刘召军

作品数：7被引量：24H指数：3
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供职机构：香港科技大学更多>>
发文主题：无缝拼接NI多晶硅缓释多晶硅薄膜更多>>
发文领域：电子电信理学一般工业技术更多>>
发文期刊：《物理学报》《真空》《Journal of Semiconductors》《液晶与显示》更多>>
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用镍硅氧化物源横向诱导晶化的多晶硅薄膜被引量：2
《物理学报》2010年第4期2775-2782,共8页刘召军 孟志国 赵淑云 郭海成 吴春亚 熊绍珍 
国家自然科学基金重点项目(批准号:60437030);天津市自然科学基金(批准号:05YFJMJC01400)资助的课题~~
采用磁控溅射法,以镍硅合金为靶,制备了一种适用于金属诱导横向晶化的氧化物镍源——自缓释镍源.该镍源在内部构成和晶化现象上都不同于纯金属镍源.采用该镍源制备低温多晶硅材料,晶化速率不明显依赖于镍源薄膜的厚度,且晶化多晶硅膜内...
关键词：自缓释 金属诱导横向晶化 多晶硅薄膜 低温制备与退火 
自缓释镍源的横向诱导晶化多晶硅薄膜晶体管被引量：3
《Journal of Semiconductors》2008年第10期2009-2013,共5页刘召军 孟志国 赵淑云 王文 郭海成 吴春亚 熊绍珍 
国家自然科学基金资助项目(批准号:60437030)~~
以镍硅合金靶作为溅射源,采用磁控溅射方法制备了一种自缓释镍源.控制合适的自缓释镍源的准备条件,以单一方向横向晶化条件对非晶硅薄膜进行再晶化,可以获得低残余镍含量、大晶粒、高薄膜质量的多晶硅.以此多晶硅为有源层进行了薄膜晶...
关键词：金属诱导横向晶化 多晶硅薄膜 低温制备 退火处理 
大屏幕投影拼接系统的设计被引量：6
《液晶与显示》2007年第3期336-341,共6页柴海峰 高国保 郝大收 李学东 王中 杭力 刘召军 孙鹏飞 吴春亚 孟志国 熊绍珍 
国家重点基金(No.60437030);天津市基金(No.05YFJMJC01400);国家出国留学人员回国基金资助
设计了一个可实现无缝拼接系统的研究示例:将一个高分辨率的图像分为两个分图像,按两部分在边缘交叠的方式分别投影。在投影之前,选用简单的线性函数关系,对待重叠部分进行了淡入淡出的处理,经这样叠加后重叠部分的重叠痕迹可适当消除...
关键词：数字光处理 无缝拼接 边缘融合 GAMMA校正 
拼接投影的边缘融合处理问题被引量：6
《现代显示》2007年第3期49-53,共5页高国保 柴海峰 郝大收 李学东 杭力 刘召军 吴春亚 孟志国 熊绍珍 
国家重点基金(No.60437030);天津市基金(No.05YFJMJC01400);国家出国留学人员回国基金资助
介绍了投影拼接显示系统中的关键技术——边缘融合处理技术。设计了一个为实现拼接的显示控制电路的示例:将一个高分辨率的图像分为两个分图像,按两部分在边缘交叠的方式分别投影。在投影之前,先对相重叠部分的图像信号按线性函数关系...
关键词：无缝拼接 DLP 边缘融合 投影显示 
电子束低温蒸发ITO膜增透、增反特性研究被引量：1
《真空》2006年第6期8-10,共3页齐龙茵 张德贤 何俊峰 崔光龙 赵飞 刘召军 李胜林 
本实验是在低温条件下,采用电子束蒸发制备ITO透明导电薄膜,通过监测电阻来控制薄膜的厚度,通过控制薄膜厚度研究了增透和增反两种效果的ITO膜的制备及膜的光学特性。当膜厚达170 nm和83 nm时透过率和反射率可达95%和6%。
关键词：ITO 增透 增反 柔性衬底 电子束蒸发 
大尺寸化学Ni源金属诱导晶化多晶硅的研究被引量：7
《物理学报》2006年第11期6095-6100,共6页赵淑云 吴春亚 刘召军 李学冬 王中 孟志国 熊绍珍 张芳 
国家高技术研究发展计划(863)(批准号:2004AA303570);国家自然科学基金重点项目(批准号:60437030);天津市自然科学基金(批准号:05YFJMJC01400);国家出国留学人员回国基金资助的课题.~~
用无电电镀的化学方法,在VHF-PECVD沉积获得的非晶硅薄膜表面形成镍诱导源,在550℃下退火若干小时,可以诱导产生微米量级的多晶硅晶粒.用此法形成的镍源可以均匀地分布在非晶硅薄膜的表面.非晶硅薄膜上形成晶核的数量取决于镍溶液的浓度...
关键词：金属诱导晶化 化学源 多晶硅 薄膜晶体管 
柔性晶体管阵列
《现代显示》2005年第9期27-31,共5页Peter Smith David Allee Curt Moyer Douglas Loy 刘召军 
现在市场上出现了柔性晶体管阵列并且前景诱人,但是在柔性阵列技术进入主流市场之前还要克服不少困难。
关键词：柔性晶体管阵列 有源矩阵 非晶硅TFT 
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