云南高校图书馆联盟文献共享服务平台- 硅化钛

硅化钛: 作品数：36被引量：49H指数：4; 导出分析报告; 相关领域：电子电信一般工业技术更多>>; 相关作者：杜丕一翁文剑韩高荣杜军赵高凌更多>>; 相关机构：浙江大学中国科学院苏州莱特复合材料有限公司日本碍子株式会社更多>>; 相关期刊：《材料科学与工艺》《北京师范大学学报（自然科学版）》《硅酸盐学报》《电子学报》更多>>; 相关基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划中国航空科学基金湖北省教育厅重点项目更多>>

等离子喷涂碳化钛-硅化钛涂层的组织结构与性能被引量：3: 《材料研究与应用》2022年第1期136-141,共6页马玉夺杨勇王磊王彦伟邵宇轩崔宇航孙文韦王星宇; 国家自然科学基金(52072110);河北省自然科学基金(E2018202034)。; 研究直接喷涂和反应喷涂合成的两种碳化钛-硅化钛复合涂层的组织结构与性能.通过等离子喷涂技术将两种不同复合粉(TiC-TiSi_(2)和Ti-SiC)分别喷涂在TC4钛合金表面制备成碳化钛-硅化钛复合涂层,利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、万能拉...; 关键词：等离子喷涂 Ti-SiC 反应合成碳化钛-硅化钛复合涂层划痕性能

Si/Ti_xSi_y复合物的合成及其锂离子电池负极性能研究被引量：3: 《分子科学学报》2017年第6期460-465,共6页张文婷汤兑海霍启升; 国家自然科学基金青年科学基金资助项目(21601128);无机合成与制备化学国家重点实验室(吉林大学)开放课题资助项目(2017-14);生物质材料科学与技术教育部重点实验室开放基金资助项目(SWZCL2016-15);沈阳师范大学校内优秀人才支持计划资助项目(054-51600210);辽宁省高校重大科技平台"能源与环境催化工程技术研究中心"资助项目;辽宁省油气资源高效转化与洁净利用重点实验室资助项目;辽宁省油气资源高效转化与洁净利用工程研究中心资助项目; 通过机械球磨和高温热处理合成得到Si和Ti_xSi_y纳米颗粒复合物Si/Ti_xSi_y,并对该化合物进行X射线能谱(EDX)、X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)和扫描电子显微镜(SEM)表征.合成的Si/Ti_xSi_y和机械球磨的Si/TiO_2都被用于锂离子电...; 关键词：硅化钛硅负极锂离子电池机械球磨 Si/TixSiy复合材料

一种用于亚微米多晶栅TiSi电阻优化的方法: 《电子与封装》2014年第1期41-43,47,共4页王敏妲孙建洁陈海峰; 在亚微米工艺中,多晶栅TiSi工艺是降低接触电阻的常用方法。但是TiSi的生长与衬底的掺杂浓度相关,对多晶栅的掺杂剂量有很高的要求。由于光刻工艺中存在的套刻偏差,使得后续源漏注入剂量会在多晶栅上有所偏差,影响了后续TiSi在多晶栅上...; 关键词：硅化钛多晶栅掩蔽层

硅化钛场板的工艺条件与特性研究: 《电子与封装》2013年第10期33-35,共3页许帅徐政吴晓鸫; 场板的制备工艺与特性研究对提高RF LDMOS大功率器件的可靠性与耐高压性有重要意义。文中制备了一种"Si衬底-SiO2-多晶-硅化钛-金属"结构的场板,分析了其工艺条件对特性的影响,并优化其工艺条件。实验表明:PESiO2加200 nm的多晶介质层...; 关键词：硅化钛场板 CV特性稳定性

常压化学气相沉积法制备Ti_5Si_3薄膜及其镀膜玻璃被引量：4: 《硅酸盐学报》2009年第10期1694-1699,共6页黄燕飞任招娣沈美杜军魏德法马宁杜丕一; 国家自然科学基金(50672084)资助项目; 以制备兼具阳光控制和低辐射功能的镀膜玻璃为目的,以硅烷与四氯化钛为反应前驱体,氮气为保护气体和稀释气体,通过常压化学气相沉积法模拟玻璃浮法在线镀膜工艺,在玻璃基板上成功制备了Ti5Si3薄膜,用X射线衍射、场发射扫描电子显微镜、...; 关键词：常压化学气相沉积法硅化钛红外反射透射率电阻率

硅化钛薄膜的制备与应用被引量：3: 《电镀与涂饰》2007年第9期29-32,35,共5页徐向勤杜军; 金属硅化物因其薄膜电阻率低,熔点高,化学性质稳定,在微电子领域具有广阔的使用前景。本文系统地阐述了硅化钛的性质、制备方法(包括自对准硅化物技术及CVD技术)及其应用。对硅化钛在集成电路中的应用进行了重点介绍。; 关键词：硅化钛薄膜微电子集成电路

晶相形成对TiSi_2薄膜光学性能的影响被引量：2: 《太阳能学报》2006年第12期1185-1190,共6页杜军杜丕一韩高荣翁文剑汪建勋郝鹏黄燕飞; 国家自然科学基金(5037205750332030);国家高技术研究发展计划(863)(2004AA32G040); 通过常压CVD方法由SiH4和TiCl4直接在玻璃基板上成功制备了TiSi2薄膜，用XRD、FESEM、四探针测阻仪和分光光度计研究了薄膜的结构、形貌、电学和光学性能。研究表明TiSi2薄膜的晶相是面心正交刊TiSi2；薄膜的电阻率直接由晶相的形成决...; 关键词：常压化学气相沉积硅化钛薄膜电阻率

SOI自对准硅化钛工艺研究被引量：1: 《辽宁大学学报（自然科学版）》2005年第3期257-259,共3页石广源王莉宋哲永福张丽王芳; 沈阳市科委科研项目(1032029-2-06); 阐述了SOI硅化钛的相关问题,采用两步快速热退火工艺形成低电阻的TiSi2,通过实验得出2次快速热退火的最佳时间和温度,形成良好的SOI自对准硅化钛工艺.; 关键词：SOI 硅化钛自对准工艺

常压化学气相沉积法在玻璃上制备TiSi2薄膜的研究被引量：1: 《真空科学与技术学报》2005年第z1期68-71,共4页杜军杜丕一韩高荣翁文剑汪建勋; 国家自然科学基金(No.50372057和No.50332030)和国家高技术研究发展计划(863)(No.2004AA32G040)资助; 高导电性TiSi2薄膜对低频电磁波有高反射率.在玻璃基片上成功制备TiSi2薄膜有望开发形成一种新型低辐射镀膜玻璃.本文结合工业在线和大面积生产的特点,以常压化学气相沉积法研究了TiSi2在玻璃基板上生长、制备及其与性能间的关系.研究发...; 关键词：化学气相沉积硅化钛薄膜

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