陈厦平

作品数:13被引量:15H指数:2
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供职机构:厦门大学更多>>
发文主题:4H-SIC紫外光电探测器雪崩光电探测器光电子学外延片更多>>
发文领域:电子电信理学机械工程一般工业技术更多>>
发文期刊:《表面技术》《光谱实验室》《福州大学学报(自然科学版)》《Journal of Semiconductors》更多>>
所获基金:福建省自然科学基金厦门市科技计划项目国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
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4H-SiCp-i-n紫外光电探测器的电容-电压特性研究
《量子电子学报》2016年第6期770-774,共5页蔡加法 陈厦平 吴少雄 吴正云 
国家自然科学基金(61176049)~~
分析并比较了4H-SiC p-i-n紫外光电探测器的电容-电压(C-V)特性随温度和偏置电压的变化情况,观测到4H-SiC p-i-n结构中的深能级缺陷。结果表明:由于近零偏压时探测器i型层已处于耗尽状态,其高频(1 MHz)C-V特性几乎不随反向偏压变化.随...
关键词:光电子学 4H-SIC p-i-n紫外光电探测器 电容-电压 深能级缺陷 
含氢DLC膜的疏水性研究被引量:1
《表面技术》2016年第5期154-161,共8页魏晓丽 张玲 陈厦平 王辅明 
国家重点基础研究发展计划(2012CB933502)~~
目的通过疏水性质的研究,证明源电极式和浸入式PECVD方法制备含氢DLC膜存在结构和性质上的差别,并且证明浸入式PECVD方法制备的含氢DLC膜更适于需要强疏水性的表面改性应用。方法在PECVD腔体中通入甲烷和氢气混合气体,同时在面对源电极...
关键词:类金刚石 PECVD 含氢 掺氟 带隙 接触角 疏水性 
KrF脉冲激光退火制备锐钛矿TiO_2薄膜被引量:1
《量子电子学报》2015年第6期673-677,共5页张自锋 张志威 洪荣墩 陈厦平 吴正云 
国家自然科学基金资助项目(61176049;61307047)
在常温下,用射频磁控溅射在石英衬底上沉积厚度约为200 nm的TiO_2薄膜,使用波长为248 nm的KrF脉冲激光器,在不同功率密度下对薄膜样品进行辐照退火处理,并采用X射线衍射(XRD)、拉曼(Raman)、X射线电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)、扫...
关键词:激光技术 KrF脉冲激光 薄膜 TiO2 光学特性 
4H-SiC紫外光电探测器光电特性随温度变化的研究
《量子电子学报》2011年第6期737-741,共5页郑云哲 林冰金 张明昆 蔡加法 陈厦平 吴正云 
福建省自然科学基金资助项目(2009J05151)
利用光电流谱法研究了300 K到60 K温度范围内的p-i-n结构4H-SiC紫外光电探测器的暗电流及相对光谱响应特性。研究发现随着温度的降低,探测器的暗电流和相对光谱响应都逐渐减小;而且,反向偏压越高,暗电流减小的速率越大。在零偏压下,随...
关键词:光电子学 4H—SiC p—i—n紫外光电探测器 温度特性 光电特性 
4H-SiC雪崩光电探测器中倍增层参数的优化模拟
《量子电子学报》2011年第6期742-747,共6页钟林瑛 洪荣墩 林伯金 蔡加法 陈厦平 吴正云 
福建省自然科学基金项目(2009J05151)资助
应用ATLAS模拟软件,设计了吸收层与倍增层分离的(SAM)4H-SiC雪崩光电探测器(APD)结构。分析了不同外延层厚度和掺杂浓度对器件光谱响应的影响,对倍增层参数进行优化模拟,得出倍增层的最优化厚度为0.26μm,掺杂浓度为9.0×10^(17)cm^(-3...
关键词:光电子学 4H—SiC APD 光谱响应 探测率 
4H-SiC材料在紫外波段吸收系数的分析研究
《光谱实验室》2010年第4期1597-1600,共4页陈厦平 朱会丽 
福建省自然科学基金项目资助(No.2009J05151);厦门市科技计划项目(No.350z20031076)资助
基于已报道的4H-SiC材料在紫外波段(325—390nm)吸收系数的测定,结合经验公式,采用外推和多项式拟合方法分析4H-SiC材料在200—400nm紫外波段的吸收系数,并得到4H-SiC材料的吸收系数与波长的关系式。对4H-SiC吸收系数的分析研究将作为4H...
关键词:4H-SIC 吸收系数 紫外(UV) 
4H-SiC表面热氧化生长SiO_x薄膜特性的研究被引量:1
《量子电子学报》2010年第4期474-479,共6页陈厦平 朱会丽 蔡加法 
福建省自然科学基金(2009J05151)
采用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和X射线光电子能谱(XPS)测试方法对4H-SiC上热氧化生长的氧化硅(SiO_x)薄膜表面形貌进行观测,并分析研究SiO_x薄膜和SiO_x/4H-SiC界面的相关性质,包括拟合Si2p、O1s和C1s的XPS谱线和分析其...
关键词:材料 SIOX薄膜 热氧化 X射线光电子能谱 4H—SiC 
用于4H-SiC雪崩光电探测器p型欧姆接触的研究被引量:3
《量子电子学报》2007年第6期743-747,共5页朱会丽 陈厦平 吴正云 
对4H-SiC雪崩光电探测器的Ti/Al/Au p型欧姆接触进行了详细的研究。通过线性传输线模型(LTLM)测得经930℃退火后欧姆接触的最小比接触电阻为5.4×10^(-4)Ωcm^2。分别用扫描电子显微镜(SEM)、俄歇电子能谱(AES)、X射线光电子能谱(XPS)和...
关键词:光电子学 4H—SiC P型欧姆接触 X射线光电子能谱 雪崩光电探测器 
不同工作压强下ICP刻蚀对SiC表面损伤的研究
《福州大学学报(自然科学版)》2007年第S1期8-10,共3页吕英 庞爱锁 杨伟锋 陈厦平 朱会丽 吴正云 
采用CF4/O2作为刻蚀气体,对不同工作压强下ICP刻蚀SiC材料的刻蚀速率以及随之引入的刻蚀损伤进行了研究.结果表明,随着工作压强的增加,ICP刻蚀S iC材料的速率先缓慢增加,然后急剧降低.通过XPS光电子能谱分析发现刻蚀后样品表面的F、O含...
关键词:SIC ICP刻蚀 工作压强 表面损伤 
吸收层与倍增层分离的4H-SiC雪崩光电探测器被引量:4
《Journal of Semiconductors》2007年第2期284-288,共5页朱会丽 陈厦平 吴正云 
设计和制备了吸收层和倍增层分开的4H-SiC穿通型雪崩紫外光电探测器.设计器件的倍增层和吸收层厚度分别为0.25和1μm.采用multiplejunctionter mination extension(MJTE)方法减少器件的电流集边效应和器件表面电场.对器件的暗电流、光...
关键词:4H-SIC 紫外光 雪崩光电探测器 吸收层 倍增层分离 
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