硅单晶片

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硅单晶片化学腐蚀坑深控制的研究
《电子工业专用设备》2019年第5期10-12,20,共4页刘娜 常耀辉 吕菲 刘洋 
介绍了硅单晶化学腐蚀片及其应用,指出了应用于TVS分立器件的硅衬底化学腐蚀片的表面质量要求,即要求硅腐蚀片坑深控制在3μm以下。研究了腐蚀前硅片的表面质量与化学腐蚀工艺对硅单晶化学腐蚀片表面质量的影响,并给出了满足衬底要求的...
关键词：硅单晶化学腐蚀片 研磨粒径 各项异性刻蚀 腐蚀坑深 
硅单晶片中的氧及对后续缺陷的影响被引量：3
《微电子学》2019年第1期140-145,共6页潘国刚 胡玮芳 何火军 
国家自然科学基金资助项目(61272315);浙江省科技厅国际合作项目(2017C3303);绍兴市2017年科技计划资助项目(2017B70070)
通过测量硅晶棒不同部位的氧含量,分析了氧在硅晶棒中的分布规律。结合高温氧化后的缺陷观察结果,研究了氧含量及后续高温生产工艺对硅晶体中缺陷数量的影响。对不同氧含量的两种硅单晶片所生产的功率集成电路进行了失效分析。结果表明...
关键词：硅单晶 氧含量 氧沉淀 缺陷 功率集成电路 
硅晶片电阻率测量技术的研究被引量：2
《电子工业专用设备》2018年第5期45-49,共5页秦伟亮 常耀辉 戚红英 窦连水 
分析了硅晶片电阻率测试的重要性并介绍了国内外常用的电阻率测试方法,并对使用最广泛的工艺检测手段-四探针技术的原理、测准条件及发展状况进行了详细的介绍。
关键词：硅单晶片 电阻率 四探针测试法 
GB/T 25076《太阳能电池用硅单晶》及GB/T 26071《太阳能电池用硅单晶片》标准解读被引量：3
《世界有色金属》2018年第18期165-167,共3页李素青 
太阳能级硅材料和硅片是制备太阳能电池的原材料,是全球光伏产业的基石。近些年来,单晶技术由于具备突出的转化效率和成本不断下降的趋势而备受业界青睐。本次标准修订正是基于硅单晶及硅片产品的技术进步和市场的变化,依托国内的主要...
关键词：硅单晶 太阳能电池 
异质外延用硅单晶片边缘质量控制技术研究
《中国电子科学研究院学报》2017年第6期632-635,共4页杨洪星 范红娜 刘玉岭 陶术鹤 何远东 
异质外延在LED、高性能光电集成电路(OEIC)等多种领域存在广泛应用。Si基衬底由于具有优良性能,广受关注。Si基衬底异质外延时,由于Si与异质外延层之间的晶格失配和热失配,一般需要在衬底上生长一层缓冲层,而后在缓冲层上生长异质外延层...
关键词：硅单晶 边缘质量 异质外延 倒角 半导体 
硅单晶片损伤层对抛光去除量的影响研究
《电子工艺技术》2015年第6期354-357,共4页王云彪 田原 杨召杰 郭亚坤 
硅单晶片是制作集成电路及分立器件的基础材料,随着集成电路不断向小线宽、低成本方向发展,对于硅单晶片的质量水平和成本控制提出了更高的要求。研究表面损伤层与抛光去除量的关系,能够有效控制抛光去除量的大小,对于提高抛光片表面质...
关键词：硅单晶片 恒定腐蚀法 损伤层 抛光去除量 
抛光垫使用寿命对硅单晶片抛光质量影响的研究被引量：4
《天津科技》2015年第12期18-19,23,共3页张春翔 陈亚楠 田原 杨召杰 付旸 
化学机械抛光技术已经在超大规模集成电路制造中得到广泛应用,主要用于加工超光滑无损伤的硅单晶衬底和对晶片进行局部和全局平坦化。虽然在化学机械抛光技术中影响硅片抛光效果的因素有很多,但抛光垫是影响抛光效果的关键因素之一。研...
关键词：化学机械抛光 抛光垫 抛光效果 
2015年2月起实施的国家标准
《大众标准化》2015年第2期88-91,共4页
关键词：GB 信息技术 工业自动化产品 食品包装用纸板 工业电热 硅单晶片 软件工程 纺织面料 厚度变化 可信计算平台 通用技术 玻璃纤维增强塑料 玻璃钢 玻璃纤维增强复合材料 应用软件系统 月起 
硅单晶片的激光标识技术研究被引量：3
《电子工业专用设备》2011年第10期41-44,共4页于妍 张殿朝 杨洪星 
介绍了激光打标机的工作原理,并采用波长为1064 nm的光纤型激光打标机在硅单晶片上制作标识码。通过研究激光功率对打标深度的影响,确定了合适的激光打标功率为激光器总功率的50%～90%,同时,通过对激光标识码的位置进行了分析,确定了合...
关键词：硅单晶 激光加工 激光标识 
有机胺碱对硅粗抛光及表面微形貌的影响
《微纳电子技术》2011年第11期749-752,共4页王娜 刘玉岭 孙鸣 杨立兵 高净 刘利宾 
国家中长期科技发展规划02科技重大专项(2009ZX02308)
硅单晶抛光片是极大规模集成电路应用最广泛的衬底材料,抛光液为影响硅单晶片抛光最关键的因素。通过改变抛光液中有机胺碱配比来调节抛光液的pH值。实验结果表明:随着有机胺碱比例的不断增加,pH值随之上升,硅片的去除速率(material rem...
关键词：硅单晶片 有机胺碱 抛光液 抛光速率 表面粗糙度 
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