刻蚀技术

作品数：130被引量：234H指数：8
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Ti6Al4V界面微形貌对细胞成骨行为影响及内在机制
《医用生物力学》2024年第S01期553-553,共1页张莹莹 范振敏 莫中军 宫赫 
国家自然科学基金项目,11902090
目的 植入材料表面微形貌被认为是影响成骨细胞行为、促进骨重建的重要因素。本研究进一步探索了植入材料表面微沟槽形貌对细胞形态、增殖和成骨分化的影响及其分子机制。方法 采用飞秒激光刻蚀技术在Ti6Al4V材料表面原位构建微结构,制...
关键词：植入材料 成骨分化 微结构材料 飞秒激光 成骨细胞 骨重建 刻蚀技术 细胞黏附 
微电子技术在MEMS系统中的应用
《集成电路应用》2024年第6期296-297,共2页刘潼 
阐述微电子技术具备性能好、精度高、能耗低的特点,探讨其在MEMS中的应用,包括在刻蚀技术、扩散技术、沉淀技术、固相键合技术、MEMS技术、LIGA工艺中的应用。
关键词：微电子技术 MEMS 刻蚀技术 扩散技术 
中国科学院微电子所在新型纳米环栅CMOS工艺与器件技术方面取得重要进展
《中国集成电路》2023年第11期95-95,共1页
近日,中国科学院微电子所先导中心殷华湘研究员团队基于主流GAA晶体管的制造工艺,在体硅衬底上通过调整SiGe/Si叠层外延中底部SiGe层的Ge含量,并在后栅沟道中采用纳米级高选择比SiGe层刻蚀技术,首次设计并制备出沟道结构类似鱼骨状的GA...
关键词：微电子所 刻蚀技术 中国科学院 器件技术 硅衬底 FET 纳米环 制造工艺 
低损伤碲镉汞长波红外焦平面探测器电极接触孔刻蚀技术研究
《红外》2023年第11期6-12,共7页李景峰 刘世光 宁提 刘铭 王丹 
长波碲镉汞材料受结构、组分等因素影响。在制备器件过程中,刻蚀电极接触孔易发生材料损伤,影响芯片的成像性能。利用现有电感耦合等离子体(InductivelyCoupledPlasma,ICP)设备刻蚀长波碲镉汞芯片电极接触孔,采用分步刻蚀以避免损伤。...
关键词：长波 碲镉汞 损伤 刻蚀技术 
激光直写导体刻蚀技术
《数字技术与应用》2023年第5期114-117,共4页张诚 赵越 刘凯 
紫外激光具有光波波长短、聚焦光斑尺寸小、对特定材料光能吸收率高、热区影响小等优势,采用紫外激光加工材料时可以获得很高的精度和质量,已引起微电子制造、航空航天等领域工程技术人员的高度重视。本文对紫外激光加工的影响因素进行...
关键词：激光加工 紫外激光 工程技术人员 树脂复合材料 微电子制造 光波波长 光化学反应 航空航天 
低损伤、高深宽比Ⅱ类超晶格材料的台面刻蚀技术研究
《红外》2023年第3期1-7,共7页李景峰 刘铭 李海燕 温涛 赵成城 王丹 
采用双色单铟柱结构的Ⅱ类超晶格红外探测器件在台面成型过程中加工难度大且易于产生损伤,影响器件的性能。针对此问题进行了低损伤、高深宽比Ⅱ类超晶格材料的台面刻蚀技术研究。首先建立一种损伤评判机制,判断现有工艺刻蚀后材料是否...
关键词：Ⅱ类超晶格 低损伤 刻蚀技术 
GaAs基VCSEL干法刻蚀技术研究综述被引量：1
《红外》2023年第2期24-34,共11页范昊轩 张文博 李沐泽 郝永芹 
国家自然科学基金项目(11474038);吉林省科技发展计划项目(20200401073GX)。
GaAs基垂直腔面发射激光器(Vertical-Cavity Surface-Emitting Laser,VCSEL)自1977年问世以来,凭借阈值电流较低、光束质量很高、可集成到二维阵列、易单模激射等优势被广泛应用于各个领域,但是其尺寸过小而在制造中难以精确控制精度、...
关键词：GAAS 垂直腔面发射激光器 干法刻蚀 选择性刻蚀 刻蚀损伤 
飞秒激光直写非阿贝尔三维光子芯片被引量：1
《科学通报》2022年第34期4041-4043,共3页祝世宁 
光子与电子相比具有高速率、低能耗、抗干扰等优势,以光子作为载体的集成光子芯片越来越受重视,成为后摩尔时代实现信息传输与处理的重要选项.当前,集成光子芯片在诸多材料体系中获得了广泛研究,包括硅基[1]、铌酸锂[2]、聚合物[3]等....
关键词：离子注入技术 芯片集成度 刻蚀技术 化学气相沉积技术 阿贝尔 铌酸锂 低能耗 抗干扰 
工大青年学者
《长春工业大学学报》2022年第6期F0003-F0003,共1页
李迎春1984年4月出生,工学博士,讲师,硕士生导师。长春工业大学机电工程学院系副主任,隶属于吉林省微纳与超精密制造重点实验室。先进光学制造青年专家委员会副秘书长。2014年毕业于吉林大学获工学博士学位,主要从事硬脆材料以及黑色金...
关键词：国家自然科学基金 博士学位 机电工程学院 硕士生导师 青年基金 重点实验室 刻蚀技术 硬脆材料 
面向原子级表面制造的等离子体诱导原子选择刻蚀技术被引量：4
《中国科学：技术科学》2022年第6期882-892,共11页张翊 吴兵 张临风 邓辉 
国家自然科学基金重点项目(批准号:52035009);国家自然科学基金青年科学基金项目(批准号:52005243)资助。
制造正从以经验技能为基础的制造Ⅰ和以经典理论为基础的制造Ⅱ迈向以量子理论为基础的制造Ⅲ.尽管制造的这三个范式出现在不同历史阶段,但它们将并存,甚至在未来可遇见的时期内,制造Ⅱ还依然起主导作用.其中制造Ⅲ的核心领域将是原子...
关键词：原子及近原子尺度制造 原子选择刻蚀 超精密加工 等离子体 
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