光刻机

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光刻机工件台前馈补偿器参数整定方法
《清华大学学报（自然科学版）》2023年第10期1640-1649,共10页刘涛 杨开明 朱煜 
国家科技重大专项(2017ZX02102004)。
前馈控制器是光刻机工件台在高加减速工况下实现纳米级运动精度的关键环节。该文针对传统情况下四阶前馈拟合逆模型能力较差、难以完全消除参考轨迹导致重复性误差的问题,提出了一种以四阶前馈为基础,外加有理分式补偿器的前馈控制架构...
关键词：前馈控制 有理前馈控制器 补偿前馈 数据驱动 参数整定 工件台 
应用于数字光刻机的DMD数据处理及控制系统
《现代信息科技》2023年第18期129-132,共4页陈海巍 
无掩膜数字光刻机已在PCB光刻及半导体光刻领域逐渐开始应用,相比传统掩膜式光刻机,可缩减光刻流程,节省光刻成本,使光刻数据在线实时调整变得更为简单。而DMD(数字微镜器件)目前作为数字光刻机常用的一种SLM(空间光调制)图形发生器,对...
关键词：DMD 数字光刻 扫描 数据处理 控制 
沟槽晶圆调焦调平测量工艺适应性分析被引量：3
《中国设备工程》2021年第13期125-127,共3页蓝科 陈雪影 刘逍 
沟槽晶圆为后道封装光刻工艺中常见的一类待检测晶圆,其上表面具有结构复杂的纵横沟槽,且导致沟槽边缘的光刻胶分布不均匀,增加了光学调焦调平传感器(FLS)垂向位置测量的工艺复杂度。本文详细介绍了基于线阵CCD的FLS测量沟槽晶圆出现调...
关键词：光刻机 调焦调平传感器(FLS) 沟槽晶圆 工艺适应性 
应用于光刻机掩模台的自适应前馈控制
《控制工程》2021年第6期1069-1074,共6页谈恩民 石婷婷 张志钢 张霖 
为了解决光刻机掩模台控制系统中模型参数的不确定性,提出一种带有自适应前馈的运动控制算法。该算法主要特点是以控制器的实际输出与估计输出之间的估计误差最小为优化目标,利用递推最小二乘法在线自动更新前馈系数,使前馈系数更为准...
关键词：自适应前馈 最小二乘法 光刻机掩模台 运动控制 
基于Nios Ⅱ的光刻机运动台电机驱动控制系统设计
《桂林电子科技大学学报》2020年第6期498-504,共7页庞权岗 胡放荣 张文涛 石公含 
国家自然科学基金(11574059);广西自然科学基金(2018GXNSFAA050043);国家科技重大专项(2017ZX02101007-003);广西自动检测技术与仪器重点实验室基金(YQ16101)。
为了给光刻机运动台控制系统架构升级提供可靠方案,设计了基于Nios Ⅱ的光刻机运动台电机驱动控制系统。采用FPGA内嵌Nios Ⅱ软核,通过Quartus Ⅱ软件中的Qsys和功能平台Nios ⅡSBT实现电机驱动控制系统硬件电路和软件程序设计。内核部...
关键词：NiosⅡ软核 电机驱动 控制 FPGA 架构升级 光刻机 
纳米光刻调焦调平传感器光电探测系统设计被引量：4
《仪表技术与传感器》2020年第12期6-9,15,共5页龚士彬 谢冬冬 武志鹏 宗明成 
国家科技重大专项(2017ZX02101006-003)。
针对光刻机调焦调平传感器的高实时性数据采集的设计需求,设计了一种多通道同步采集的光电探测系统。该系统使用FPGA作为数据处理和逻辑控制核心,实现了21个通道测量数据的实时采集和高速传输,与硅片台位置同步以保证测量数据与被测位...
关键词：光刻机 调焦调平 探测系统 同步性 实时数据采集 多通道 
光刻机扫描狭缝刀口半影宽度测量技术被引量：5
《中国激光》2019年第10期252-259,共8页刘志帆 陈明 步扬 徐静浩 范李立 张建华 王向朝 
国家科技重大专项课题(2009ZX02205-001);广西高校光电信息处理重点实验室开放基金(KFJJ2016-03)
扫描狭缝是步进扫描光刻机用于控制曝光剂量的重要单元。随着光刻工艺节点减小到90 nm及以下,光刻照明分系统对刀口半影宽度的测量精度和重复性提出了更高要求。基于此,提出一种基于光瞳像的光刻机扫描狭缝刀口半影宽度测量技术。分析...
关键词：测量 光刻机 扫描狭缝 半影宽度 成像测量 光瞳 
光刻机掩模台djerk前馈控制算法研究
《仪器仪表用户》2019年第5期1-4,32,共5页石婷婷 谈恩民 张志钢 张霖 
针对光刻机掩模台控制系统中存在影响控制精度的机械模态,提出了一种djerk前馈控制方法。该方法在加速度前馈基础上引入一种新的前馈。该算法利用四阶点对点运动轨迹作为参考位置进行仿真验证,与传统的加速度前馈控制方法相比,传统的加...
关键词：djerk前馈 机械模态 掩模台 运动控制 
报道科技成果切莫变成“自嗨文”
《发明与创新（大科技）》2018年第12期6-6,共1页赵永新 
研发人员介绍,这台22纳米分辨率光刻机在加工大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器等纳米功能器件上具有明显优势。但是,这台光刻机要想应用于芯片,还要攻克一系列技术难题,距离还相当遥远。
关键词：科技成果 纳米分辨率 单光子探测器 功能器件 光刻机 大口径 纳米线 
基于宏微驱动的光刻机掩模台控制系统设计被引量：4
《自动化技术与应用》2017年第10期61-64,共4页饶裕 刘杨 齐彪 李杨 王岩 
光刻是集成电路制造环节的一项重要工艺,主要通过光刻机来完成。作为其重要组成部分,掩模台的性能直接决定了能生产的芯片制程和效率,其工作特点对掩模台提出各种要求,例如:大行程、高精度等。本文采用了一种宏微结合的控制方案,即宏动...
关键词：光刻机 掩模台 PID 运动控制卡 
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