激光直写光刻

作品数：15被引量：67H指数：5
导出分析报告
相关领域：电子电信更多>>
相关作者：卢振武李凤有谢永军赵晶丽李凤友更多>>
相关机构：浙江大学中国科学院之江实验室中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
相关期刊：《长春理工大学学报（自然科学版）》《光学精密工程》《光子技术》《现代电子技术》更多>>
相关基金：国家自然科学基金应用光学国家重点实验室开放基金中科院创新基金浙江省自然科学基金更多>>
-
在结果中检索

检索结果分析

结果分析中...
共 条 记 录，以下是1-10
全选清除导出
参考文献引证文献引用追踪
视图：
排序：
基于相变薄膜高分辨激光直写光刻研究进展(特邀)
《中国激光》2024年第12期329-348,共20页郭嘉龙 魏涛 魏劲松 胡敬 程淼 刘倩倩 王瑞瑞 李宛飞 刘波 
国家自然科学基金(62205231,52303130)。
激光直写光刻因其高速、低成本、无需掩模辅助以及能实现大面积的微纳结构制造的优点,在光学元件制造、光学成像、微机电系统等领域中具有广阔的应用前景。然而,受到光学衍射极限的限制,激光直写光刻的分辨率难以达到nm量级。相变薄膜...
关键词：光刻 高分辨 激光直写 相变薄膜 热阈值 应用 
高速并行双光子激光直写光刻系统被引量：12
《中国激光》2022年第22期115-122,共8页王洪庆 温积森 杨臻垚 汤孟博 孙秋媛 马程鹏 王子昂 詹兰馨 张晓依 曹春 沈小明 丁晨良 匡翠方 
之江实验室重大科研项目(2020MC0AE01);国家自然科学基金青年科学基金(52105565);浙江省自然科学基金重大项目(LD21F050002);杭州市人力资源和社会保障局2020年度博士后科研资助项目(2021MC3UB04);杭州市余杭区人力资源和社会保障局2020年度博士后科研配套补助项目(2021MC3UB16)。
双光子激光直写技术以其高精度、高灵活性的特点在科研领域被广泛应用,但较低的直写速度制约了其在工业领域的应用与发展。本团队基于转镜扫描系统设计并验证了一套高速双光子激光直写光刻系统,该系统基于空间光调制器与多通道声光调制...
关键词：光学制造 微纳加工 双光子激光直写 多光束并行制造 
球面基底上制作微柱面透镜工艺研究
《长春理工大学学报（自然科学版）》2014年第6期16-19,共4页尹航 董连和 宋璇 陈哲 
针对目前在球面基底上制作微透镜阵列工艺复杂,制作成本昂贵等问题,介绍了一种激光直写光刻和光刻胶热熔成型相结合的新的加工技术。为此改造了球面刻划机,搭建了405nm激光曝光光源系统,同时建立三维坐标体系,实现微透镜阵列在球面空间...
关键词：球面基底 微透镜阵列 激光直写光刻 光刻胶热熔 
液晶光学相控阵子阵列寻址电极的加工工艺
《微纳电子技术》2014年第8期542-547,共6页尹聿海 徐林 王鹏 罗媛 杨宁 史俊锋 于明岩 陈宝钦 
基于液晶光学相控阵(LCOPA)电极基板的子阵列连接方案,利用电子束直写和激光直写混合光刻技术,进行了通光区域电极条纹、外围电路和子阵列联络孔的微纳米加工工艺研究。结果表明利用激光直写技术,可以形成最小线宽0.5μm的液晶光学相控...
关键词：液晶光学相控阵(LCOPA) 微纳加工 子阵列寻址 电子束直写光刻 激光直写光刻 
球面旋涂胶层厚度分布模型及其实验研究被引量：2
《光电子．激光》2009年第4期470-474,共5页陈龙江 罗剑波 梁宜勇 张春辉 杨国光 
国家自然科学基金资助项目(60678037);航空科学基金资助项目(20070112001)
创建一种光刻胶离心式旋涂过程中基于流体力学分析的凸面胶厚分布及胶厚均匀性模型,根据曲面流体运动方程以及凸面基片的面型特征得到了凸面恒速甩胶过程中胶层厚度的分布公式,结合凸面流体层流条件和牛顿流体的质量连续方程推导出胶厚...
关键词：激光直写光刻(LDW) 曲面甩胶 胶厚分布 胶层均匀性 
高精度微光学器件激光直写光刻系统研究被引量：2
《现代电子技术》2008年第24期20-23,共4页杨特育 
设计一套高精度激光直写光刻系统,它采用带17位增量式编码器的松下MINAS A系列交流伺服马达,同时还采用基于高精密滚珠丝杆和超精密线性滑轨导向的x-y运动平台,可以实现约30 nm的运动控制灵敏度。针对该系统开发一套基于ISA总线的三维...
关键词：激光直写系统 光刻 交流伺服电机 ISA 
直角坐标激光直写的动态曝光模型被引量：6
《光学精密工程》2008年第8期1354-1360,共7页张山 谭久彬 王雷 金占雷 
国家自然科学基金资助项目(No.50675052)
在兼顾胶层的光吸收特性、直写光束的高斯分布特征以及直写光束与胶层相对运动的情况下,建立了直角坐标激光直写的动态曝光模型以有效预测线条的线宽和侧壁角。仿真实验表明:以恒值高斯光强曝光时,该模型与等效仿真条件下的Dill曝光模...
关键词：激光直写光刻 曝光量分布 Dill曝光模型 线条轮廓 
光学工艺 微细加工技术与设备
《中国光学》2005年第1期96-96,共1页
TN305 2005010726 全数字化激光直写转台系统=An all-digital rotating platform system for laser direct writer[刊,中]／梁宜勇(浙江大学现代光学仪器国家重点实验室．浙江,杭州(310027))∥光电工程．-2004,31(5)．-1-3,10 为提高极...
关键词：微细加工 光学工艺 全数字化 光刻胶 激光直写技术 曝光量 微电子机械系统 电子技术实验 室温红外探测器 激光直写光刻 
阵列波导光栅制作关键技术
《光子技术》2004年第2期77-80,共4页郑国兴 杜春雷 邱传凯 
介绍了阵列波导光栅(AWG)在设计中要考虑的主要结构参数,制作材料,误差来源等。论述了利用CVD制作AWG所需SiO_2光波导的化学过程及其特点,给出了我们制作的光波导的测试数据。给出了通过调整局部设计数据而得到的较好面型的激光直写AWG...
关键词：阵列波导光栅 AWG 结构参数 制作材料 SiO2光波导 激光直写光刻 ICP反应离子刻蚀 
激光直写光刻中线条轮廓的分析被引量：20
《光子学报》2004年第2期136-139,共4页李凤有 谢永军 孙强 曹召良 卢振武 王肇圻 
国家自然科学基金 (6 0 0 780 0 6 );中科院创新基金资助项目
考虑了光刻胶对光吸收作用 ,在已有描述胶层内光场分布模型的基础上 ,较为准确地推导出光刻胶层内不同深度位置的光场分布 使用迭代方法计算得到了胶层内曝光量空间分布曲线 ,分析了不同曝光量下胶层内的线条轮廓 ,为直写光刻中曝光量...
关键词：激光直写光刻 曝光量 线条轮廓 
全选清除导出
共2页<12>
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部