近的吸收峰a和760c...
关键词：中频磁控溅射 氧化硅薄膜 绝缘性 电阻 傅里叶变换红外光谱 含氧量 
第二十一讲 真空卷绕镀膜
《真空》2022年第1期86-88,共3页张以忱 
(接2021年第6期88页)3.4中频磁控卷绕镀膜中频磁控卷绕镀膜是利用中频磁控溅射技术来实现卷绕镀膜的方法。中频交流磁控溅射通常采用两个尺寸大小和外形相同的靶并排布置或相对摆放,称为孪生靶。将双极脉冲中频电源的二个输出端连接到...
关键词：卷绕镀膜 中频磁控溅射 二次电子 孪生靶 中频电源 中频交流磁控溅射 负电位 绝缘层 
中频磁控溅射制备氧化钨薄膜及电致变色性能研究被引量：2
《真空》2021年第5期50-56,共7页魏梦瑶 王辉 韩文芳 王红莉 苏一凡 唐春梅 代明江 石倩 
广东特支计划资助(2019BT02C629);广东省自然科学基金团队项目(2016A030312015);广东省科学院科技创新发展专项(2018GDASCX-0402);广州市科技计划项目(202007020008)。
采用中频磁控溅射方法,在氧化铟(ITO)玻璃上采用氧化钨(WO_(3))陶瓷靶沉积薄膜,研究溅射气压对WO_(3)薄膜结构与光学性能的影响规律,并对其电致变色行为进行了探讨。采用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)分析了WO_(3)薄膜的成分结...
关键词：WO_(3)薄膜 中频磁控溅射 电致变色 溅射气压 循环寿命 
基于LCC谐振逆变器的中频磁控溅射电源在等离子体镀膜工艺中的应用被引量：1
《真空》2018年第1期35-39,共5页李民久 姜亚南 贺岩斌 熊涛 陈庆川 
中频磁控溅射镀膜具有成膜均匀,膜重复性好,靶材不易中毒等诸多优点,适用于大规模生产,因此应用广泛。中频磁控溅射技术在电源的设计和应用方面非常重要,目前较为成熟的是正弦波和脉冲方波两种输出方式。本文阐述了正弦波输出方式的基于...
关键词：中频磁控溅射 LCC 正弦波 等离子体 
第十九讲 真空溅射镀膜被引量：1
《真空》2018年第1期68-72,共5页张以忱 
中频反应溅射系统最好同时采用等离子体发射光谱监控系统，并快速响应反应气体供气，使溅射过程更加稳定和反应布气更加均匀。中频磁控溅射双平面靶的PEM控制系统和控制原理如图92和图93所示。
关键词：溅射镀膜 等离子体发射光谱 中频磁控溅射 真空 反应气体 监控系统 溅射系统 快速响应 
铀表面中频磁控溅射离子镀铝的组织结构与界面特性研究
《真空》2016年第4期14-17,共4页刘清和 王庆富 陈林 郎定木 管卫军 肖红 
采用中频磁控溅射离子镀技术在贫铀表面以不同脉冲偏压制备了铝镀层,利用X射线衍射仪和扫描电镜对镀层的组织结构进行了表征,利用扫描电镜与俄歇电子能谱仪对镀层与基体的界面特性进行了研究。结果表明:铝镀层为面心立方结构;镀层平整...
关键词：贫铀 铝镀层 中频磁控溅射离子镀 组织结构 界面特性 
中频磁控溅射TiAlN薄膜的制备与性能研究
《真空》2014年第2期56-59,共4页谭刚 赵广彬 廖凤娟 罗磊 安小建 何迪 
"高档数控机床与基础制造装备"科技部重大专项(2009ZX04012-23)资助;四川省特种材料及制备技术重点实验室经费资助
采用中频非平衡磁控溅射离子镀技术在硬质合金基体YG6上制备TiAlN薄膜。利用XRD、EDS、体式显微镜、显微硬度仪和多功能材料表面性能测试仪等对其组织结构以及性能进行了研究分析。结果表明:低Al靶功率时,膜层以TiN、TiC形式存在,TiN的...
关键词：TIALN薄膜 非平衡磁控溅射 中频溅射 
离子源对磁控溅射制备TiNC膜基结合力的影响
《真空》2012年第1期78-82,共5页钱锋 林晶 刘树红 
由于膜基附着力不好,膜层脱落问题是工业生产中磁控溅射镀制黑膜最常见的问题。本实验采用阳极线性离子源和霍尔点源辅助磁控溅射复合技术制备了TiNC薄膜,探讨解决TiNC膜基附着力不好的问题。初步实验结果表明,离子束辅助沉积对于改善...
关键词：阳极层离子源 膜基附着力 TiNC 中频磁控溅射 
磁控溅射WS_2薄膜的制备工艺及其性能被引量：3
《真空》2011年第2期25-27,共3页宋玉波 代明江 余志明 韦春贝 侯惠君 肖晓玲 
广东省自然科学基金项目(07006996A)
采用孪生中频磁控溅射的方法在低温条件下制备了WS2薄膜,利用X-射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDX)、显微硬度仪、划痕仪和球盘式摩擦磨损试验机对薄膜的物相结构、微观形貌以及摩擦学性能进行了研究。结果表明:所制备...
关键词：WS2薄膜 中频磁控溅射 低温 摩擦系数 
电源工作模式对中频磁控溅射沉积速率的影响被引量：1
《真空》2009年第1期37-41,共5页王军生 童洪辉 赵嘉学 戴彬 
国家自然科学基金(10675044)
在中频孪生靶磁控溅射实验装置上,研究了电源恒压、恒流、恒功率工作模式下沉积速率与气压、电参数之间的关系,得出不同工作模式下电压、电流、功率及频率、占空比对沉积速率的影响:恒流模式下沉积速率稳定性最好,恒压最差;气压变化时,...
关键词：磁控溅射 电源工作模式 沉积速率 
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