硬盘基板

作品数：16被引量：52H指数：5
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相关期刊：《半导体技术》《硅酸盐学报》《辽宁化工》《微细加工技术》更多>>
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硬盘基板化学机械粗抛光的实验研究被引量：1
《半导体技术》2011年第12期923-928,共6页刘利宾 刘玉岭 王胜利 林娜娜 杨立兵 
国家中长期科技发展规划02科技重大专项(2009ZX02308);河北省自然科学基金资助项目(E2010000077)
针对硬盘NiP/Al基板粗抛光,采用SiO2作为抛光磨料的碱性抛光液,在不同压力、转速、pH值、磨料浓度和活性剂体积浓度下,对硬盘基板粗抛光的去除速率和表面粗糙度的变化规律进行研究,用原子力显微镜观察抛光表面的微观形貌。最后对5个关...
关键词：NiP/Al基板 SiO2磨料 单因素法 化学机械抛光(CMP) 粗糙度 去除速率 
二氧化硅溶胶的制备及其对硬盘基板NiP的抛光速率研究被引量：1
《辽宁化工》2011年第5期449-450,482,共3页孙涛 
离子交换法制备了不同粒径的纳米二氧化硅溶胶,采用TEM、DLS等手段对磨料进行了表征,并以二氧化硅溶胶作为磨料对存储器硬盘基板NiP进行化学机械抛光实验,考察了磨料粒径和数量等因素对存储器硬盘基板NiP的抛光去除速率的影响。
关键词：硅溶胶 磨料 硬盘 化学机械抛光 去除速率 
碱性条件下硬盘基板两步抛光法的实验研究被引量：1
《半导体技术》2010年第1期68-71,共4页孙业林 刘玉岭 刘效岩 魏恒 谢竹石 
国家自然科学基金资助项目(10676008);高等学校博士学科点专项科研基金(20050080007);河北省教育厅科学研究计划项目(2007429);天津市自然科学基金科技展计划项目(0438014211)
在对硬盘基板CMP机理进行分析后,采用河北工业大学研制的计算机硬盘抛光专用碱性抛光液,选择氧化剂添加量、抛光压力两个重要参数分别进行实验,讨论它们在两步抛光方法中的重要作用。总结实验结果后,得出了上述两个参数在两步抛光方法...
关键词：两步抛光法 去除速率 粗糙度 氧化剂 抛光压力 
磨料对计算机硬盘NiP基板CMP质量的影响被引量：2
《河北工业大学学报》2009年第5期81-85,共5页田军 刘玉岭 檀柏梅 牛新环 
高校博士点基金(20050080007);国家自然科学安全联合基金(10676008)
磁盘表面质量直接影响了硬盘的磁存储密度,表面须达到优异的表面光滑度、没有表面缺陷.本文通过对镍磷基板的化学性质分析,讨论了其CMP机理,分析了浆料中的磨料在硬盘基板CMP中的重要性,指出浆料中的磨料不仅起到了机械研磨的作用,同时...
关键词：硬盘基板 CMP 磨料 粗糙度 去除速率 
用碱性纳米SiO2浆料对计算机硬盘NiP基板进行CMP超精密加工的研究
《纳米科技》2009年第1期3-5,78,共4页田军 刘玉岭 唐文栋 张国玲 王立发 
国家自然科学基金（No.10676008）,天津自然科学基金（No.043801211）.教育部博士教育基金（No.20050080007）
采用碱性纳米SiO2浆料对计算机硬盘NiP基板进行CMP超精密加工，与酸性浆料对比，在平整度PV、均匀度rms和粗糙度RA均获得显著提高。
关键词：硬盘基板 CMP 碱性浆料 粗糙度 平整度 
碱性抛光液对硬盘基板抛光中表面状况的影响被引量：2
《微纳电子技术》2008年第10期611-614,618,共5页唐文栋 刘玉岭 宁培桓 田军 
国家自然科学基金资助项目(10676008);高等学校博士学科点专项科研基金(20050080007);河北省教育厅科学研究计划项目(2007429);天津市自然科学基金科技展计划项目(0438014211)
阐述了化学机械抛光(CMP)技术在硬盘基板加工中发挥的重要作用,介绍了SiO2碱性抛光液的化学机械抛光机理以及抛光液在化学机械抛光中发挥的重要作用。使用河北工业大学研制的SiO2碱性抛光液对硬盘基板表面抛光,分析研究了抛光液中的浓...
关键词：硬盘基板 化学机械抛光 抛光液 粗糙度 波纹度 平整度 
计算机硬盘NiP基板CMP机理及技术研究被引量：1
《微细加工技术》2008年第3期55-59,共5页田军 刘玉岭 檀柏梅 牛新环 唐文栋 
高校博士点基金资助项目(20050080007);国家自然科学安全联合基金资助项目(10676008)
目前,大多数计算机硬盘采用镍磷敷镀的铝合金作为磁盘盘片,并采用化学机械抛光(CMP)技术作为盘片最终的精抛光。通过对镍磷基板的化学性质分析,讨论了其CMP机理,指出在整个反应过程中,化学反应速率是慢过程,它决定了最终的CMP速率,如何...
关键词：硬盘基板 化学机械抛光 浆料 机理 去除速率 粗糙度 
新型硬盘基板微晶玻璃的晶核剂研究被引量：1
《光学技术》2007年第5期728-730,共3页吕昊 刘爱梅 曹志峰 黄少林 詹祖盛 
采用差热分析(DTA)、X-射线衍射分析(XRD)和扫描电镜(SEM)等分析手段研究了P2O5、TiO2、ZnF2作为晶核剂对Li2O-Al2O3-SiO2(LAS)系统微晶玻璃形核和晶化的影响。结果表明:P2O5晶核剂能获得小尺寸的晶粒,晶型为球形或多面体形,析晶的可控...
关键词：微晶玻璃 晶核剂 差热分析 X-射线衍射分析 扫描电镜 
碱性浆料下计算机硬盘NiP基板CMP机理的分析研究被引量：1
《功能材料》2007年第A03期1086-1088,共3页田军 刘玉岭 王立发 唐文栋 
高校博士点基金资助项目（20050080007）;国家自然科学安全联合基金资助项目（10676008）.
通过对镍磷基板的化学性质分析，讨论了其动力学过程，指出化学反应过程是最慢的过程，是CMP的控制过程，分析了浆料在硬盘基板CMP中的重要性，指出浆料的化学成份是化学作用的关键，研制了新型碱性浆料，研究了碱性浆料下镍磷基板CMP...
关键词：硬盘基板 CMP 浆料 机理 去除速率 
MgO-Al_2O_3-SiO_2系硬盘基板用微晶玻璃析晶动力学研究
《玻璃与搪瓷》2007年第1期6-10,共5页李文东 郑金标 魏智琦 
MgO-A l2O3-SiO2系微晶玻璃是一种优良的磁盘基板备选材料,该材料具有良好的力学性能,能够满足高性能硬盘基板用材料的要求。采用差热分析方法(DTA),得到了以TiO2作为晶核剂的MgO-A l2O3-SiO2系微晶玻璃的析晶动力学参数,研究了该体系...
关键词：微晶玻璃 MgO-Al2O3-SiO2系统 析晶动力学 硬盘基板 
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