半导体表面

作品数:76被引量:47H指数:3
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用Franz-Keldysh效应研究GaAs表面硫化学钝化被引量:1
《Journal of Semiconductors》1999年第11期1004-1009,共6页廖友贵 金鹏 李乙钢 张存洲 潘士宏 梁基本 
国家自然科学基金
硫钝化是一种比较有效的钝化GaAs 表面的方法.本文使用Na2S、S2Cl2 和CH3CSNH2三种化学试剂对表面本征层重掺杂层(sin+ )结构的GaAs 样品进行了钝化,利用光调制反射谱观察到许多个Franz...
关键词:砷化镓 硫钝化 F-K效应 半导体表面 
GaAs表面的室温光致氮化被引量:1
《Journal of Semiconductors》1995年第9期721-724,共4页徐前江 丁训民 侯晓远 
国家自然科学基金;李政道实验室正大基金
在纯氮气体起辉放电产生的紫外光的激励下,到达GaAs表面的N2会离解并和Ga、As原子成键,X射线光电子能谱测量结果证实了这一设想.
关键词:砷化镓 半导体表面 光致氮化 室温 
表面势阱对硅场发射的影响被引量:1
《Journal of Semiconductors》1995年第8期587-593,共7页黄庆安 
东南大学青年科学基金
本文比较了半导体硅与金属场发射过程的差别,建立了表面势阱作用下硅场致发射的基本方程.用WKB近似,求出了硅场致发射的电流-电场关系.
关键词: 场发射 表面势阱 半导体表面 
同步辐射光电子能谱研究室温下Na对InP(100)表面氮化反应的影响
《Journal of Semiconductors》1995年第5期395-400,共6页季航 赵特秀 王晓平 吴建新 徐彭寿 陆尔东 许振嘉 
国家自然科学基金
利用同步辐射光电子能谱研究了室温下Na吸附下于P型InP(100)表面对其氮化反应的影响.通过P2p、In4d芯能级谱的变化,对Na/InP(100)表面的氮化反应的研究表明,碱金属Na的吸附对InP(100)无明显...
关键词:磷化铟 半导体表面 氮化反应 光电子能谱  
碱金属Rb在InP(100)表面的催化氧化作用
《Journal of Semiconductors》1995年第4期296-302,共7页徐彭寿 徐世红 朱警生 刘先明 麻茂生 张裕恒 许振嘉 
国家自然科学基金
我们用XPS和UPS研究了氧在Rb复盖的和清洁的InP(100)表面的吸附行为.实验结果表明,碱金属可以使衬底的氧化能力大大增加.在氧的暴露量低于1L时,氧主要吸附在碱金属原子之间的InP衬底上,且位于Rb原子层之下...
关键词:磷化铟  催化氧化 碱金属 半导体表面 
离子溅射在GaP极性表面引起的损伤及其消除
《Journal of Semiconductors》1994年第11期790-794,共5页卢学坤 侯晓远 丁训民 王迅 
离子束处理在器件工艺和材料表征技术中有着广泛的应用.本文采用低能电子衍射、X光电子能谱和角分辨紫外光电子能谱对GaP极性表面经Ar离子溅射后的损伤情况进行了研究.主要探讨表面损伤及其消除、表面能带弯曲等问题.
关键词:磷化镓 离子溅射 极性 半导体表面 损伤 消除 
极性半导体中表面激子的性质被引量:3
《Journal of Semiconductors》1993年第2期67-75,共9页孙宝权 肖景林 
内蒙古自然科学基金
本文研究极性半导体中表面激子的性质,采用微扰法导出表面激子的有效哈密顿量。在计及反冲效应中不同波矢的声子之间的相互作用时,讨论对电子、空穴间的相互作用的有效势、表面激子的自陷能和自陷条件的影响。
关键词:极性半导体 激子 半导体表面 性质 
半导体表面晶体完整性的SEM电子通道花样研究
《Journal of Semiconductors》1991年第1期23-27,共5页邱素娟 林奇全 
本文对各种GaAs晶体表面作了SEM电子通道技术测量,对测得的电子通道花样进行了结晶学注释,确定了评价晶体完整性的标准。可广泛用来检查和评估半导体表面的晶体完整性.
关键词:GAAS晶体 SEM 电子通道像 
半导体表面附近施主原子电离能计算被引量:2
《Journal of Semiconductors》1983年第4期313-320,共8页刘振鹏 
利用一维化Euler方程的方法计算了表面附近施主原子电离能.结果表明,当核处于表面上时,该一维方程具有与Levine精确解相匹配的解析解,且定量地符合Hellmann-Feynman定理的要求;当核远离表面时,方程的渐近解与自由施主原子一致.
关键词:方程 电离能 解析解 边界条件 施主原子 半导体表面 
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