中国航空科学基金(04G53043)

作品数：12被引量：37H指数：4
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CVD金刚石衬底上抗氧化、增透膜的制备与性能被引量：4
《硅酸盐学报》2010年第10期1891-1895,共5页闫锋 刘正堂 巨志高 
航空科学基金(04G53043)资助项目
采用射频磁控反应溅射法在化学气相沉积(chemical vapor deposition,CVD)的金刚石衬底上制备了AlN薄膜以及AlN/Si和AlN/Ge膜。通过X射线衍射分析了衬底加热温度对薄膜微结构的影响和薄膜高温下的氧化行为。结果表明:在衬底加热温度低于...
关键词：射频磁控反应溅射 氮化铝薄膜 抗氧化 增透 高温热暴露 
退火处理对Y_2O_3薄膜结构和光学性能的影响被引量：1
《材料导报》2010年第16期12-14,28,共4页闫锋 刘正堂 刘文婷 刘其军 
航空科学基金资助项目(04G53043)
采用射频磁控溅射法以Y2O3陶瓷为靶材在单晶Si(111)和石英表面制备了Y2O3薄膜。利用X射线衍射(XRD)仪、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见(UV-VIS)光谱仪和傅立叶变换红外(FTIR)光谱仪对真空退火前后Y2O3薄膜的结构和光学性质进行了分析...
关键词：Y2O3薄膜 晶体结构 退火处理 透过率 光学带隙 
GeC薄膜的射频磁控反应溅射制备及性质被引量：2
《物理学报》2008年第10期6587-6592,共6页李阳平 刘正堂 刘文婷 闫峰 陈静 
国家航空科学基金(批准号:04G53043)资助的课题~~
用射频磁控反应溅射法在ZnS衬底上制备了GeC薄膜,研究了工艺参数对Ge靶溅射及GeC薄膜红外透射性能的影响.衬底温度较低时GeC薄膜中含有H,形成了CH2,CH3,Ge-CH3等,使薄膜产生红外吸收;随衬底温度升高,薄膜红外吸收明显减小.靶基距、射频...
关键词：GeC薄膜 红外透射光谱 射频磁控溅射 XPS 
退火对Y_2O_3薄膜结构和电学性能的影响被引量：4
《材料导报》2008年第7期123-125,138,共4页霍会宾 刘正堂 阎锋 
航空科学基金资助项目(04G53043)
采用射频磁控反应溅射法,成功地在n-Si衬底上制备了高κ栅介质Y2O3薄膜。对薄膜在不同温度退火后的结构、成分和电学性能进行了分析研究。结果表明,沉积态薄膜为非晶态,退火后薄膜开始晶化;沉积态薄膜中Y和O元素的原子浓度比基本符合化...
关键词：Y2O3薄膜 退火 漏电流 界面层 
射频磁控反应溅射制备HfO_2薄膜的工艺及电性能被引量：4
《西北工业大学学报》2008年第2期249-253,共5页鹿芹芹 刘正堂 刘文婷 张淼 
航空科学基金(04G53043)资助
采用射频磁控反应溅射法,以高纯Hf为靶材、高纯O2为反应气体,成功地在p型硅衬底上制备了高k栅介质HfO2薄膜,并对薄膜的沉积速率、成分和电学性能进行了研究。结果表明,薄膜沉积速率随射频功率增加而增大,随O2气流量增加而减小,随溅射气...
关键词：磁控反应溅射 HFO2薄膜 沉积速率 C-V特性 
蓝宝石衬底表面SiO2薄膜的应力分析被引量：2
《硅酸盐学报》2008年第2期206-209,共4页冯丽萍 刘正堂 
航空科学基金(04G53043)资助项目。
采用射频磁控反应溅射法分别在Si和蓝宝石衬底上沉积SiO_2薄膜。通过改变沉积薄膜的工艺参数,考察反应气体流量比、沉积温度、射频功率等因素对SiO_2薄膜内应力的影响。采用压痕裂纹法分析了镀膜前后蓝宝石的表面应力。结果表明:制备Si...
关键词：蓝宝石 二氧化硅薄膜 内应力 磁控反应溅射 
射频磁控溅射法制备类金刚石薄膜的研究被引量：6
《机械科学与技术》2007年第10期1277-1280,共4页赵海龙 刘正堂 田浩 李阳平 闫锋 
航空科学基金项目(04G53043)资助
采用射频磁控溅射法,纯Ar溅射石墨靶,制备出了类金刚石薄膜,并对薄膜沉积速率随各工艺参数的变化规律、薄膜结构以及光学性能进行了系统的研究。结果表明,沉积速率随射频功率、CH4流量和溅射气压的增大而增大;随温度的增大呈现先增大后...
关键词：射频磁控溅射 类金刚石薄膜 增透 
HfO2薄膜的制备与光学性能被引量：2
《功能材料》2007年第A01期309-311,共3页刘文婷 刘正堂 许宁 鹿芹芹 闫锋 
基金项目：航空科学基金资助项目（04G53043）
采用射频磁控反应溅射法，以高纯热压HfO2陶瓷为靶材，在Si衬底上成功制备出HfO2薄膜。系统研究了工艺参数对薄膜沉积速率的影响规律，并对薄膜的光学性能进行了研究。结果表明，射频功率对薄膜沉积速率的影响最为明显，O2／Ar流量比和...
关键词：磁控反应溅射 HFO2薄膜 沉积速率 光学性能 
GaP薄膜的射频磁控溅射沉积及其计算机模拟被引量：5
《物理学报》2007年第5期2937-2944,共8页李阳平 刘正堂 赵海龙 刘文婷 闫锋 
航空科学基金(批准号:04G53043)资助的课题~~
以GaP为靶材采用射频磁控溅射法制备GaP红外光学薄膜,通过保持ArⅠ750nm发射光谱线强度不变获得了不同工艺参数,并对沉积过程进行了计算机模拟.功率较小、气压较大时,Ga和P的溅射率、输运效率及沉积到衬底时的能量均较小,Ga的溅射率及...
关键词：GAP 薄膜 射频磁控溅射 计算机模拟 
射频磁控反应溅射法制备Y_2O_3薄膜的工艺研究被引量：1
《机械科学与技术》2006年第11期1362-1364,共3页闫锋 刘正堂 谭婷婷 李强 
航空科学基金项目(04G53043)资助
采用射频磁控反应溅射法制备氧化钇(Y2O3)薄膜。系统研究了工艺参数对Y2O3薄膜沉积速率的影响规律,使用X射线光电子能谱仪(XPS)分析表征了薄膜的成分。结果表明,Y2O3薄膜的沉积速率随射频功率的增大而增大,在合适的溅射压强下沉积速率...
关键词：射频磁控反应溅射 Y2O3薄膜 沉积速率 
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