抛光片

作品数：136被引量：95H指数：4
导出分析报告
相关领域：电子电信更多>>
相关作者：杨洪星王云彪刘玉岭赵权张伟才更多>>
相关机构：天津中环领先材料技术有限公司中国电子科技集团公司北京有色金属研究总院中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
相关期刊：更多>>
相关基金：国家高技术研究发展计划国家自然科学基金更多>>
-
在结果中检索

检索结果分析

结果分析中...
共 条 记 录，以下是1-10
全选清除导出
参考文献引证文献引用追踪
视图：
排序：
大尺寸半导体硅单晶品质管控理论与技术的挑战与对策
《科学通报》2025年第4期544-548,共5页马向阳 原帅 赵统 杨德仁 
国家自然科学基金(62174145)资助
硅片作为基础材料,支撑了集成电路产业在过去半个多世纪一直遵循摩尔定律的发展,并仍将在可预见的将来继续发挥无可替代的作用.集成电路用大尺寸(如:直径300 mm)硅片包括抛光片和外延片两大类,前者是由直拉法生长的大尺寸硅单晶经过切...
关键词：集成电路 硅单晶 外延工艺 抛光片 外延片 线宽 摩尔定律 半导体 
探究碳化硅单晶抛光片激光加工技术
《中文科技期刊数据库（全文版）工程技术》2023年第8期47-50,共4页张明明 吴德宝 
随着现代科技的不断发展,企业如果可以控制新一代材料则可控制新一代器件,此时也可以走在科技发展的最前列。当前碳化硅单晶材料是半导体材料中最为新型的材料,自身具有宽度大,击穿性强,漂移速度高的特点,热导率较大,因此电导数较小,所...
关键词：碳化硅单晶材料 抛光片 激光加工技术 
半导体应用需求强劲 国产龙头有研硅潜力巨大
《投资有道》2022年第12期64-65,共2页夏珖玘 
有研半导体硅材料股份公司(以下简称:有研硅)主要从事半导体硅材料的研发、生产和销售,主要产品包括半导体硅抛光片、刻蚀设备用硅材料、半导体区熔硅单晶等,主要用于分立器件、功率器件、集成电路、刻蚀设备用硅部件等的制造,并广泛应...
关键词：分立器件 半导体 集成电路 硅材料 硅抛光片 潜力巨大 功率器件 科创板 
锑化铟抛光片表面粗糙度优化研究
《红外》2022年第12期20-25,共6页孔忠弟 赵超 董涛 
锑化铟是中波红外探测应用较广的材料。抛光片的表面粗糙度是影响器件性能的关键指标。研究了锑化铟化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)液的pH值、氧化剂比例以及抛光液流速对锑化铟抛光片表面粗糙度的影响,并结合原子力...
关键词：锑化铟 表面粗糙度 PH值 氧化剂比例 抛光液流速 抛光宏观质量 
SiC功率器件制造中的湿法工艺设备研究
《电子工业专用设备》2022年第4期48-52,共5页宋文超 贾祥晨 李家明 王洪建 刘广杰 
简述了SiC功率器件制造工艺流程,对常用的抛光片清洗、RCA清洗、SPM湿法去胶、有机去胶、SiO2腐蚀、金属腐蚀和金属剥离等湿法设备进行了应用研究,对于提升SiC功率器件成品率起着重要的作用。
关键词：SiC功率器件 抛光片清洗 有机去胶 金属湿法腐蚀 金属剥离 
芯微电子冲刺创业板!募资5.5亿加码功率半导体
《变频器世界》2022年第3期35-35,共1页
近日,深交所正式受理了黄山芯微电子股份有限公司(简称“芯微电子”)的创业板上市申请。资料显示,芯微电子是一家专注功率半导体芯片、器件及材料研发、生产和销售的高新技术企业,产品以晶闸管为主,同时涵盖MOSFET、整流二极管和肖特基...
关键词：创业板 半导体芯片 整流二极管 肖特基二极管 功率半导体 微电子 电力传输 抛光片 
硅溶胶抛光液对硅单晶抛光片表面质量的影响被引量：2
《半导体技术》2021年第10期788-794,共7页索开南 张伟才 杨洪星 郑万超 
硅抛光片表面质量除了受抛光工艺参数影响外,在很大程度上还受抛光液的影响。通过检测表面Haze值和粗糙度,研究硅抛光片表面形貌,分析不同抛光液对抛光片表面质量的影响,确定不同抛光阶段对抛光液的要求。研究结果表明粗抛光过程是以化...
关键词：硅抛光片 硅溶胶 抛光液 Haze值 粗糙度 
锗抛光片表面清洗研究进展被引量：1
《科技风》2021年第2期179-180,共2页周铁军 廖彬 马金峰 宋向荣 
国家工信部2019年工业强基-超薄锗单晶实施方案(编号:TC190A4DA/34)项目资助。
论述了锗晶片表面清洗的不同方法以及表面清洗的机理。锗晶片的表面清洗分为干法清洗和湿法清洗。湿法清洗一般采用氧化、剥离的清洗原理,即首先采用氧化性溶液将锗晶片表面进行氧化,然后再用一定的化学方法将晶片表面的氧化物去除,从...
关键词：锗片 湿法清洗 干法清洗 
环境因素对锗单晶抛光片表面质量的影响
《半导体技术》2020年第11期880-885,共6页杨洪星 王雄龙 索开南 杨静 陈晨 
由于Ge材料具有较为活泼的化学性质,易与环境中的氧化剂发生化学反应,使Ge单晶抛光片表面质量因表面化学组成的变化而出现恶化,降低交付可靠性。通过实验验证了在氧化性氛围中,Ge单晶抛光片表面易产生雾,且随着时间延长而逐渐增多,直至...
关键词：Ge 抛光片 净化等级 化学气氛 表面质量 
有蜡贴片工艺对4英寸SiC抛光片几何参数的影响
《半导体技术》2020年第8期638-644,共7页高飞 李晖 张弛 
研究了单面抛光中有蜡贴片工艺对抛光后4英寸(1英寸=2.54 cm)SiC晶片总厚度变化(TTV)和翘曲度的影响。分别选择固体蜡和液体蜡进行贴片实验,采用平面度测量仪检测加工前后晶片的TTV和翘曲度,采用数显千分表测量贴片及单面抛光后晶片表面...
关键词：有蜡贴片工艺 SiC晶片 总厚度变化(TTV) 翘曲度 液体蜡 
全选清除导出
共14页<12345678910>
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部