叶凡

作品数：10被引量：12H指数：2
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供职机构：深圳大学更多>>
发文主题：场发射载流子迁移率衬底附着性射频溅射更多>>
发文领域：电子电信理学一般工业技术建筑科学更多>>
发文期刊：《功能材料与器件学报》《物理学报》《真空与低温》《Journal of Semiconductors》更多>>
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应用Ti掺杂提高VO_(2)薄膜太阳光红外能量调制能力
《安庆师范大学学报（自然科学版）》2022年第1期35-42,共8页曾蓝萱 李慧 戚家华 刘毅 叶凡 蔡兴民 范平 张东平 
国家自然科学基金(62175158)。
二氧化钒薄膜独特的半导体-金属相变特性使其在智能窗等领域有着广阔的应用前景。该研究采用直流反应共溅射技术沉积二氧化钒薄膜,通过调节Ti靶的放电电流,实现了VO_(2)薄膜不同量的Ti掺杂。并用X射线衍射仪、微区拉曼光谱仪、扫描电子...
关键词：二氧化钒 Ti掺杂 相变 红外调制率 
智能节能窗用二氧化钒薄膜磁控溅射技术研究
《真空与低温》2020年第5期361-368,共8页张东平 何其聪 戚家华 刘毅 蔡兴民 叶凡 钟爱华 范平 
深圳市科技计划项目(JCYJ20180305124038881)。
二氧化钒是一种在68℃附近具有金属-绝缘体可逆相变的新颖材料,相变前后对红外光分别呈现出高透与高反的特性,是智能节能窗的理想材料。文章针对应用于智能节能窗二氧化钒薄膜磁控溅射中存在的主要问题,综述了近年来该领域发展的一些新...
关键词：二氧化钒薄膜 磁控溅射 相变温度 沉积温度 
氮流量对掺氮氧化亚铜薄膜性能的影响
《深圳大学学报（理工版）》2019年第5期525-530,共6页邱奕斌 陈倩倩 叶凡 蔡兴民 张东平 范平 
国家自然科学基金资助项目(61674107);深圳市科技计划资助项目(JCYJ20170302150335518);深圳市重点实验室资助项目(ZDSYS20170228105421966)~~
氧化亚铜在光伏及光催化等领域有潜在应用,掺氮能增加其空穴浓度从而提高电导率,但氮在氧化亚铜的状态仍未被深入研究.在溅射压强等参数不变的条件下,逐步增加氮气流量,制备了一系列纯相的氮掺杂的氧化亚铜,并用X射线衍射、台阶仪、扫...
关键词：凝聚态物理学 氧化亚铜 氮掺杂 磁控溅射 光电性能 薄膜性质 
AlGaN纳米线的化学气相沉积制备及表征
《深圳大学学报（理工版）》2015年第6期638-644,共7页蔡兴民 苏小强 叶凡 王欢 梁广兴 郑壮豪 罗景庭 张东平 范平 
国家自然科学基金资助项目(61204010);深圳市基础研究资助项目(CYJ20120613102126217)~~
以Ga、金属Al颗粒或AlCl3·6H2O粉末及NH3为原料,利用化学气相沉积法生长AlxGa1-xN纳米线.研究发现,气体的流速、基底有无催化剂、原材料及生长温度等都对其生长有影响.在总流量固定的前提下,较高的NH3流量比会在基底上生长出致密的AlxG...
关键词：无机非金属材料 低维材料 化合物半导体 纳米线 化学气相沉积 光致发光 
氮氧化铪薄膜在不同衬底上的场发射性能
《功能材料与器件学报》2008年第4期844-847,共4页王晓明 谢二庆 叶凡 段辉高 周明 
利用直流溅射法在Si、Zn、Ni三种不同衬底上沉积HfNxOy薄膜并测试了其场发射性能。扫描电子显微镜(SEM)显示HfNxOy薄膜表面由纳米颗粒组成,X射线衍射(XRD)说明薄膜中含有HfN和HfO2两种相。场发射测试结果显示,和金属衬底上的薄膜相比,S...
关键词：直流溅射 HfNxOy薄膜 场致电子发射 
InN纳米线的低压化学气相沉积及其场发射特性研究被引量：2
《物理学报》2007年第4期2342-2346,共5页叶凡 蔡兴民 王晓明 赵建果 谢二庆 
国家自然科学基金(批准号:60176002)资助的课题.~~
利用低压化学气相沉积方法在以Au作催化剂的Si衬底上生长了InN纳米线.扫描电子显微镜分析表明,这些纳米线的直径在60—100nm的范围内,而其长度大于1μm.高分辨透射电子显微镜图像表明,合成的纳米线中含有六方相和立方相的InN晶体.这些In...
关键词：InN纳米线 场电子发射 非线性Fower-Nordheim曲线 
稀土金属硅化物的场发射
《Journal of Semiconductors》2006年第z1期202-204,共3页段辉高 谢二庆 叶凡 王晓明 
用金属蒸发真空弧离子注入方法制备了各种稀土金属的硅化物,定义1μA/cm2时的电场为开启电场,发现它们的开启电场在15～20V/μm之间.用电子束对其进行退火处理后,开启电场降到10V/μm以下,而场发射密度可以提高一个数量级.它们良好的场...
关键词：稀土金属硅化物 场发射 FN曲线 
HfOxNy的场发射特性被引量：1
《Journal of Semiconductors》2006年第z1期208-210,共3页段辉高 谢二庆 叶凡 蒋然 王晓明 
用直流溅射和高温退火相结合的方法制备了HfOxNy薄膜并测试了其场发射性能,发现其具有较低的开启电场、较大的发射电流密度以及很好的发射稳定性.高压"锻炼"对提高HfOxNy场发射性能起着关键作用,这与高压"锻炼"下薄膜内部结构和表面性...
关键词：HfOxNy 场发射 高压"锻炼" 
类金刚石和碳氮薄膜的电化学沉积及其场发射性能研究被引量：4
《物理学报》2005年第8期3935-3939,共5页叶凡 谢二庆 李瑞山 林洪峰 张军 贺德衍 
利用电化学方法在室温下成功地沉积了类金刚石(DLC)薄膜和非晶CNx薄膜,并对制备条件进行了讨论.通过扫描电子显微镜、傅里叶变换红外光谱技术,分析了薄膜的表面形貌和化学结合状态.场发射测量结果表明:DL膜和非晶CNx的开启场分别为8·8...
关键词：类金刚石 碳氮薄膜 电化学沉积 场发射性能 
多孔β-SiC薄膜的蓝光发射被引量：5
《Journal of Semiconductors》2003年第9期942-945,共4页张志敏 谢二庆 林洪峰 马紫微 叶凡 贺德衍 
国家自然科学基金资助项目 (批准号 :6 0 176 0 0 2 )~~
通过射频溅射的方法在单晶硅衬底上沉积了 β SiC薄膜 ,用HF酸 (40 % )和C2 H5OH(99% )的混合溶液对 β SiC薄膜进行了电化学腐蚀处理 ,形成了多孔 β SiC(PSC)薄膜 .利用荧光分光光度计研究了样品的光致发光 (PL)特性 ,用原子力显微镜 ...
关键词：电化学腐蚀 多孔SiC薄膜 蓝光发射 PL SEM 
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