刘洪祥

作品数：11被引量：53H指数：5
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供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
发文主题：离子束溅射光学薄膜离子束溅射沉积介质保护膜蒸发舟更多>>
发文领域：理学电子电信一般工业技术机械工程更多>>
发文期刊：《光子学报》《强激光与粒子束》《光学仪器》《光电工程》更多>>
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缓冲层和保护层提高激光增透膜损伤阈值被引量：3
《光电工程》2016年第7期89-94,共6页张蕾 刘洪祥 陈光 高卫东 
为提高离子束溅射制备1 064 nm、532 nm双波长增透膜抗激光损伤阈值,分别在靠近基板、空气侧加镀一定厚度二氧化硅膜层,研究缓冲层、保护层对增透膜抗激光损伤阈值的影响。依据ISO21254-2损伤测试标准,测试不同膜系结构增透膜抗1 064 n...
关键词：缓冲层 保护层 激光增透膜 损伤阈值 
逆向热蒸发制备望远镜主镜银反射膜（英文）
《光子学报》2016年第6期117-122,共6页徐旭 刘洪祥 李斌成 裴文俊 
The National High Technology Research and the Development Program of China
以自上向下热蒸发大型镀膜机为实验平台,开展了逆向蒸发制备大口径银反射镜研究.通过设计特殊蒸发舟及优化相关工艺参数,实现了金属银膜稳定、高速向下蒸发.根据逆向热蒸发工艺特点,选取熔点低、升华型材料Cr和SiO及特殊设计的蒸发舟,...
关键词：薄膜 保护性银反射膜 向下热蒸发 SiOxNy保护层 环境稳定性 
大型天文望远镜主镜镀膜技术被引量：3
《强激光与粒子束》2012年第2期365-369,共5页杜维川 刘洪祥 裴文俊 王长军 
采取主镜镜面向上真空蒸镀制备方式,开展了大型天文望远镜主镜铝加介质保护反射膜技术研究。结合ZZS3200型镀膜设备真空室几何配置,对传统膜厚分布计算物理模型进行了修正,分别分析了铝膜与介质膜层膜厚均匀性。结果表明:理论分析与实...
关键词：均匀性 反射率 环境稳定性 主镜 镀膜 
离子束溅射淀积光学薄膜的膜厚均匀性实验被引量：6
《光电工程》2004年第B12期67-69,72,共4页李凌辉 熊胜明 申林 刘洪祥 张云洞 
国家 863 计划项目资助课题
介绍了离子束溅射技术改善薄膜均匀性的两种方法。研究了修正板技术,根据工程需要将修正板技术应用于行星转动条件下的光学薄膜的均匀性修正。分别研究了靶摆动和不摆动的情况下,淀积薄膜的均匀性修正。实验结果表明,修正后的均匀性结...
关键词：离子束溅射 Ta2O5薄膜 膜厚均匀性 修正板 
自动控制离子束溅射沉积光学薄膜系统设计被引量：4
《光学仪器》2004年第2期83-86,共4页刘洪祥 李凌辉 申林 熊胜明 张云洞 
利用射频离子源RF—2001控制器USERINTERFACE接口具有遥控开关控制的功能,采用继电器控制输出及开关量隔离输入卡DAC—7325E,通过光电传感器对靶转动定位、行星转动系统的监控,在国产IBSD—1000型离子束溅射镀膜系统上,首次成功地实现...
关键词：时间监控 光电传感器 自动控制 光学薄膜 离子束溅射 
双离子束溅射技术制备带通滤光片被引量：5
《光学仪器》2004年第2期87-90,共4页申林 熊胜明 刘洪祥 李凌辉 张云洞 
研究了采用双离子束溅射沉积技术、以沉积时间作为膜厚控制手段制备带通滤光片的工艺。简要介绍了离子束溅射系统的基本工作原理和膜厚控制技术,描述了分别在K9玻璃和有色玻璃上制备由多层Ta2O5和SiO2薄膜组成的滤光片以及短波通和长波...
关键词：双离子束溅射 制备 带通滤光片 沉积时间 膜厚控制 
时间监控离子束溅射沉积光学薄膜的厚度修正被引量：2
《光学仪器》2004年第2期91-94,共4页刘洪祥 李凌辉 申林 熊胜明 张云洞 
通过单层和多层膜的实验模拟,研究了离子束溅射沉积速率和沉积时间的关系。在溅射镀膜的初始阶段,对于Ta2O5,沉积速率随时间增加而增大;对于SiO2,沉积速率随时间先显著地增加,随后逐渐地减小。结果表明,通过对高、低折射率各层的监控时...
关键词：时间监控 离子束溅射 光学薄膜 厚度修正 多层膜 单层膜 
离子束溅射沉积Ta_2O_5光学薄膜的实验研究被引量：10
《光电工程》2004年第3期41-43,55,共4页刘洪祥 熊胜明 李凌辉 张云洞 
国家高技术激光技术领域资助项目
根据择优溅射的理论,在不同的通氧方式下,详细分析了离子辅助对离子束溅射沉积Ta2O5薄膜光学特性的影响。结果表明,在薄膜生长的过程中,由于氩离子的轰击作用,薄膜中的氧原子被优先溅射出来,造成了薄膜化学剂量比失调、吸收增加。但是,...
关键词：离子束溅射 光学薄膜 离子辅助沉积 光学特性 
氧化物激光薄膜的离子束溅射制备技术被引量：6
《强激光与粒子束》2003年第12期1175-1180,共6页申林 熊胜明 刘洪祥 李凌辉 张云洞 
国家863计划项目资助课题
　研究了由Ta2O5和SiO2组成的多层氧化物激光薄膜的双离子束溅射制备工艺。简要介绍了离子束溅射技术的基本工作原理和应用,着重分析了薄膜厚度均匀性的调控方法。先后得到了Ta2O5和SiO2单层薄膜厚度均匀性调控结果以及不同波长处薄膜...
关键词：离子束溅射 厚度均匀性 激光高反射薄膜 增透膜 
宽束离子源的均匀性分析被引量：4
《光电工程》2002年第5期59-61,共3页刘洪祥 张云洞 李凌辉 熊胜明 
国家863高技术项目资助
在离子束溅射和离子辅助沉积光学薄膜技术中,离子源是其中最关键的单元技术之一。通 过测试宽束离子源束流密度的空间分布,研究了影响离子束均匀性分布的两个主要因素:加速电压和E/B。结果表明,随着加速电压的增加,离子束束流密度的分...
关键词：离子束溅射 离子源 均匀性 光学薄膜 
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