谢雁

作品数：12被引量：7H指数：2
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供职机构：青岛化工学院等离子体表面技术研究所更多>>
发文主题：PCVD等离子体化学气相沉积高速钢PCV更多>>
发文领域：金属学及工艺电子电信理学一般工业技术更多>>
发文期刊：《表面技术》《金属热处理》《青岛科技大学学报（自然科学版）》《真空》更多>>
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辅助加热PCVD-TiN薄膜的制备及影响因素
《青岛化工学院学报（自然科学版）》1998年第3期273-277,共5页彭红瑞 石玉龙 谢雁 李世直 赵程 
研究了反应气体对辅助加热ＰＣＶＤＴｉＮ薄膜制备的影响。结果表明，提高反应气体中ＴｉＣｌ４的含量可以提高薄膜的沉积速率，而且对薄膜内的氯含量没有影响。提高反应气体中的Ｖ（Ｈ２）／Ｖ（Ｎ２）可以略降低薄膜内的氯含量，在Ｖ...
关键词：辅助加热 PCVD TIN薄膜 薄膜 制备 
辅助加热PCVD-TiN薄膜的性能及结构分析被引量：2
《金属热处理》1998年第8期15-17,共3页彭红瑞 石玉龙 谢雁 李世直 赵程 
研究了反应气体对辅助加热ＰＣＶＤ－ＴｉＮ薄膜制备的影响。结果表明，提高反应气体中ＴｉＣｌ４的含量ＴｉＮ薄膜内的氯含量基本不变。提高反应气体中的Ｈ２／Ｎ２比可以略降低薄膜内的氯含量，在Ｈ２／Ｎ２＝２、ＴｉＣｌ４约为１０...
关键词：辅助加热 PCVD 反应气体 薄膜 氮化钛 高速钢 
PCVD-Ti(CNO)薄膜的制备及性能的研究被引量：1
《表面技术》1998年第5期11-13,共3页彭红瑞 石玉龙 谢雁 李世直 赵程 
研究了Ti(CN)薄膜内氧的作用.研究结果表明,Ti(CN)薄膜内加入氧后可以消除薄膜的柱状晶结构,薄膜的断口呈致密的纤维状组织.随着反应气体中空气或CO_2气体流量的增加,Ti(CNO)薄膜的硬度呈上升趋势,并在空气的流量为40ml/min或CO_2的流量...
关键词：PCVD 薄膜 等离子体沉积 钛 金属 涂层 
辅助外加热直流等离子体中放电参数的影响
《真空电子技术》1997年第3期11-13,共3页谢雁 赵程 李世直 
由于采用辅助外加热式离子轰击，减少了放电对放电工件形状、位置的影响，与单纯靠离子轰击放电加热时的放电电流及电压加以比较得出其优点所在。
关键词：等离子体 沉积 辅助加热 
辅助外加热方式直流等离子体化学气相沉积TiN的研究
《表面技术》1997年第3期18-20,共3页谢雁 赵程 李世直 
1 引 言 单纯靠离子轰击加热的直流等离子体化学沉积 TiN在刀具、刃具及各种耐磨工件上的应用已取得良 好的结果,就其工艺而言,由于影响离子轰击的因素 很多造成工艺参数控制复杂,重复性差,温度不均匀等缺点。90年代起本所开始采...
关键词：氮化钛 直流等离子体 化学气相沉积 喷镀 
等离子体化学气相沉积反应中对温度因素的控制被引量：1
《表面工程》1996年第4期26-28,共3页谢雁 赵程 彭红瑞 李世直 
国家计委"八五"攻关项目
采用了外加热式直流等离子体化学气相沉积及渗金属工艺并在放电工件上直接测温的方法，克服了高于轰击加热引起的温度不均匀等因素并且膜的结构及力学性能得以改善。
关键词：等离子体 化学气相沉积 放电 外加热 测温 离子轰击 
外加热式离子氮化高速钢的研究被引量：3
《真空》1996年第3期41-44,共4页谢雁 赵程 李世直 
用外加热方式在管状反应室中对高速钢试样进行离子氮化，对氮化层的厚度变化、表面硬度及冲击韧性随Ｈ２／Ｎ２、渗氮温度及时间的变化进行研究。
关键词：离子氮化 高速钢 外加热 热处理 渗氮 
射频等离子体化学气相沉积择优取向膜的研究
《真空电子技术》1996年第3期9-11,共3页谢雁 李世直 
用Ｘ－衍射的方法分析影响射频等离子体沉积择优取向的ＴＩＮ膜，取向的原因。
关键词：氮化钛膜 回摆曲线 择优取向 射频等离子体 
RF-PCVD沉积参数对TiN沉积速率的影响
《真空科学与技术》1995年第5期352-355,共4页谢雁 李世直 
用射频等离子体沉积TiN膜，对影响薄膜生长的因素作了研究。特别是H2，N2，TiCl4及射频功率、偏压对膜生长速率的影响进行了报导。
关键词：氮化钛膜 沉积速率 射频功率 
新型射频等离子化学气相沉积系统
《青岛化工学院学报（自然科学版）》1992年第1期51-55,共5页曲承林 谢雁 李世直 
国家自然科学基金
设计了一种射频电极作为基板支架的射频等离子体化学气相沉积系统.其温度可达700℃,负偏压是可调的.并以沉积的TiN膜的取向为例说明了系统的工作情况.
关键词：射频 等离子体 化学系统 气相沉积 
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