纳米压印光刻

作品数:48被引量:105H指数:6
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SUSS光刻机实现大面积纳米压印光刻
《电子工业专用设备》2008年第10期77-77,共1页
SUSS Micro Tec,全球领先的三维、MEMS、先进封装、纳米压印设备供应商,于日前宣布,其手动光刻机,外加一个纳米压印的组件,即可对大面积图形重复进行亚50nm的压印。
关键词:纳米压印光刻 光刻机 面积 MICRO 设备供应商 MEMS TEC 封装 
向32nm迈进的光刻技术
《电子工业专用设备》2007年第4期8-16,共9页童志义 
概述了用于45nm节点的各种光刻技术发展现状及技术路线,结合国际半导体技术发展指南(ITRS)和各公司最新宣布的研究成果,探讨了各种光刻技术用于32nm节点的可能性。
关键词:浸液式光刻 折射率 双重曝光 极紫外光刻 纳米压印光刻 曝光设备 
用于聚合物基微流体MEMS的等离子体活性晶圆键合技术(英文)
《电子工业专用设备》2006年第1期46-51,共6页Dr. Sharon Farrens Paul Kettner Thomas Glinsner 
Lab-on-chip或μ-TAS(micro—total arialysis systems)结合流体处理、检测及数据分析,是一种便携式的低成本高效器件。在微流体应用中,聚合物具有比硅或玻璃器件更明显的优势,它包括:宽泛的材料选择性,成本低、效率高,使用任...
关键词:纳米压印光刻 热压印 干法活化 等离子体活化 聚合物键合 
下一代光刻技术被引量:4
《电子工业专用设备》2005年第11期27-33,共7页佟军民 胡松 余国彬 
介绍了下一代光刻技术的演变,重点描述了浸没式光刻技术、极端远紫外光刻技术、纳米压印光刻技术和无掩模光刻技术的基本原理、技术优势、技术难点以及研发,并展望了这几种光刻技术的前景。
关键词:下一代光刻技术 浸没式光刻技术 极端远紫外光刻技术 纳米压印光刻技术 无掩模光刻技术 
纳米压印光刻模版制作技术被引量:6
《电子工业专用设备》2005年第2期26-32,共7页范东升 谢常青 陈大鹏 
973(G200036504);国家自然科学基金资助项目(60236010)
在下一代光刻技术中,光刻的成本越来越高,这使得工业界开始寻找新的技术。纳米压印作为非光学的下一代光刻技术,具有分辨率高、成本低、产率高等诸多优点,因而可能应用于将来的半导体制造中。同时,纳米压印也可以用于微机电系统(MEMS)...
关键词:纳米压印 模版制作 防粘连处理 
下一代光刻技术的设备被引量:7
《电子工业专用设备》2004年第10期35-38,共4页翁寿松 
下一代光刻技术是指≤32nm工艺节点的光刻技术。介绍了下一代光刻技术与设备,包括X射线光刻技术、极紫外线光刻技术和纳米压印光刻技术等。
关键词:下一代光刻技术 X射线光刻技术 极紫外线光刻技术 纳米压印光刻技术 
纳米压印光刻技术——下一代批量生产的光刻技术(英文)被引量:2
《电子工业专用设备》2004年第7期3-9,共7页R.Pelzer P.Lindner T.Glinsner B.Vratzov C.Gourgon S.Landis P.Kettner C.Schaefer 
纳米压印光刻技术已被证实是纳米尺寸大面积结构复制的最有前途的下一代技术之一。这种速度快、成本低的方法成为生物化学、μ级流化学、μ-TAS和通信器件制造以及纳米尺寸范围内广泛应用的一种日渐重要的方法,如生物医学、纳米流体学...
关键词:纳米压印技术 热压印 紫外压印 电铸光刻 
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