云南高校图书馆联盟文献共享服务平台- 射频磁控

射频磁控: 作品数：1011被引量：2219H指数：14; 导出分析报告; 相关领域：理学电子电信更多>>; 相关作者：刘正堂马洪磊马瑾李佐宜李德军更多>>; 相关机构：电子科技大学中国科学院山东大学吉林大学更多>>; 相关期刊：更多>>; 相关基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家教育部博士点基金国家高技术研究发展计划更多>>

射频功率对ITO薄膜结构及性能影响的研究: 《真空》2025年第2期62-67,共6页孙冰成张贤旺张健; 使用射频(RF)磁控溅射技术,在耐高温石英玻璃基底上制备了氧化铟锡(ITO)透明导电氧化物薄膜,旨在优化其光电特性。通过系统调控溅射功率变量,深入剖析了该参数对ITO薄膜质量及光电性能的影响机理,之后又对薄膜进行退火处理,探究了退火...; 关键词：射频磁控溅射退火工艺氧化铟锡光电性能溅射功率

射频磁控溅射法制备MoS_(2)纳米薄膜的光学性能研究: 《化工新型材料》2025年第2期131-134,共4页樊志琴邢淑涵李瑞张丽英张俊峰; 2024年河南省研究生教育改革与质量提升工程项目(YJS2024ZX15);河南工业大学2023年度研究性教学课程项目(2023YJXJX-38);教育部高等学校物理学类专业教学指导委员会教改研究课题项目(JZW-23-GT-09)。; 采用射频磁控溅射法在石英玻璃衬底表面沉积不同厚度的MoS_(2)纳米薄膜,利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、紫外-可见光分光光谱(UV-Vis)和荧光光谱等手段对MoS_(2)薄膜结构及光谱性质进行表征。结果表明:溅射时间越长,MoS_(2)薄膜的...; 关键词：MoS_(2)薄膜射频磁控溅射光学性能激子峰

退火温度对磁控溅射掺锡氧化镓薄膜特性及其日盲光电探测器性能的影响: 《物理学报》2025年第2期236-244,共9页许怡红范伟航王尘; 厦门市自然科学基金(批准号:3502Z202373061);福建省自然科学基金(批准号:2023J011459);国家自然科学基金青年基金(批准号:61904155);福建省教育厅科技计划(批准号:JAT200484);福建省科学技术协会资助的课题.; 本文采用射频磁控溅射在蓝宝石衬底上室温下制备了非晶掺锡氧化镓薄膜,而后在氮气氛围下进行不同温度(400-800℃)退火,并基于退火前后薄膜制备了相应的日盲光电探测器,探究退火温度对薄膜特性及器件性能的影响规律.研究结果表明:非晶掺...; 关键词：射频磁控溅射掺锡氧化镓薄膜退火温度日盲光电探测器

射频磁控溅射制备SnS薄膜及其特性研究: 《延边大学学报(自然科学版)》2024年第4期20-25,共6页杨壮戚庆碧顾广瑞; 国家自然科学基金(51272224);吉林省自然科学基金(20210101163JC)。; 以玻璃和硅(Si)为衬底,采用射频磁控溅射法在不同溅射压强下制备了SnS薄膜.利用X射线衍射仪对SnS薄膜进行表征分析显示,所有样品均沿(111)面择优生长,溅射压强为0.8 Pa时薄膜结晶性最好;使用场发射扫描电子显微镜对SnS薄膜进行测试,结...; 关键词：射频磁控溅射法溅射压强 SnS薄膜薄膜结构光学性能

PEN衬底氧化镓基柔性紫外探测器的制备与性能研究(特邀)被引量：1: 《光子学报》2024年第7期49-57,共9页丁悦皇甫倩倩左清源梁金龙弭伟王迪张兴成刘振何林安; 天津市自然科学基金(No.22JCQNJC01370)。; 针对传统硬性衬底无法弯折的问题,采用聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)衬底制备柔性紫外光电探测器。柔性衬底具有的抗曲折性,能够提升探测器的鲁棒性,并且能让其适用于各种复杂形态的应用场景,同时减少占用空间,有助于整个电路的集成化。实验...; 关键词：半导体光电探测器柔性紫外探测器射频磁控溅射氧化镓聚萘二甲酸乙二醇酯氧化铟锡

氧化钨-氧化锌忆阻器的制备及其神经突触特性: 《济南大学学报（自然科学版）》2024年第3期362-368,共7页李守亮岳文静李阳; 国家自然科学基金项目(62174068)。; 为了实现忆阻器在神经形态计算中的应用,采用射频磁控溅射技术,在氧化铟锡导电玻璃衬底上依次生长氧化钨、氧化锌异质结的阻变层和银顶电极,制备氧化钨-氧化锌忆阻器,对制得忆阻器的结构、化学组成及电学性能进行表征和测试。结果表明:...; 关键词：忆阻器神经突触射频磁控溅射神经形态计算分类识别神经网络

氧分压对a-Ga_(2)O_(3)基日盲紫外光电探测器性能的影响研究: 《光电工程》2024年第6期96-104,共9页杨瑞杨斯铄钱凌轩; 国家自然科学基金资助项目(62174025)。; 非晶氧化镓(a-Ga_(2)O_(3))基日盲紫外光电探测器的性能与a-Ga_(2)O_(3)薄膜内的氧空位有关,氧空位的浓度制约着探测器的响应度和响应速度。为了在探测器的响应度和响应速度之间达到平衡,本文通过微调射频磁控溅射过程中的氧分压,调控...; 关键词：非晶氧化镓日盲紫外光电探测器响应度射频磁控溅射

射频磁控溅射制备CdS薄膜性质研究: 《延边大学学报（自然科学版）》2024年第2期31-38,共8页王昊民管雪顾广瑞; 国家自然科学基金(51272224);吉林省自然科学基金(20210101163JC)。; 利用射频磁控溅射技术,在玻璃和Si(111)的基板上沉积CdS薄膜,并研究了溅射功率对薄膜的结构、光学和电学特性等影响.X射线衍射结果表明,在不同溅射功率下制备的CdS薄膜样品,均表现为在(002)方向择优生长,其晶粒尺寸和表面粗糙度均随溅...; 关键词：CDS薄膜射频磁控溅射溅射功率光学性质电学性质

退火对不同金属薄膜上的BN/MoS_(2)异质结构形貌、结构和电性能的影响: 《材料热处理学报》2024年第5期142-151,共10页刘春泉熊芬马佳仪周锦添蒋玉琳贺紫怡陈敏纳张颖; 湖南省科技人才托举工程项目“小荷”科技人才专项(2023TJ-X10);湖南省自然科学基金项目(2023JJ50108);湖南省创新型省份建设专项科普专题项目(2023ZK4316);湖南省应用特色学科材料科学与工程学科(湘教通[2022]351号);湖南工学院自科培育项目(2022HY007);2023年度大学生创新创业训练计划项目(国家级:S202311528049、S202311528056X,省级:S202311528111、S202311528096X)。; 以过渡金属硫化物、氮化硼等二维层状材料为基础,研究了一种简单可靠的集成电路制造方法。在这项工作中,采用射频磁控溅射在室温下逐层制备了M/BN/MoS_(2)(M=Al、Ti、Mo和Ag)纳米薄膜,其中BN/MoS_(2)为未发生化学反应的异质结构,然后在...; 关键词：BN/MoS_(2)异质结构金半接触连续逐层沉积退火射频磁控溅射

射频磁控溅射工艺参数对掺钨氧化铟锡透明导电薄膜性能的影响被引量：4: 《复旦学报（自然科学版）》2024年第2期169-177,共9页许阳晨张群; ITO薄膜是目前应用最为广泛的透明导电薄膜,通过在ITO中掺杂其他金属可以进一步改善ITO薄膜的光学和电学性能。本文采用射频(RF)磁控溅射法制备了掺钨氧化铟锡(ITO∶W)透明导电薄膜,研究了薄膜厚度、表面形貌、晶体结构以及光学和电学...; 关键词：ITO薄膜掺钨透明导电氧化物射频磁控溅射

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