物镜

作品数：932被引量：1692H指数：16
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用于光刻机物镜像差补偿的透射式变形镜设计
《压电与声光》2024年第6期995-1000,共6页邹有云 布一帆 杜文杰 邓杰 马剑强 
国家自然科学基金资助项目(52475109)。
针对深紫外光刻机物镜工作一段时间后存在的低阶像差问题,提出了一种大口径、小变形量、高精度的透射式变形镜结构。通过有限元对变形镜的校正性能进行仿真,确定了致动器数目、玻璃厚度、内外环的宽度。仿真结果表明,重构Z3-Z9项Zernik...
关键词：DUV光刻机物镜 变形镜 像差校正 
光刻物镜波像差绝对检测技术综述被引量：2
《光电工程》2023年第5期36-59,共24页王青蓝 全海洋 胡松 刘俊伯 侯溪 
光刻物镜是光刻机核心部件,其波像差大小决定着光刻机的分辨率和套刻精度。随着光刻机性能的逐步提升,光刻物镜波像差要求已经降低到0.5nm(RMS)以下,这对波像差的检测是一个极大的挑战。现行的光刻物镜波像差检测方法(如哈特曼法,剪切...
关键词：光刻物镜系统 光学检测 波像差 绝对检测 
大数值孔径(NA=0.55)变倍率极紫外光刻投影物镜偏振像差高精度检测方法被引量：1
《光学学报》2022年第23期56-67,共12页李昂 李艳秋 韦鹏志 袁淼 王成成 
国家自然科学基金(62175014);国家科技重大专项(2017ZX02101006)。
提出了一种严格的非线性成像测量大数值孔径(NA=0.55)变倍率极紫外光刻(EUVL)投影物镜偏振像差的方法。首先在变倍率极紫外(EUV)严格矢量成像模型基础上,通过建立偏振像差与空间像频谱的非线性关系,得到非线性超定方程组,并提出一种同...
关键词：测量 极紫外光刻 光刻成像理论 像差测量 成像测量技术 偏振像差 
多层压电驱动器在光刻机中的应用被引量：5
《激光与光电子学进展》2022年第9期393-402,共10页杜刚 康晓旭 曾江涛 曾涛 
上海市国际合作项目(20520730600)。
多层压电驱动器具有体积小、响应快、刚度大、位移精度高、驱动力大等优点,在光刻机的开发中有广泛的应用。简要介绍了多层压电驱动器的基本结构与特征,列举了多层压电驱动器在光刻机投影物镜的高精度微调、掩模台的定位及光刻机的主动...
关键词：多层压电驱动器 光刻机 投影物镜 主动减振 
“光刻技术”专题前言
《激光与光电子学进展》2022年第9期I0001-I0002,共2页王向朝 韦亚一 邱建荣 
集成电路是现代工业的基础。光刻机是集成电路制造的核心装备,其技术水平决定了集成电路的集成度几十年来,光刻机曝光波长从436 nm可见光波段减小到193 nm深紫外波段,再到目前最短的13.5 nm极紫外波段。投影物镜的数值孔径从初期的0.28...
关键词：光刻技术 集成电路制造 光刻机 光刻工艺 投影物镜 数值孔径 理论极限 紫外波段 
光刻投影物镜中动镜X-Y向柔性调节机构设计被引量：2
《激光与光电子学进展》2022年第4期241-249,共9页杨超 朱咸昌 金川 胡松 
国家自然科学基金(61875201,61975211,62005287);四川省杰出青年科技人才(2020JDJQ0005);四川省中央引导地方科技发展项目(2020ZYD020)。
针对光刻投影物镜中动镜X-Y向调节机构精度高、行程小、结构紧凑的需求,提出了一种X-Y向一体式调节机构。所提机构基于四连杆调节原理,利用内外圈独立分布的X-Y向柔性铰链,无需解耦即可实现X/Y向高精度调节。首先根据投影物镜中动镜的...
关键词：成像系统 光刻物镜 像质补偿 动镜 X-Y向调节机构 柔性铰链 
光刻技术《激光与光电子学进展》
《激光与光电子学进展》2021年第21期F0002-F0002,共1页
光刻机是极大规模集成电路制造的核心装备,其分辨率决定了集成电路芯片的集成度。为了追求更高的分辨率,光刻机曝光波长已从436 nm可见光波段减小到193 nm深紫外波段,再到当前最短的13.5 nm极紫外波段。投影物镜的数值孔径则从初期的0.2...
关键词：集成电路芯片 光刻机 光刻技术 投影物镜 光学邻近效应校正 数值孔径 紫外波段 掩模 
光刻技术《激光与光电子学进展》
《激光与光电子学进展》2021年第19期F0002-F0002,共1页
光刻机是极大规模集成电路制造的核心装备,其分辨率决定了集成电路芯片的集成度。为了追求更高的分辨率,光刻机曝光波长已从436 nm可见光波段减小到193 nm深紫外波段,再到当前最短的13.5 nm极紫外波段。投影物镜的数值孔径则从初期的0.2...
关键词：集成电路芯片 光刻机 光刻技术 投影物镜 数值孔径 极大规模集成电路 紫外波段 浸液式光刻 
专题征稿 光刻技术《激光与光电子学进展》
《激光与光电子学进展》2021年第17期F0002-F0002,共1页
光刻机是极大规模集成电路制造的核心装备,其分辨率决定了集成电路芯片的集成度。为了追求更高的分辨率,光刻机曝光波长已从436 nm可见光波段减小到193 nm深紫外波段,再到当前最短的13.5 nm极紫外波段。投影物镜的数值孔径则从初期的0.2...
关键词：集成电路芯片 光刻机 光刻技术 光刻工艺 投影物镜 数值孔径 理论极限 紫外波段 
专题征稿 光刻技术《激光与光电子学进展》
《激光与光电子学进展》2021年第13期F0003-F0003,共1页
截稿日期2022年1月31日光刻机是极大规模集成电路制造的核心装备,其分辨率决定了集成电路芯片的集成度。为了追求更高的分辨率,光刻机曝光波长已从436 nm可见光波段减小到193 nm深紫外波段,再到当前最短的13.5 nm极紫外波段。投影物镜...
关键词：集成电路芯片 光刻机 光刻技术 光刻工艺 投影物镜 数值孔径 理论极限 紫外波段 
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