光刻物镜

作品数：83被引量：301H指数：11
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基于光栅制造的光刻投影物镜设计
《工具技术》2023年第5期141-144,共4页任东旭 班楠楠 孔明旭 李彬 
国家自然科学基金(51905558,51975599)。
光栅尺作为位移传感器被广泛应用在精密测量体系中,随着测量趋于纳米级精度和大量程,对光栅尺的制造精度提出了更高的要求。刻线误差是影响光栅尺制造精度的重要因素,减小刻线误差能够有效提高光栅制造精度。设计了一种大孔径、低畸变...
关键词：刻线误差 投影光刻物镜 光学设计 光栅制造 
光刻物镜波像差绝对检测技术综述被引量：2
《光电工程》2023年第5期36-59,共24页王青蓝 全海洋 胡松 刘俊伯 侯溪 
光刻物镜是光刻机核心部件,其波像差大小决定着光刻机的分辨率和套刻精度。随着光刻机性能的逐步提升,光刻物镜波像差要求已经降低到0.5nm(RMS)以下,这对波像差的检测是一个极大的挑战。现行的光刻物镜波像差检测方法(如哈特曼法,剪切...
关键词：光刻物镜系统 光学检测 波像差 绝对检测 
光刻投影物镜中动镜X-Y向柔性调节机构设计被引量：2
《激光与光电子学进展》2022年第4期241-249,共9页杨超 朱咸昌 金川 胡松 
国家自然科学基金(61875201,61975211,62005287);四川省杰出青年科技人才(2020JDJQ0005);四川省中央引导地方科技发展项目(2020ZYD020)。
针对光刻投影物镜中动镜X-Y向调节机构精度高、行程小、结构紧凑的需求,提出了一种X-Y向一体式调节机构。所提机构基于四连杆调节原理,利用内外圈独立分布的X-Y向柔性铰链,无需解耦即可实现X/Y向高精度调节。首先根据投影物镜中动镜的...
关键词：成像系统 光刻物镜 像质补偿 动镜 X-Y向调节机构 柔性铰链 
紫外光刻物镜被动热补偿方法研究和消热差设计
《电子技术（上海）》2020年第1期32-35,共4页郭银章 
上海市科技企业技术创新课题项目
为了降低紫外光刻投影物镜受环境温度稳定性引起的性能恶化(主要是焦面偏移等),借鉴空间红外光学的无热化的研究成果,并结合投影物镜的热特性和应用场景特点,提出优化改进后的紫外光刻物镜被动热补偿方法和步骤。主要思路为利用热折变(...
关键词：集成电路制造 光刻物镜 消热差 焦面偏移 热像差 
高数值孔径自由曲面极紫外光刻物镜光学设计被引量：13
《红外与激光工程》2019年第8期170-176,共7页毛姗姗 李艳秋 刘克 刘丽辉 郑猛 闫旭 
国家科技重大专项(ZX02702001-002);国家自然科学基金(61675026);国家自然科学基金重大科研仪器研制项目(11627808)
高分辨率需求牵引极紫外光刻(EUVL)投影物镜向高数值孔径(NA)、自由曲面设计形式发展。传统的非球面EUVL物镜设计难以在高数值孔径下兼顾校正像差的需求,往往造成遮拦,破坏成像对比度。提出了一种高NA无遮拦自由曲面EUVL物镜设计方法。...
关键词：物镜系统设计 几何光学设计 自由曲面 极紫外 
16 nm极紫外光刻物镜热变形对成像性能影响的研究被引量：8
《光学学报》2019年第1期427-434,共8页李艳秋 刘岩 刘丽辉 
国家科技重大专项(2012ZX02702001-002)
16 nm极紫外光刻(EUVL)物镜热变形是影响其高分辨成像的主要因素之一。为了给EUVL系统热管理提供可靠的技术依据,对数值孔径为0.33且满足16 nm技术节点的典型EUVL物镜进行热变形仿真研究。采用有限元软件ANSYS仿真曝光过程中反射镜的瞬...
关键词：光学设计 热变形 极紫外光刻 有限元分析 反射系统 成像性能 
光学元件狭缝柔性调节机构的设计与分析被引量：4
《中国光学》2017年第6期790-797,共8页董世则 郭抗 李显凌 陈华男 张德福 
国家科技重大专项(02专项)资助项目(No.2009ZX02205);国家自然科学基金资助项目(No.61504142)~~
设计了一种狭缝柔性结构的光学元件调节机构,使光学元件在具备较高调节精度的同时,保持较高的导向精度。采用弹性力学应力函数法分析了狭缝柔性结构的刚度,以径向刚度与轴向刚度的比值为目标函数,对狭缝柔性结构尺寸参数进行了优化,在...
关键词：光刻物镜 调节机构 狭缝柔性结构 刚度比 导向精度 
193nm投影光刻物镜光机系统关键技术研究进展被引量：11
《中国科学：技术科学》2017年第6期565-581,共17页张德福 李显凌 芮大为 李朋志 东立剑 张建国 
国家自然科学基金(批准号:61504142);国家科技重大专项基金(批准号:2009ZX02205)资助项目
结合双/多曝光的193nm投影光刻是未来5~10年大规模集成电路工业化生产的主要方法.投影物镜作为光刻机的核心分系统,其光机系统关键技术的研究进展直接影响物镜整体性能的提升.本文分析了当前集成电路装备制造业对193nm投影物镜的需求,...
关键词：集成电路 光刻 投影物镜 波像差 调节机构 主动光学 
组合倍率极紫外光刻物镜梯度膜设计被引量：1
《光学学报》2017年第8期280-287,共8页沈诗欢 李艳秋 姜家华 刘岩 刘克 刘丽辉 
国家科技重大专项;国家自然科学基金面上项目(61675026);国家自然科学基金重大科研仪器研制项目(11627808)
10nm以下光刻技术牵引极紫外(EUV)光刻物镜向超高数值孔径(NA)、组合倍率设计形式发展,物镜系统的入射角和入射角范围因此急剧增大,传统规整膜和横向梯度膜难以满足该类物镜系统反射率及像质要求。为此,提出了横纵梯度膜组合法,用横向...
关键词：光学设计 多层膜 反射系统 极紫外光刻 
光刻物镜热像差主动补偿系统设计与实验被引量：2
《光学学报》2017年第3期295-303,共9页东立剑 崔庆龙 李朋志 赵磊 
国家重大专项02专项(2009ZX02205);国家自然科学基金青年基金(61504142)
光刻物镜硅片刻蚀过程中的Z5像散会使光刻物镜波像差产生严重的劣化。为了对像散进行实时补偿,提出一种Z5像散主动补偿系统。该系统由实时数据平台、驱动力系统、柔性支撑结构和光学透镜构成。采用球面干涉仪作为光学透镜表面面形的检...
关键词：光学设计 光刻物镜 热像差 主动光学 像散 响应函数 
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