亚半微米

作品数：11被引量：14H指数：2
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亚半微米投影光刻物镜的研究设计被引量：3
《微细加工技术》2000年第1期26-30,共5页陈旭南 姚汉民 李展 林妩媚 余国彬 罗先刚 张津 
介绍了分步重复投影光刻机亚半微米光刻物镜光学和机械结构研究设计、设计结果 ,以及公差控制。指出技术指标已达到 :数值孔径NA =0 .6 3、工作波长λ =36 5nm、倍率 5x、工作分辨力R 0 .35 μm ,设计物镜所用透镜片数最少 ,无胶合件 ...
关键词：亚半微米光刻 投影物镜 设计 集成电路 
亚半微米光刻投影物镜温度补偿控制及算法研究被引量：2
《微细加工技术》1999年第2期71-78,共8页张津 姚汉民 陈旭南 唐小平 
主要介绍一种光刻机投影物镜温度补偿控制的原理及控制算法。根据系统结构、对象特性和过程指标要求，采用了一种智能型线性－模糊控制器，获得了优良的动态和稳态性能。
关键词：投影物镜 温度补偿 光刻 大规模集成电路 
提高亚半微米微细图形光刻分辨力的新技术(Ⅱ)
《物理》1998年第5期278-281,300,共5页罗先刚 陈旭南 姚汉民 
提高亚半微米微细图形光刻分辨力的新技术（Ⅱ）罗先刚陈旭南姚汉民（中国科学院光电技术研究所，成都６１０２０９）４相移掩模技术［５］相移掩模（ｐｈａｓｅｓｈｉｆｔｍａｓｋ，ＰＳＭ）最初由美国的Ｍ．Ｄ．Ｌｅｖｅｎｓｏｎ于１...
关键词：光刻 分辨力 亚半微米图形 相移掩模 
提高亚半微米微细图形光刻分辨力的新技术(Ⅰ)
《物理》1998年第4期219-222,共4页罗先刚 陈旭南 姚汉民 
介绍了目前用于提高亚半微米投影光刻机成像分辨力、增大焦深的新技术及主要研究方向．对大数值孔径和短波长技术、倾斜（离轴）照明技术、相移掩模技术、光瞳滤波技术、多焦面曝光技术以及表面成像技术的原理和现状作了较为详细的阐述...
关键词：分辨力 焦深 大数值孔径 短波长 光刻 亚半微米 
亚半微米投影曝光机的逐场调焦调平技术被引量：4
《电子工业专用设备》1997年第4期23-26,共4页肖倩 陈旭南 罗先刚 
介绍用于亚半微米分步重复投影曝光机的ＰＳＤ调焦调平、激光干涉调焦调平、多点高度测量传感和单光路多点检测等逐场调焦调平技术，较详细地阐述各技术原理、组成及能达到的精度，分析各种方法的优缺点和主要实用范围，为自主研制亚半...
关键词：亚半微米 投影曝光机 逐场调平 半导体器件 光刻 
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