沈阳芯源微电子设备有限公司

作品数：42被引量：30H指数：3
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发文作者：谷德君卢继奎王绍勇王阳王冲更多>>
发文领域：电子电信自动化与计算机技术文化科学电气工程更多>>
发文主题：晶片晶圆半导体行业涂胶半导体设备更多>>
发文期刊：《军民两用技术与产品》《装备制造技术》《电子工业专用设备》《中国战略新兴产业》更多>>
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自动集中监控系统在集成电路生产线中的应用被引量：1
《中国高新科技》2020年第3期99-100,共2页苗涛 张军 姬小兵 
介绍了自动集中监控系统(AMS)的主要架构、系统特点、监控设备类型和系统组成,通过多种监控分析图表,实现从不同视角监控生产过程状态,并分析了监测结果,证明了该设备监控系统具有较高的准确性和实用性。
关键词：AMS 集成电路 效率图表 
基于回转窑项目的PLC控制系统
《电子技术与软件工程》2019年第4期118-118,共1页纪玲 孙东丰 
本文主要介绍了应用西门子S7-400系列PLC在回转窑控制系统中的应用。回转窑驱动通过电机驱动。控制信号通过人机界面和PLC实现电气设备的启停,仪表参数经过模拟数字转化实现监控,其他厂商的电子皮带秤和变频器并通过PROFIBUS总线将信号...
关键词：可编程控制器(PLC) 回转窑 过程监控 WINCC组态软件 
基于回转窑的PLC控制系统设计
《科技创新导报》2019年第5期63-64,共2页纪玲 孙东丰 
本文主要介绍了西门子S7-300系列PLC在回转窑控制系统中的应用。通过人机界面和PLC实现电气设备的启停、仪表参数监控等,并通过PROFIBUS总线将其他厂商的电子信号连接到系统中。被控参数的闭环调节、控制系统报警和生产过程报警以及数...
关键词：可编程控制器(PLC) 回转窑 过程监控 WINCC组态软件 
TSV-CIS封装技术综述被引量：1
《科技风》2018年第35期67-68,共2页邢栗 王延明 张晨阳 
TSV-CIS封装技术是目前先进的封装技术,它可以有效降低中低端CIS封装成本,使得芯片面积达到最小,实现晶圆级封装。本文简单介绍了TSV-CIS封装技术工艺的背景、结构、工艺流程及沈阳芯源公司可以应用的机台等内容。
关键词：TSV-CIS封装技术 工艺流程 
对涂胶显影机与光刻机内联控制的研究被引量：2
《科技经济导刊》2018年第33期47-48,共2页王绍勇 黄琳琳 
沈阳市重大共性关键技术创新专项(17-92-0-00)
光刻工艺是集成电路制造(前道)过程中的重要环节。在集成电路制造过程中,通常将涂胶显影机与光刻机相连接,进行一体化加工。目前,国产涂胶显影机与光刻机的内联控制在技术资料等资源方面相对匮乏,从机械接口形式、通信协议、调度、故障...
关键词：光刻机 涂胶显影机 内联 
基于MEMS结构的旋转式涂胶、喷雾式涂胶工艺的比较被引量：1
《电子世界》2018年第22期66-67,共2页邢栗 张晨阳 
本文介绍了两种基于MEMS结构的涂胶工艺：旋转式涂胶和喷雾式涂胶工艺。分析了每种工艺方法的特性,包括其优势和缺点。通过比较得到了两种工艺的复杂程度、成本以及应用类型方面的区别,最终得到适宜的涂胶工艺。1.引言目前涂布光刻胶的...
关键词：MEMS结构 涂胶工艺 旋转式 喷雾式 微电子机械系统 应用类型 工艺方法 表面工艺 
应用于MEMS及3D-IC封装中的喷胶技术被引量：1
《电子世界》2018年第20期170-171,共2页张晨阳 邢栗 
随着MEMS制造及3D-IC封装技术的发展,喷胶技术的应用越来越广泛。本文结合实验论述了喷胶技术的发展、应用、优点;分析了影响喷胶工艺质量的因素;并对未来喷胶技术的前景作了一定的展望。实验采用AZ4620光刻胶,对375μm深的TSV孔进行雾...
关键词：封装技术 MEMS 喷胶 应用 IC封装 微电子机械系统 工艺质量 高集成度 
显影工艺及显影喷嘴的应用被引量：3
《中国高新科技》2018年第20期21-23,共3页郭聪 张怀东 
集成电路(IntegratedCircuit,IC)的发明与应用是人类科技发展的重要进程之一。随着半导体科技的进步、工艺的提高,对半导体设备的要求也随之提高。作为IC应用大国,我国正以前所未有的力度发展IC产业,为有自己的"中国芯"而大力发展国产...
关键词：光刻工艺 显影工艺 显影喷嘴 喷洒方式 
显影液用超声波脱气装置
《科技创新导报》2018年第23期108-109,共2页顾永田 程虎 李泽 
我公司显影机台多采用PUDDLE方式进行显影,显影液的供液方式为氮气加压,在氮气加压罐里会不可避免的有气体与显影液混合,在显影液从喷嘴喷出的时候,会有气体析出,在晶圆上形成细小泡沫,影响显影效果。超声波可以在液体中传播并产生空化...
关键词：显影机 供液 脱气装置 
半导体涂胶显影机产能分析被引量：1
《中国新技术新产品》2018年第5期49-50,共2页祁峰 
随着我国科学技术的发展,我国半导体制造行业得到了极大的发展,随着企业的发展,在生产过程中如何使用必要的技术来优化半导体产品的生产研制过程以提升其产能是当前应当进行研究的问题。当前生产的重点是半导体涂胶显影设备,在实际生产...
关键词：半导体 涂胶显影机 产能计算 优化建议 
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